梁 旭 ,劉艷俠,趙永祥 ,蔣元力,魏靈朝
(1.河南能源化工集團(tuán)研究院有限公司,河南 鄭州 450046;
2.山西大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院,精細(xì)化學(xué)品教育部工程研究中心,山西 太原 03006)
鎳基催化劑是作為常用的經(jīng)典催化劑,具有催化活性高、穩(wěn)定性好和價(jià)格較低等優(yōu)點(diǎn),已被廣泛應(yīng)用于烴類重整、加氫、脫氫、氧化脫鹵、脫硫等轉(zhuǎn)化過程。而氧化鋁由于具有抗破碎強(qiáng)度高,比表面適中,孔徑與孔率大小可調(diào)節(jié),吸水性好,可以擔(dān)載足夠量的活性組分,既可提供酸性中心,又可提供堿性中心,因此,Ni/γ-Al2O3催化劑體系成為化工反應(yīng)領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。隨著基礎(chǔ)理論研究的深入,人們對(duì)該催化體系的催化機(jī)理和催化作用有了更透徹的認(rèn)識(shí)。在研究單一Ni/Al2O3催化體系的同時(shí)也在不斷探索相關(guān)復(fù)合體系的性能,如助劑及復(fù)合載體等不同催化領(lǐng)域的性能影響等,科研工作者在研究助劑(如 Fe、Mn、Mo 等[1-2])對(duì)活性組分鎳在氧化鋁載體表面存在狀態(tài)及與載體相互作用影響方面做了大量的工作,也考察了調(diào)變不同氧化鋁表面性質(zhì)對(duì)該催化體系的影響,認(rèn)為活性氧化鋁的表面性質(zhì)對(duì)催化劑的性能有著至關(guān)重要的影響[3-5]。研究載體的表面性質(zhì)對(duì)負(fù)載活性的影響一直是個(gè)熱點(diǎn),這是因?yàn)楸砻嫘再|(zhì)不僅影響活性組分在其表面的分布,有時(shí)還會(huì)對(duì)催化劑的性能具有決定性的影響。
我們前期工作嘗試在氧化鋁載體成型過程中引入硅源,通過硅含量來調(diào)變氧化鋁表面的酸性,進(jìn)而考察氧化鋁表面酸性對(duì)負(fù)載鎳基催化劑物性的影響,得到一些有規(guī)律的研究結(jié)果。硅的加入可以改變氧化鋁表面的羥基構(gòu)型及數(shù)目,且Si4+為高度缺電子結(jié)構(gòu)。因此,可以根據(jù)實(shí)際需要改變硅的加入量來調(diào)控氧化鋁表面的酸性類型和酸中心數(shù)目,從而調(diào)變金屬組分在氧化鋁載體表面的分散狀態(tài)和分散性質(zhì)。本文采用浸漬法和混捏法在氧化鋁中引入硅源,考察引入方式對(duì)氧化鋁表面性質(zhì)及活性組分鎳在其表面的分布等的影響,以便可以根據(jù)催化劑活性需要,選用不同的摻雜方式調(diào)變載體表面性質(zhì),對(duì)指導(dǎo)催化劑設(shè)計(jì)和制備具有重要意義。
擬薄水鋁石粉,工業(yè)級(jí),天津化工研究院;硝酸鎳,AR,天津天泰精細(xì)化學(xué)品有限公司;正硅酸乙酯,AR,天津天泰精細(xì)化學(xué)品有限公司;硝酸,AR,天津天泰精細(xì)化學(xué)品有限公司;田菁粉,工業(yè)級(jí),江蘇省響水縣宏潤(rùn)植物膠有限公司。單螺桿自動(dòng)壓料擠條機(jī),山東淄博悅誠(chéng)機(jī)械有限公司;LM 412.27馬弗爐,德國(guó)Linn High Therm;HG-9145A型烘箱,上海一恒科技有限公司。
載體及催化劑制備見文獻(xiàn)[6]。硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)均為2%,鎳負(fù)載質(zhì)量分?jǐn)?shù)均為10%。
混捏法制備載體編號(hào)為A1,相應(yīng)催化劑編號(hào)為C1;浸漬法制備載體編號(hào)為A2,相應(yīng)催化劑編號(hào)為C2。
低溫氮?dú)馕皆诿绹?guó)麥克公司 Micromeritics ASAP-2020型全自動(dòng)比表面積、孔徑測(cè)試儀測(cè)定,由BET方程計(jì)算樣品的比表面積,BJH方法獲得樣品的孔徑分布。
氨吸附在AutoChem II 2920 V3.05裝置上進(jìn)行,稱取30mg樣品,在He流速50mL/min下,以15℃/min升溫至 600℃處理 20min,然后降溫至50℃,吸附氨氣30min,然后在He氣氛下吹掃30min,待基線平穩(wěn)后,在He流速30mL/min條件下,以10℃/min的速率升溫至550℃進(jìn)行脫附。
程序升溫還原(H2-TPR)在LabnowCAS 5110測(cè)定,取粒徑0.28mm~0.45mm催化劑0.05g裝入樣品管中,通氮?dú)?50℃處理30min,切換H2/N2混合氣(φ(H2)=5%),流速 30mL/min,基線平穩(wěn)后,以 β=10℃/min從150℃升溫至800℃,采用熱導(dǎo)池檢測(cè)。
X射線粉末衍射(XRD)分析樣品物相結(jié)構(gòu)在日本理學(xué)Rigaku公司D/max-2500型X射線粉末衍射儀上進(jìn)行分析,采用Cu Kα射線 (λ=0.1540 nm), 掃描范圍 10°~90°, 掃描步長(zhǎng) 0.1°, 管電壓40kV,管電流100mA。
紫外可見(UV-vis)用美國(guó)PE公司生產(chǎn)的Biol-140型紫外光譜儀進(jìn)行,掃描速度600nm/min,記錄360~800nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)漫反射譜。
硅摻雜氧化鋁的物化性能參數(shù)見表1。由表可知,與A1相比,A2的比表面積略小,可能是由于氧化鋁一次浸漬正硅酸乙酯的乙醇溶液后,SiO2在其表面分布沉積,導(dǎo)致載體比表面積下降;兩個(gè)樣品的孔容和平均孔徑相差不大,平均孔直徑在9nm左右,說明少量硅的引入對(duì)氧化鋁的孔結(jié)構(gòu)影響不大,沒有改變其孔道結(jié)構(gòu)。
表1 硅摻雜Al2O3的結(jié)構(gòu)參數(shù)
硅摻雜氧化鋁的NH3-TPD圖見圖1。由圖可知,樣品A1在210℃和370℃左右出現(xiàn)兩個(gè)NH3脫附峰,說明A1表面存在兩種酸性中心,前者對(duì)應(yīng)于弱酸性中心,后者對(duì)應(yīng)于中強(qiáng)酸性中心。而樣品A2在125℃~350℃范圍內(nèi)出現(xiàn)一寬化的NH3脫附峰,說明其表面酸性類型較復(fù)雜,既有弱酸中心又有中強(qiáng)酸中心存在,由于不同脫附溫度區(qū)代表了不同酸強(qiáng)度的酸性中心,A1的脫附峰溫度高于A2,因此其酸性強(qiáng)于A2酸性。結(jié)合積分面積可以看出,硅的引入方式對(duì)酸強(qiáng)度及酸量產(chǎn)生了顯著影響,混捏法摻雜氧化鋁的酸性強(qiáng)于浸漬法硅摻雜氧化鋁,主要體現(xiàn)在弱酸和中強(qiáng)酸酸量的增多,主要原因可能由于混捏法摻雜后,SiO4四面體與AlO4四面體通過氧原子連接,SiO4四面體中Si是4價(jià),在AlO4四面體中Al是3價(jià),Si取代AlO4中Al的位置后為了保持電中性,必須失去一個(gè)正電荷,于是就需要一個(gè)質(zhì)子補(bǔ)充這個(gè)失去的正電荷,從而形成B酸中心,而暴露在表面配位不足的Si及不飽和配位的Al構(gòu)成L酸中心[7]。浸漬法引入硅后,在氧化鋁表面形成一層SiO2,不會(huì)改變氧化鋁的四面體配位和八面體配位結(jié)構(gòu),純Al2O3只有 L酸中心[8],酸性較 SiO2酸性強(qiáng),因而制備Al2O3的酸性也較強(qiáng)。另外A1的比表面積較大,提高了表面酸性中心數(shù)量,增強(qiáng)了對(duì)NH3的吸附能力,導(dǎo)致NH3脫附峰面積增大[9],因而酸性較強(qiáng)。
圖1 硅摻雜Al2O3的NH3-TPD圖
催化劑的XRD曲線見圖2,可以看出,兩個(gè)催化劑中都沒有觀察到SiO2衍射峰的存在,可能是由于硅的加入量較少,質(zhì)量分?jǐn)?shù)只有2%,XRD檢測(cè)不到。C1催化劑僅有γ-Al2O3特征衍射峰出現(xiàn),說明NiO在載體表面呈高度分散狀態(tài),檢測(cè)不到晶相NiO的衍射峰[10];而C2催化劑除出現(xiàn)γ-Al2O3的特征衍射峰外, 在 37.3°,43.3°和 62.9°處出現(xiàn)了晶相NiO的特征衍射峰。這是由于氧化鋁表面上部分空位被Si4+離子占據(jù),導(dǎo)致進(jìn)入八面體空位的Ni2+離子數(shù)量減少,因此浸漬法摻雜的Al2O3載體的單層分散量較混捏法摻雜的載體降低[11]。與C2催化劑相比,C1催化劑中的γ-Al2O3晶面311的特征衍射峰強(qiáng)度比晶面400的衍射峰強(qiáng),這是由于NiO晶面111的特征衍射峰和γ-Al2O3晶面311的特征衍射峰重合,導(dǎo)致C2中γ-Al2O3晶面311的衍射峰增強(qiáng)的緣故。XRD圖顯示,C2的NiO晶面衍射峰較為寬化,說明NiO晶粒較小,以微晶形式存在。
圖2 NiO/Al2O3的XRD圖
Hercules等[8]研究認(rèn)為NiO在γ-Al2O3存在3種形態(tài):晶相NiO和分別處于表面氧六配位及四配位環(huán)境中而形成計(jì)量 (或非計(jì)量)表面尖晶石NiAl2O4。圖3催化劑的紫外-可見譜圖顯示,由于載體不同樣品的紫外吸收差別較大,2個(gè)催化劑樣品在590nm處幾乎沒有振動(dòng)吸收峰出現(xiàn),說明在四面體空位中沒有Ni2+存在[12];410nm處的特征振動(dòng)吸收峰為八面體空位的Nio2+振動(dòng)吸收[13],C1催化劑的Nio2+譜帶強(qiáng)度大于C2,而C2催化劑720nm處晶相NiO[14]的特征振動(dòng)譜帶強(qiáng)度明顯大于C1催化劑,說明在C1催化劑中Ni2+主要分布八面體空位中,有極少量晶相NiO的存在;而C2催化劑中由于載體單層分散量較小,相同Ni負(fù)載量時(shí),進(jìn)入Al配位中心的較少,NiO多以微晶形態(tài)存在,紫外-可見譜圖與XRD圖結(jié)果一致。
圖3 催化劑的UV-vis圖
圖4是NiO/Al2O3樣品TPR圖。由圖可知,C1催化劑在320℃和580℃左右出現(xiàn)兩個(gè)還原峰,說明存在兩種類型的NiO;而C2催化劑出現(xiàn)3個(gè)還原耗氫峰,除在583℃附近出現(xiàn)一大的還原耗氫峰外,在與C1催化劑低溫還原峰相同位置的兩側(cè)出現(xiàn)一個(gè)更低溫度257℃處的還原峰和391℃處的還原峰,說明NiO在載體表面存在3種形態(tài)。對(duì)比兩個(gè)催化劑的TPR譜圖,發(fā)現(xiàn)C2催化劑的還原耗氫峰整體向低溫區(qū)移動(dòng)。
Rynkowski等[15-16]研究認(rèn)為,由于NiO與γ-Al2O3之間的相互作用,NiO在其表面可能以3種狀態(tài)存在,可分別表示為自由的、分散的和固定的NiO。結(jié)合UV-vis和XRD譜圖可知,C2催化劑580℃附近的還原耗氫峰應(yīng)為八面體配位的NiO,390℃的還原峰為分散態(tài)的NiO,而257℃的還原耗氫峰應(yīng)為自由態(tài)的NiO。在C1催化劑上只有分散態(tài)(320℃處的還原峰)和八面體結(jié)合的NiO(580℃處的還原峰)存在??赡苁怯捎贑2催化劑的部分八面體空位已經(jīng)被先浸漬的Si4+離子占據(jù)[11],導(dǎo)致進(jìn)入八面體空位的Ni2+離子數(shù)量減少,因而改變了活性組分在載體表面的存在形態(tài)。
圖4 NiO/Al2O3的H2-TPR圖
(1)兩種不同摻雜方式對(duì)氧化鋁孔結(jié)構(gòu)影響較小,但對(duì)表面性質(zhì)影響很大,采用混捏法在氧化鋁中摻雜硅,氧化鋁的晶格結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,酸性增強(qiáng),而浸漬法摻雜的氧化鋁在其表面包覆一層二氧化硅,酸性減弱。
(2)以混捏法摻雜硅制備的負(fù)載鎳催化劑,氧化鎳主要存在于載體晶格中,氧化鋁載體與氧化鎳之間相互作用強(qiáng),導(dǎo)致還原峰溫度向高溫區(qū)移動(dòng),可還原度降低;而浸漬法摻雜硅后,由于先浸漬的SiO2優(yōu)先進(jìn)入氧化鋁晶格,導(dǎo)致氧化鎳在其表面的單層負(fù)載量下降,使負(fù)載的氧化鎳存在形態(tài)發(fā)生變化,氧化鋁與氧化鎳之間的相互作用減弱,與載體作用較弱的氧化鎳增多,可還原度提高。
(3)在催化劑設(shè)計(jì)及制備過程中,可根據(jù)鎳基催化劑應(yīng)用體系選擇不同的摻雜方式和摻雜量,調(diào)變氧化鋁載體的表面性質(zhì),控制鎳基催化劑的活性分布和使用溫度,得到最適宜的催化劑配方。
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