線寬
- 銅箔類型對(duì)高速PCB線寬蝕刻精度的影響研究
的計(jì)算公式可知，線寬是影響阻抗的重要因素之一。當(dāng)走線寬度變化0.025 mm 時(shí)，阻抗將變化5～6 Ω。在實(shí)際的PCB 制造中，如果選擇銅厚18 μm 的銅箔作為信號(hào)平面控制阻抗，則允許的走線寬度公差為±0.015 mm。如果選擇銅厚35 μm的銅箔作為信號(hào)平面控制阻抗，則允許的走線寬度公差為±0.030 mm。線寬過寬或過窄，會(huì)導(dǎo)致線路的實(shí)際阻抗與期望值不同，阻抗不匹配又會(huì)導(dǎo)致傳輸線上任何不連續(xù)處的信號(hào)反射。這些反射會(huì)干擾原始信號(hào)，并導(dǎo)致信號(hào)完整性下降。
印制電路信息 2023年9期2023-09-25
- 導(dǎo)線間距變化對(duì)阻抗的影響探討
板上分別設(shè)計(jì)不同線寬大小、不同的線到銅間距的阻抗，測試驗(yàn)證各種線寬下，線到銅間距的變化對(duì)阻抗的影響。通常情況下，阻抗線到銅間距設(shè)計(jì)為0.50 mm。不同線到銅間距的阻抗量測數(shù)據(jù)見表2。表2 不同線到銅間距的阻抗量測數(shù)據(jù)3.1.1 驗(yàn)證分析①隨著線到銅的距離變大，對(duì)應(yīng)的阻抗也不斷變大，當(dāng)線到銅距離變大到一定程度時(shí)，阻抗基本不變。② 線寬≤0.175 mm 的阻抗，線到銅的距離是線寬的3 倍（約0.50 mm）以上時(shí)，阻抗基本不變；線到銅的距離是線寬的2 倍以
印制電路信息 2023年9期2023-09-25
- 基于平移差分的微結(jié)構(gòu)線寬顯微測量方法
寸主要包括深度、線寬和側(cè)壁角等。對(duì)于微電子機(jī)械系統(tǒng)（Micro-Electro-Mechanical System，MEMS）［1］、印制電路板［2］等具有的溝槽型結(jié)構(gòu)，線寬一般為具有階躍邊緣的結(jié)構(gòu)頂部最小幾何特征尺寸，其尺度覆蓋數(shù)微米至幾十微米范圍。在微電子機(jī)械系統(tǒng)中，線寬誤差將導(dǎo)致MEMS器件靈敏度下降，穩(wěn)定性降低，影響產(chǎn)品性能；在印制電路板中，線寬是保證電路連接可靠性、阻抗板阻抗值滿足要求的關(guān)鍵。因此，線寬作為微結(jié)構(gòu)器件的關(guān)鍵指標(biāo)之一，對(duì)微米尺度的線
光子學(xué)報(bào) 2023年2期2023-03-06
- 1550 nm高功率窄線寬光纖放大器的特性研究
00)0 引言窄線寬光纖放大器具有可靠性高、壽命長、小型化、模塊化、價(jià)格低、使用及維護(hù)方便等優(yōu)點(diǎn)，在整機(jī)系統(tǒng)中與固體激光器和氣體激光器相比具有較大優(yōu)勢.因此在激光雷達(dá)、激光測距、光電傳感等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用[1-5].對(duì)于激光雷達(dá)系統(tǒng)來說，激光器的輸出穩(wěn)定度直接決定系統(tǒng)的功能和性能，其輸出能量和線寬分別決定了雷達(dá)系統(tǒng)的探測距離和探測精度，是激光器的重要指標(biāo)之一.隨著泵浦激光二極管和摻雜光纖技術(shù)的進(jìn)步，窄線寬光纖放大器的輸出功率和光-光轉(zhuǎn)換效率都得到了較大提升
南陽師范學(xué)院學(xué)報(bào) 2022年6期2023-01-17
- 減成法工藝下非電鍍線路的精準(zhǔn)加工方法
路寬度（以下簡稱線寬）[2]。在理想的情況下，只要把線寬做到與客戶所設(shè)計(jì)的一致，就能達(dá)到阻抗的精準(zhǔn)控制，但是在實(shí)際生產(chǎn)的情況下，線寬受非常多的因素影響，所以要把線寬做到與客戶所設(shè)計(jì)的完全一致是一件非常具有挑戰(zhàn)性的事情。因此，本文以公司內(nèi)部的實(shí)際情況為例，探討了非電鍍層18 μm（0.5 oz）高精準(zhǔn)度線路的加工方法。1 實(shí)驗(yàn)部分1.1 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)處理說明本文中的線寬精準(zhǔn)度用過程能力指數(shù)（Process capability index，Cpk）表示，其計(jì)算方
印制電路信息 2022年11期2022-11-30
- 倒Y 型四能級(jí)系統(tǒng)中吸收譜線的窄化極限研究*
探測光吸收譜線的線寬窄化極限.發(fā)現(xiàn)得益于中間激發(fā)態(tài)與另一超精細(xì)基態(tài)之間施加的第三束控制光,線寬窄化極限的限制條件轉(zhuǎn)變?yōu)閮蓚€(gè)基態(tài)能級(jí)之間的相干衰減率,而非基態(tài)與高激發(fā)態(tài)之間.與傳統(tǒng)的梯型結(jié)構(gòu)相比,吸收光譜線寬的窄化極限能夠提高2 個(gè)數(shù)量級(jí).研究表明,通過適當(dāng)調(diào)節(jié)這束控制光的拉比頻率和失諧量,可以獲得兼具超窄線寬和高對(duì)比度的吸收光譜信號(hào).數(shù)值計(jì)算結(jié)果與理論分析完全相符.此外,還討論了吸收譜線對(duì)光場的響應(yīng)規(guī)律和多普勒效應(yīng)的影響.對(duì)原子熱運(yùn)動(dòng)的研究發(fā)現(xiàn),倒Y 模型
物理學(xué)報(bào) 2022年19期2022-10-16
- 窄線寬激光器技術(shù)及進(jìn)展（特邀）
光波長、功率以及線寬等參數(shù)性能不斷提升，推動(dòng)了制造業(yè)、生命科學(xué)、信息技術(shù)、科學(xué)研究和國防等領(lǐng)域的快速發(fā)展［3-7］。其中，激光線寬是決定激光相干性的關(guān)鍵因素，一直是科學(xué)家們研究激光技術(shù)的重點(diǎn)。激光線寬存在的本質(zhì)在于激光運(yùn)轉(zhuǎn)過程中會(huì)受到增益介質(zhì)中自發(fā)輻射引起的相位和強(qiáng)度擾動(dòng)影響，使得激光輸出信號(hào)的頻率存在高斯白噪聲，從而引起激光譜線呈現(xiàn)洛倫茲線型的本征展寬［8-10］。此外，激光器也容易受到外部環(huán)境中溫度變化和振動(dòng)帶來的經(jīng)典噪聲的影響，進(jìn)一步拓寬了激光線寬。
光子學(xué)報(bào) 2022年8期2022-09-23
- 印制板制造中量化蝕刻研究
是線路寬度（簡稱線寬）和介質(zhì)層厚度（簡稱介厚）[4]-[9]。在理想的情況下，只要把線路寬度和介質(zhì)層厚度做到與客戶所設(shè)計(jì)的一致，就能達(dá)到阻抗匹配的目的，但是在實(shí)際生產(chǎn)的情況下，要把線路寬度和介質(zhì)層厚度做到與客戶所設(shè)計(jì)的一致是一件非常具有挑戰(zhàn)性的事情。目前，行業(yè)內(nèi)大多是通過控制蝕刻首件的線路寬度來控制批量件的線寬[9]-[14]，其管控的首件線寬公差通常為客戶設(shè)計(jì)線寬值±5%到±10%，一般做1到3次首件才能達(dá)到管控要求，而以此首件參數(shù)加工的批量件線寬分布可
印制電路信息 2022年6期2022-08-03
- 線性圖標(biāo)內(nèi)部特征對(duì)視覺搜索的影響機(jī)理
式[2]，圖標(biāo)的線寬是已知會(huì)影響其易讀性的關(guān)鍵變量[3]，但這種變量對(duì)視覺搜索效率的影響機(jī)理尚不明確。眾多學(xué)者研究圖標(biāo)類型對(duì)圖標(biāo)易讀性的影響機(jī)制，但學(xué)界對(duì)于線性圖標(biāo)的內(nèi)部特征及其影響機(jī)理鮮有研究。Lin等[4]通過置換和組合，以線性、面性圖標(biāo)以及正負(fù)背景的6種組合形式作為素材，研究捕獲注意的最佳呈現(xiàn)方式。胡瑩[5]以線性圖標(biāo)和面性圖標(biāo)兩種不同的圖標(biāo)類型，探究其對(duì)視覺注意力和舒適度的影響機(jī)理，結(jié)果表明，圖標(biāo)的邊框形狀能從不同程度上捕獲視覺注意，但其實(shí)驗(yàn)限定了
科學(xué)技術(shù)與工程 2022年18期2022-07-23
- 基于半導(dǎo)體激光器窄線寬光子微波信號(hào)獲取
波信號(hào)具有較大的線寬，這將影響P1微波信號(hào)的實(shí)際應(yīng)用[12-14]。因此，如何降低P1微波線寬是一個(gè)亟待解決的問題。目前，關(guān)于P1微波線寬窄化的研究已經(jīng)有一些報(bào)道[15-20]。例如，JI和XUE等人在一個(gè)光注入下的垂直腔面發(fā)射激光器中引入了兩個(gè)光反饋環(huán)路來降低產(chǎn)生的P1微波信號(hào)的線寬，通過恰當(dāng)調(diào)節(jié)兩個(gè)環(huán)的反饋參量，微波線寬至少能降低兩個(gè)數(shù)量級(jí)[16-17]。SIMPSON等人在一個(gè)光注入下的分布式反饋(distributed feedback，DFB)激
激光技術(shù) 2022年4期2022-07-11
- NiFe-YIG顆粒膜中鐵磁共振線寬的角度依賴性*
磁共振(FMR)線寬對(duì)基礎(chǔ)理論研究和高頻應(yīng)用都有重要的意義。一般對(duì)于磁性薄膜來說，對(duì)FMR線寬的貢獻(xiàn)包括本征效應(yīng)和非本征效應(yīng)，本征效應(yīng)為吉爾伯特阻尼，它起源于自旋軌道弛豫和磁振子-聲子的相互作用；非本征效應(yīng)包括非均勻展寬、雙磁子散射及鑲嵌效應(yīng)導(dǎo)致的線寬展寬，非均勻效應(yīng)展寬是與頻率無關(guān)的；雙磁子散射效應(yīng)指的是波矢為0的鐵磁共振模式被激發(fā)為波矢不為0的自旋波模式，一般是由薄膜內(nèi)部的短程缺陷激發(fā)；鑲嵌效應(yīng)則一般由長程缺陷激發(fā)[1-9]。本文主要通過鐵磁共振面外轉(zhuǎn)
功能材料 2022年6期2022-07-08
- 生產(chǎn)過程中的PCB線寬分析研究
加、器件的密集、線寬線距細(xì)化等[1]。相應(yīng)的，PCB生產(chǎn)制作的安全可靠性要求也越來越高，PCB線寬的保證是電路連接可靠性、阻抗板阻抗值滿足要求的關(guān)鍵。為了更好地控制實(shí)際生產(chǎn)線寬、提前進(jìn)行線寬工藝補(bǔ)償，為生產(chǎn)提供理論指導(dǎo)，在印制板生產(chǎn)過程中，研究各工序?qū)?span id="j5i0abt0b" class="hl">線寬的生產(chǎn)加工能力、建立各工序?qū)?span id="j5i0abt0b" class="hl">線寬生產(chǎn)的影響關(guān)系十分必要[2]。PCB生產(chǎn)過程中影響線寬變化的主要工序有工程前處理、光繪、圖形轉(zhuǎn)移和蝕刻[3]。本文分別從該4道工序出發(fā)，研究其對(duì)線寬的影響關(guān)系。1 工程處理
科技與創(chuàng)新 2022年11期2022-06-13
- 回音壁微腔激光器噪聲特性數(shù)值模擬研究（特邀）
［1］。而激光的線寬，即激光單模光譜的半高全寬，可以由頻率噪聲譜低頻處的頻率噪聲確定。在光纖通信中，通信系統(tǒng)的容量與光源的譜寬成反比［6］。在相干光通信中，采用窄線寬光源可以降低誤碼率［7］，而相干探測器和高分辨率光譜也要求使用窄線寬的激光器［8-9］。但是實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，除非采取額外措施，半導(dǎo)體激光器的線寬通常大于1 MHz，這比大多數(shù)相干通信系統(tǒng)所需要的線寬要寬［1］。因此，實(shí)現(xiàn)窄線寬半導(dǎo)體激光器也是當(dāng)下研究的重點(diǎn)。為了能夠數(shù)值分析半導(dǎo)體激光器的噪聲與線
光子學(xué)報(bào) 2022年2期2022-03-24
- 高速印制電路板外層蝕刻線寬均勻性提升探討
度的發(fā)展，對(duì)蝕刻線寬均勻性能力提出較高挑戰(zhàn)。其表現(xiàn)在存儲(chǔ)器、高端路由器、高端服務(wù)器等為代表的產(chǎn)品,阻抗控制到±8%，甚至更低，這對(duì)PCB線寬能力要求必須達(dá)到±8.89 μm，Cpk≥1.33，其阻抗才能滿足±8%要求。但當(dāng)前有些蝕刻線設(shè)計(jì)水平在10年前，蝕刻段設(shè)計(jì)噴嘴類型和排布設(shè)計(jì)比較單一，不適合高速PCB的密集線路的生產(chǎn)。本文從實(shí)際生產(chǎn)PCB外層板（標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)銅厚55 μm，線路101.6 μm/101.6 μm）過程中遇到的線寬均勻性問題，經(jīng)模擬驗(yàn)證，在
印制電路信息 2022年2期2022-02-25
- 基于真空蝕刻線的外層蝕刻模型建立
外層蝕刻參數(shù)以及線寬調(diào)整依賴員工經(jīng)驗(yàn)，未能基于產(chǎn)品類型的變化適時(shí)調(diào)整。因此，充分了解和掌握蝕刻液中的蝕刻機(jī)理，并通過嚴(yán)格的實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，測定出不同銅厚規(guī)格對(duì)應(yīng)的工藝參數(shù)，并能夠精準(zhǔn)量化各變量帶來的影響，才能更好地把控外層蝕刻這一關(guān)鍵工序。2 機(jī)理分析及蝕刻模型建立2.1 機(jī)理分析真空蝕刻線為水平傳送線，采用上下噴淋蝕刻液的方式完成蝕刻過程，并通過板件上方負(fù)壓口抽去表面藥水而減少了水池效應(yīng)的發(fā)生，具有良好的蝕刻均一性。通常真空蝕刻采用酸性氯化銅蝕刻藥水。在傳統(tǒng)認(rèn)
印制電路信息 2022年12期2022-02-08
- 基于多層膜沉積的循跡式線寬標(biāo)準(zhǔn)樣片
即為芯片上的最小線寬，也稱為關(guān)鍵尺寸。隨著器件特征尺寸進(jìn)入納米量級(jí)，關(guān)鍵尺寸不斷縮小，目前在微電子領(lǐng)域，混合電路工藝制程中，最小線條已經(jīng)達(dá)到100 nm以內(nèi)；而大規(guī)模集成電路的工藝制程中，最小線條尺寸已經(jīng)達(dá)到 50 nm 以內(nèi)[1]。這就使得工藝加工過程中的允許公差相應(yīng)減小，對(duì)線寬測量范圍和精度要求也不斷提高。關(guān)鍵尺寸測量儀器，主要用于觀察、分析在微米或納米范圍內(nèi)所發(fā)生的物理、化學(xué)現(xiàn)象和相關(guān)參量的準(zhǔn)確測量[2]。在微電子行業(yè)中，其最直接的應(yīng)用是解決芯片制造
計(jì)量學(xué)報(bào) 2022年12期2022-02-02
- 795 nm 亞波長光柵耦合腔垂直腔面發(fā)射激光器的超窄線寬特性*
方法對(duì)多光腔耦合線寬壓窄機(jī)制和影響因素進(jìn)行了詳細(xì)分析,研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)光子在多耦合腔中進(jìn)行諧振時(shí),通過合理設(shè)計(jì)光柵耦合腔參數(shù),精確調(diào)控激光器多耦合腔相位匹配,極大地促進(jìn)了光譜線寬共振壓窄效應(yīng),并最終獲得了高光束質(zhì)量795 nm VCSEL 激光器的超窄線寬輸出.理論結(jié)果表明,當(dāng)耦合腔間隔層厚度為180 nm 時(shí),反射光譜冷腔線寬Δλc 可以達(dá)到7 pm,為實(shí)現(xiàn)VCSEL 激光器kHz 量級(jí)光譜線寬輸出奠定了理論基礎(chǔ).1 引言隨著大數(shù)據(jù)時(shí)代的來臨,光網(wǎng)絡(luò)信息處理
物理學(xué)報(bào) 2021年22期2021-12-09
- 納米級(jí)線寬標(biāo)準(zhǔn)樣片的設(shè)計(jì)與制備*
是使用單一線條的線寬標(biāo)準(zhǔn)樣片來校準(zhǔn)相關(guān)儀器，線寬標(biāo)準(zhǔn)樣片的標(biāo)稱值從25nm～1000nm［4～6］。以掃描電子顯微鏡為例，其放大倍數(shù)從幾十倍到幾十萬倍，線寬標(biāo)準(zhǔn)樣片可實(shí)現(xiàn)掃描電子顯微鏡最大放大倍數(shù)下的量值校準(zhǔn)，確保儀器的測量準(zhǔn)確度。然而，線寬標(biāo)準(zhǔn)樣片是單一線條的樣片，即在一塊厘米量級(jí)的晶片上通過半導(dǎo)體工藝加工出單一量值的線條，如晶片尺寸為10mm×10mm。當(dāng)掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)達(dá)到十萬倍量級(jí)時(shí)，其視場尺寸僅為微米量級(jí)，該視場的大小僅為線寬標(biāo)準(zhǔn)樣片大小
計(jì)算機(jī)與數(shù)字工程 2021年4期2021-10-09
- 高精度線路制作影響因素分析
領(lǐng)域高頻高速板對(duì)線寬精度要求非常嚴(yán)。細(xì)線路的制作主要依賴于生產(chǎn)設(shè)備和工藝技術(shù)兩大關(guān)鍵因素。精密生產(chǎn)設(shè)備通常價(jià)格昂貴，利用常規(guī)PCB生產(chǎn)設(shè)備制作精細(xì)線路，工藝技術(shù)就顯得尤為重要。PCB生產(chǎn)流程長、涉及工序多、且工藝較為復(fù)雜，僅線路制作這一項(xiàng)就涉及工程設(shè)計(jì)、基銅銅厚控制、電鍍銅厚以及電鍍均勻性控制、干膜解析度控制、蝕刻均勻性控制等多種因素。通訊5G天線板客戶產(chǎn)品對(duì)線寬要求非常嚴(yán)格，要求整板線寬公差為±15 μm。文章結(jié)合我公司實(shí)際情況針對(duì)線路制作精度的影響因素
印制電路信息 2021年9期2021-09-20
- 利用鐘躍遷譜線測量超穩(wěn)光學(xué)參考腔的零溫漂點(diǎn)*
定性較好的超穩(wěn)窄線寬激光.超穩(wěn)光學(xué)參考腔的腔長穩(wěn)定性決定了最終激光頻率的穩(wěn)定度.為了降低腔長對(duì)溫度的敏感性, 使激光頻率具有更好的穩(wěn)定度和更小的頻率漂移, 利用鍶原子光晶格鐘的鐘躍遷譜線, 測量了698 nm 超穩(wěn)窄線寬激光系統(tǒng)中超穩(wěn)光學(xué)參考腔的零溫漂點(diǎn).通過對(duì)鐘躍遷譜線中心頻率隨溫度的變化曲線進(jìn)行二階多項(xiàng)式擬合, 得到698 nm 超穩(wěn)窄線寬激光系統(tǒng)的零溫漂點(diǎn)為30.63 ℃.利用鍶原子光晶格鐘的閉環(huán)鎖定, 測得零溫漂點(diǎn)處698 nm 超穩(wěn)窄線寬激光系統(tǒng)
物理學(xué)報(bào) 2021年7期2021-05-07
- 窄線寬1 064 nm 光纖激光泵浦高效率中紅外3.8 μm MgO:PPLN 光參量振蕩器
束質(zhì)量惡化、輸出線寬展寬，這些因素使得該方面的研究相對(duì)較少。同時(shí)PPLN 晶體在中遠(yuǎn)紅外波段（大于4μm）存在的光子吸收，最終導(dǎo)致目前的長波閑頻光輸出大多限制在1 W 左右[15]。2013 年，清華大學(xué)柳強(qiáng)等人報(bào)道了由高功率摻鐿光纖MOPA 結(jié)構(gòu)泵浦MgO:PPLN OPO 產(chǎn)生4μm 中紅外激光輸出[16]，在泵浦功率為18.5 W 時(shí)，獲得了2.03 W、4μm 的激光輸出，線寬為0.16 nm，斜率效率為11%。但是該研究中部分泵浦被反射回最后一級(jí)
中國光學(xué) 2021年2期2021-04-20
- LDI曝光機(jī)分辨率對(duì)制作細(xì)線路的影響
性的文件。不同的線寬和線距在轉(zhuǎn)換過程中，就有可能在兩種格式存在不完全相等的可能性。例如，一臺(tái)曝光機(jī)的解析度為3.175 μm，即最小pixel，如果設(shè)計(jì)的線寬線距是30 μm/30 μm，9個(gè)pixel即3.175×9=28.575 μm，10個(gè)pixel即3.175×10=31.75 μm，如此是不能整除解析度單位，但曝光機(jī)的原理是要首先保證設(shè)計(jì)的線寬屬性，即最終出來的是線寬是31.75 μm，線距是28.575 μm，但31.75+28.575=60.
印制電路信息 2020年11期2021-01-11
- 基于高斯相位調(diào)制的半導(dǎo)體激光器線寬展寬方法
強(qiáng)度噪聲小，結(jié)合線寬調(diào)制展寬技術(shù)有潛力逼近陀螺理論精度[1-3]。激光器驅(qū)動(dòng)技術(shù)將是新一代干涉型光纖陀螺發(fā)展的方向，具有重要的學(xué)術(shù)與工程研究價(jià)值[1]。美國斯坦福大學(xué)的Michel J.F.Digonnet 課題組是研究激光器驅(qū)動(dòng)干涉型光纖陀螺的先驅(qū)，對(duì)半導(dǎo)體激光器各類展寬機(jī)理及陀螺級(jí)應(yīng)用做出了一定的理論分析與應(yīng)用[2-4]。國內(nèi)基于半導(dǎo)體激光器線寬展寬的研究較少，2017年，天津航海儀器研究所的張桂才對(duì)半導(dǎo)體激光器的幾種線寬展寬方案進(jìn)行了理論分析和評(píng)估[
中國慣性技術(shù)學(xué)報(bào) 2020年3期2020-10-17
- 撓性印制板高精度阻抗設(shè)計(jì)影響因素研究
許多因素影響，如線寬、覆蓋膜厚度、PI（聚酰亞胺）厚度、不同電磁膜、不同參考層等一種或多種材料和設(shè)計(jì)搭配等，阻抗難以精確管控?，F(xiàn)通過試驗(yàn)不同參考層相同線寬、參考層相同不同線寬、同等規(guī)格不同供應(yīng)商基材、不同基材PI厚度，以及不同品牌型號(hào)屏蔽膜、不同覆蓋膜膠厚等因素對(duì)阻抗的影響，為FPC高精度阻抗設(shè)計(jì)提供最佳建議方案。1 試驗(yàn)方法1.1 設(shè)備與材料設(shè)備：安捷倫阻抗測試儀、二次元、金相顯微鏡1000倍。材料：撓性覆銅板（銅箔：12 μm、雙面無膠ED銅，聚酰亞胺
印制電路信息 2020年7期2020-07-18
- 基于手機(jī)USB3.1應(yīng)用的FPC信號(hào)傳輸研究
從不同網(wǎng)格設(shè)計(jì)、線寬設(shè)計(jì)，不同廠商高頻覆蓋膜對(duì)阻抗與損耗的影響變化進(jìn)行研究（見表1）。1.2 試驗(yàn)材料及測試設(shè)備主要試驗(yàn)材料及測試設(shè)備見表2。表1 測試方法及具體項(xiàng)目表2 主要試驗(yàn)材料及測試設(shè)備1.3 產(chǎn)品疊構(gòu)FPC產(chǎn)品疊夠圖見圖1所示。圖1 FPCB產(chǎn)品疊構(gòu)圖1.4 工藝流程開料→減銅→鉆孔→線路→AOI→覆蓋膜→阻焊→表面處理→電磁膜→激光刻→FQA2 測試結(jié)果分析3.1 不同高頻覆蓋膜Dk和Df測試將廠商A和B的高頻覆蓋膜的樣品裁切成7 cm×7 c
印制電路信息 2020年7期2020-07-18
- 激光器線寬對(duì)諧振式光纖陀螺標(biāo)度因數(shù)的影響
系統(tǒng)中，具有一定線寬的激光器的相干長度會(huì)影響諧振腔輸出的干涉光之間的相干度，造成諧振峰的展寬，影響諧振腔的清晰度。因此，隨著激光器線寬的加寬，會(huì)使得諧振腔的諧振特性變差。為得到較好的諧振特性，以及為便于小型化應(yīng)用，常使用連續(xù)可調(diào)諧的窄線寬半導(dǎo)體激光器作為光源。但是由于半導(dǎo)體激光器加工工藝的影響，其輸出并不是理想的單頻光，并且受外圍驅(qū)動(dòng)電路性能和溫度漂移的影響，其線寬會(huì)發(fā)生不同程度的展寬。激光線寬的展寬制約著諧振式光纖陀螺的發(fā)展，因此定量分析半導(dǎo)體激光器線寬
中國慣性技術(shù)學(xué)報(bào) 2020年1期2020-06-13
- 相位調(diào)制展寬激光的線寬壓縮方法研究
出了二級(jí)相位調(diào)制線寬壓縮的構(gòu)想,分析了線寬壓縮的成立條件,并根據(jù)該條件設(shè)計(jì)了激光線寬壓縮裝置。2 相位調(diào)制激光展寬原理單頻激光相位調(diào)制展寬方法[8]如圖1所示,輸入激光脈沖經(jīng)加載電信號(hào)的光纖相位調(diào)制器,輸出光譜展寬的激光信號(hào),其中展寬激光的光譜為頻率間隔與電信號(hào)頻率相同的梳狀光譜,并且相位調(diào)制器的調(diào)制強(qiáng)度越大,激光光譜展寬級(jí)數(shù)越多,即光譜展寬越寬,光纖放大器的SBS閾值也越高。激光光譜展寬理論分析如下。圖1 相位調(diào)制光譜展寬原理圖相位調(diào)制器輸出的光場由下式
激光與紅外 2020年1期2020-02-19
- 可調(diào)諧摻銩光纖激光器線寬壓縮及其超光譜吸收應(yīng)用*
利用寬帶可調(diào)諧窄線寬光源進(jìn)行吸收光譜測量的超光譜吸收技術(shù)可以在單次掃描中獲取一段連續(xù)光譜的所有吸收數(shù)據(jù), 可大大提高可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)的數(shù)據(jù)信息容量和光譜診斷能力.分析了在2 μm波段對(duì)水進(jìn)行超光譜吸收測量時(shí)對(duì)激光器輸出線寬的具體要求.利用摻銩光纖在2 μm波段較寬的發(fā)射譜, 采用可調(diào)諧法布里?珀羅濾波器和光纖可飽和吸收體相結(jié)合的技術(shù)方案搭建了一臺(tái)寬帶調(diào)諧窄線寬的2 μm光纖激光器.獲得了1840—1900 nm約60 nm范圍的調(diào)諧光譜輸出,
物理學(xué)報(bào) 2020年3期2020-02-16
- 頭戴式AR界面目標(biāo)符號(hào)的視覺搜索實(shí)驗(yàn)研究
符號(hào)的不透明度和線寬取值開展研究,通過分析被試的反應(yīng)時(shí)和正確率來研究目標(biāo)符號(hào)關(guān)于不透明度和線寬的取值,探討HMDs界面目標(biāo)符號(hào)的不透明度和線寬對(duì)認(rèn)知績效的影響.1 頭戴式增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)系統(tǒng)界面針對(duì)HMDs等航電系統(tǒng)界面的信息呈現(xiàn),國內(nèi)外學(xué)者開展了相關(guān)研究,Doehler等[8]針對(duì)非固定翼戰(zhàn)機(jī)在大霧、粉塵、黑暗等極端環(huán)境下,對(duì)HMDs系統(tǒng)界面導(dǎo)航開展了設(shè)計(jì)研究.Ercoline等[9]針對(duì)駕駛員對(duì)頭盔顯示器符號(hào)信息的感知,依賴于單目或雙目顯示器的類型以及背景圖像
- 半導(dǎo)體芯片電路線寬顯微測量精度分析
和相位噪聲很高，線寬很寬，因而限制了其在一些領(lǐng)域的應(yīng)用，窄線寬穩(wěn)頻半導(dǎo)體激光器在基礎(chǔ)研究及高科技產(chǎn)品研發(fā)中都有著非常重要的應(yīng)用，如光原子鐘、高分辨率激光光譜、基本物理常數(shù)測量和基礎(chǔ)物理研究等。關(guān)鍵詞：半導(dǎo)體芯片;線寬;精度1前言窄線寬激光器以其窄的輸出線寬在光通信與光探測等領(lǐng)域獲得了廣泛的應(yīng)用。如衛(wèi)星間的光互聯(lián)空地相干通信，多普勒激光冷卻原子實(shí)驗(yàn)以及氣象探測激光雷達(dá)等應(yīng)用均充分證明了這一點(diǎn)。外腔半導(dǎo)體激光器是一種廉價(jià)高性能的窄線寬光源，然而國內(nèi)對(duì)于其線寬性
錦繡·中旬刊 2019年2期2019-10-21
- 基于多功能靜電紡絲機(jī)的實(shí)驗(yàn)研究
分析2.1 纖維線寬受噴頭移動(dòng)速度的影響在實(shí)驗(yàn)中，噴頭移動(dòng)速度設(shè)置不同梯度，依次為100cm/min、200cm/min、300cm/min和400cm/min。圖1所示為得到的納米纖維沉積形貌，圖2所示為纖維線寬受噴頭移動(dòng)速度的影響，由圖1可得，在其他條件一樣時(shí)，纖維線寬隨著噴頭移動(dòng)速度的增大而減小，由圖2可知纖維線寬隨著噴頭移動(dòng)速度的增大由11.31μm下降到8.01μm。實(shí)驗(yàn)分析得出隨著噴頭移動(dòng)速度的增加，會(huì)使單位面積收集板在一定時(shí)間內(nèi)沉積的溶液減少
中國金屬通報(bào) 2019年12期2019-04-26
- 超窄邊框觸摸屏功能片工藝探討
圖形。金屬區(qū)域的線寬與線距為0.012～0.024mm，比傳統(tǒng)工藝的0.020～0.030mm縮小約40%，同時(shí)采用微米級(jí)激光設(shè)備蝕刻，對(duì)位置公置進(jìn)一步減少，達(dá)到超窄邊框的效果。關(guān)鍵詞：電容式摸屏? 超窄邊框? 功能片? 線寬中圖分類號(hào)：TP334? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 文章編號(hào)：1674-098X（2019）10（c）-0078-022012年之前，X
科技創(chuàng)新導(dǎo)報(bào) 2019年30期2019-03-08
- Excel圖形轉(zhuǎn)入CorelDRAW技巧
小、字體、字號(hào)、線寬等。將Excel圖形轉(zhuǎn)入到CorelDRAW軟件中修改比較方便，這種轉(zhuǎn)變需要一些技巧。(a) 粘貼：打開Excel文件，復(fù)制(“Ctrl+C”)要修改的圖形，在粘貼到CorelDRAW時(shí)，不是簡單的粘貼(“Ctrl+V”)，而是選擇“編輯”→“選擇性粘貼”→“圖畫(增強(qiáng)的圖元文件)”，然后解組就可以進(jìn)行相應(yīng)的修改。(b) 線寬修改：在修改過程中，還需要注意Excel形成的線寬在轉(zhuǎn)入CorelDRAW時(shí)顯示的磅值與實(shí)際線寬不相符，Exce
世界地質(zhì) 2019年2期2019-02-18
- 好壞腔雙波長主動(dòng)光頻標(biāo)的實(shí)驗(yàn)進(jìn)展
被動(dòng)式的,其腔模線寬一般遠(yuǎn)大于增益線寬,輸出激光頻率主要受諧振腔腔長抖動(dòng)的影響,而且超穩(wěn)、超窄線寬激光器的控制系統(tǒng)龐大復(fù)雜、容易受外界環(huán)境干擾,鎖頻激光系統(tǒng)的頻率穩(wěn)定度最終受限于由布朗運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致的腔長熱噪聲,因此,如果原理上有突破,光鐘發(fā)展可能有大的飛躍。為了突破被動(dòng)光頻標(biāo)的限制,我們創(chuàng)新性的提出了主動(dòng)光鐘[3-4]的概念,主動(dòng)光鐘方案提出后受到了國際同行的關(guān)注,多個(gè)研究組對(duì)其進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證和引用,并進(jìn)行了基于不同原子體系的主動(dòng)光鐘方案研究[5-9]。經(jīng)過實(shí)
時(shí)間頻率學(xué)報(bào) 2018年3期2018-11-09
- 移頻延時(shí)自外差法的DFB激光器線寬測量
的作用，對(duì)激光器線寬有著非常高的要求[2]。在如今的許多測試測量系統(tǒng)中，窄線寬的DFB激光器是非常關(guān)鍵的器件。激光器性能的強(qiáng)弱往往是通過對(duì)激光器的線寬值的測量來評(píng)定的，對(duì)于激光器線寬的精確測量，特別是在較窄線寬激光器線寬的測量就尤為重要。對(duì)較窄線寬激光器線寬的測量方法一般是法布里-珀羅干涉儀法與外差法等。如今激光器的線寬已經(jīng)達(dá)到千赫茲量級(jí)，對(duì)于現(xiàn)有的較窄線寬的激光器線寬參量，上述的法布里-珀羅干涉儀法已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)無法滿足精度要求[3]。光譜線寬的測量方法大致有
激光技術(shù) 2018年5期2018-11-01
- LTCC帶通濾波器中心頻率偏移的優(yōu)化
測試濾波器樣品的線寬精度以及層間對(duì)位精度，使用Cyber公司的Cyberscan型激光測厚儀測試濾波器的介質(zhì)層厚度，使用安捷倫公司的N9030B型頻譜儀測試濾波器樣品的微波特性。3.1.1 電感線寬參數(shù)提取對(duì)8組濾波器樣品第10層電感的線寬進(jìn)行測試，測試結(jié)果如表1所示。表1 濾波器電感線寬測試結(jié)果對(duì)比由測量結(jié)果可以發(fā)現(xiàn)電感線寬的平均值為120μm，比濾波器模型的電感線寬小了20 μm。3.1.2 介質(zhì)層厚度參數(shù)提取對(duì)8組濾波器樣品第17層的介質(zhì)層厚度進(jìn)行測
電子與封裝 2018年6期2018-06-25
- 激發(fā)光線寬對(duì)原子光致漂移速率的影響?
漂移而言,激發(fā)光線寬會(huì)影響原子激發(fā)的速度選擇性,進(jìn)而影響漂移速率的大小,因此是光致漂移研究中不可忽視的一個(gè)影響因素.在國外已有的理論研究中,通常把激發(fā)光作為單色光進(jìn)行處理,很少考慮激發(fā)光線寬對(duì)漂移速率的影響[13?19].1981年,Popov等[20]首次發(fā)表與激發(fā)光線寬相關(guān)的理論研究,但該研究是采用二能級(jí)原子模型對(duì)原子光致漂移過程進(jìn)行描述,沒有考慮能級(jí)簡并與超精細(xì)能級(jí)對(duì)光致漂移的影響.柴俊杰等[21]的研究中對(duì)線寬因素的影響稍有涉及,但針對(duì)碰撞問題采用
物理學(xué)報(bào) 2018年11期2018-06-19
- 藍(lán)光LD泵浦Pr3+：YLF窄線寬脈沖激光器研究
的潛力[1］。窄線寬紅光脈沖激光具有線寬窄、峰值功率高、信噪比高、單色性好等優(yōu)點(diǎn)，這對(duì)非線性光學(xué)的發(fā)展具有突破性進(jìn)展。然而，固體激光器多縱模運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)輸出的激光線寬可達(dá)上百GHz，難以滿足實(shí)際使用要求，因此必須通過線寬壓縮技術(shù)來克服固體激光器輸出線寬過大的固有缺陷。為了實(shí)現(xiàn)窄線寬激光輸出，國內(nèi)外學(xué)者對(duì)窄線寬激光器進(jìn)行了大量的理論和實(shí)驗(yàn)研究，其中包括環(huán)形腔[3］、扭轉(zhuǎn)模腔[4］、F-P標(biāo)準(zhǔn)具法等。其中采用F-P標(biāo)準(zhǔn)具獲得窄線寬激光輸出的方法，具有結(jié)構(gòu)簡單，波長可
- 吸收譜線Doppler展寬對(duì)原子多步光電離的影響
子電離率為最大的線寬值.這與已發(fā)表文獻(xiàn)中無Doppler展寬時(shí)的計(jì)算結(jié)果有很大不同.為了追求最佳的原子電離效果,在原子法激光同位素分離系統(tǒng)中激光應(yīng)該盡可能地工作在最佳線寬條件下.如果激光線寬有不可控的隨機(jī)波動(dòng),在技術(shù)上讓激光線寬略大于最佳線寬更為有利.無論如何控制激光線寬,盡可能地降低原子吸收譜線的Doppler展寬都有利于原子電離率的提高.Doppler展寬,激光線寬,Rabi頻率,電離率1 引 言原子多步光電離是原子蒸汽激光同位素分離(atom vap
物理學(xué)報(bào) 2017年19期2017-10-23
- 數(shù)字
激光器盡可能縮窄線寬是激光研究的目標(biāo)之一。現(xiàn)在，德國的研究人員已經(jīng)開發(fā)出了世界上最小線寬的激光器，其線寬僅為0.01赫茲。來自德國聯(lián)邦物理技術(shù)研究院（PTB）和美國天體物理聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室（JILA）的科學(xué)家共同研發(fā)的新型激光器，除了具有0.01赫茲的極小線寬，其光波還能持續(xù)11秒保持穩(wěn)定，此時(shí)光束約延伸330萬千米，約是地月距離的10倍。研究人員正在利用這種極小線寬的新型激光器來制造更準(zhǔn)確的原子鐘，并對(duì)超冷原子進(jìn)行更精確的測量。研究人員認(rèn)為，通過調(diào)整反射鏡的組
知識(shí)就是力量 2017年8期2017-08-23
- PCB線圈的電參數(shù)對(duì)諧振頻率的影響探究
。分別對(duì)層間距、線寬與層間距、線圈中心距對(duì)諧振頻率的影響兩組實(shí)驗(yàn)進(jìn)行了分析。得出的結(jié)論是：在層間距固定不變的情況下，隨著線寬的不斷增加，諧振頻率是逐漸減小的；但當(dāng)諧振頻率減小到一定程度時(shí)，則不再發(fā)生變化。在線寬固定不變的情況下，隨著層間距值的不斷增大，諧振頻率的值也是不斷增大的，且增長是越來越緩慢的。在層間距固定不變的情況下，隨著線圈中心距的不斷增加，諧振頻率是逐漸增大的；增大的趨勢是越來越明顯的。在線圈中心距固定不變的情況下，隨著層間距值的不斷增大，諧振
電子技術(shù)與軟件工程 2016年16期2017-03-17
- 5um線寬LED晶片最佳光刻條件探究
份有限公司5um線寬LED晶片最佳光刻條件探究鄒賢軍，廖穎鈺 湘能華磊光電股份有限公司摘要：在外延結(jié)構(gòu)已經(jīng)確定的前提下，如何在芯片前工藝COW制備中提高亮度成為各芯片廠商最關(guān)注的話題，而制備反射電極、增加電流阻擋層、優(yōu)化圖形、縮短線寬則是提高COW亮度的常用方法。本文主要探究尺寸為457um*889um的芯片在制備5um線寬時(shí)黃光作業(yè)中的最佳光刻條件，實(shí)驗(yàn)表明硬烤110°/60秒，曝光能量90mj/cm2，顯影時(shí)間90秒，膠厚2.85um，軟烤105℃/
科學(xué)中國人 2016年17期2016-08-31
- 納米CL-20炸藥含能墨水的直寫規(guī)律
水黏度增大，直寫線寬減小且減小幅度增大，但黏度過度偏大時(shí)，會(huì)影響直寫線寬的均勻性，配方I在噴頭高度為0.50mm和0.75mm時(shí)，以及配方III在噴頭高度為0.75mm時(shí)，均出現(xiàn)了線寬不均的現(xiàn)象；配方II直寫線寬穩(wěn)定更適合直寫裝藥。隨著噴管壓力的增大，CL-20油墨的打印線寬明顯增加，且對(duì)于不同針頭直徑和不同配方墨水壓力大小變化相同，線寬的增幅基本相同，當(dāng)壓力由100kPa增加到200kPa，線寬增大約2.5倍。隨著噴頭內(nèi)徑的增大，油墨的直寫線寬明顯增大，
火炸藥學(xué)報(bào) 2016年1期2016-03-29
- 填充輔助多晶硅圖形的參數(shù)成品率版圖優(yōu)化
化中最為重要的是線寬變化，尤其是多晶硅柵線寬，即MOS管的溝道長度.MOS管溝道長度是影響MOS管性能的主要參數(shù)，由于多晶硅線寬最小，最容易引起變化，由工藝波動(dòng)引起的多晶硅寬度變化指的就是MOS管溝道長度的變化.MOS管溝道長度變化會(huì)影響MOS管的工作速度以及亞閾值電流，由此對(duì)電路時(shí)序和亞閾值電流引起的靜態(tài)功耗產(chǎn)生影響，導(dǎo)致參數(shù)成品率下降［4-6］.在納米工藝中，參數(shù)成品率已成為影響芯片成品率的主要因素［7-10］.導(dǎo)致MOS管溝道長度發(fā)生變化的最主要原因
浙江大學(xué)學(xué)報(bào)（工學(xué)版） 2015年12期2015-07-11
- 一種新型窄線寬摻鉺光纖激光器
1 引言單縱模窄線寬光纖激光器因其線寬千赫茲量級(jí)的長相干長度光源，在密集波分復(fù)用系統(tǒng)、通信系統(tǒng)、分布式光纖傳感器等方面有重要的應(yīng)用價(jià)值［1－4］。單頻窄線寬激光的獲得，需要通過設(shè)計(jì)腔形的結(jié)構(gòu)來消除多縱模振蕩，抑制跳模，并對(duì)激光進(jìn)行線寬壓縮，以獲得窄線寬激光輸出。國內(nèi)外的研究表明采用超短線形腔結(jié)構(gòu)，增大縱模間距，可獲得單頻激光輸出［5－6］，但超短線形腔的制作工藝復(fù)雜。在激光腔內(nèi)加入可飽和吸收體，可抑制跳模，獲得單頻激光［7－8］，例如，魏興春等采用作為可飽
激光與紅外 2015年5期2015-03-29
- 隨機(jī)噪聲對(duì)海洋布里淵激光雷達(dá)測量的影響
6dB時(shí)，頻移和線寬的平均誤差和不確定度能夠控制在兆赫茲量級(jí)，溫度誤差和不確定度能夠控制在0.2℃以內(nèi)；采用實(shí)際應(yīng)用中多次測量取平均的方法，10次平均能夠保證0.2℃的測量精度對(duì)信噪比的要求下降到7dB。這為激光雷達(dá)在海水高精度遙感提供了指導(dǎo)。關(guān)鍵詞：激光技術(shù)；海洋布里淵散射；隨機(jī)噪聲；頻移；線寬；溫度；測量誤差*通訊聯(lián)系人。E-mail:liangkun@hust.edu.cn引言采用布里淵散射信號(hào)檢測技術(shù)進(jìn)行海洋探測始于20世紀(jì) 60 年代。隨著激光及
激光技術(shù) 2015年1期2015-02-26
- 真空二流體制作35 μm/35 μm細(xì)線路的研究
獲得集中度更高的線寬&更高的蝕刻因子。細(xì)線路；真空二流體蝕刻1 前言細(xì)線路的需求與電子產(chǎn)品的發(fā)展息息相關(guān)。隨著電子產(chǎn)品輕、薄、短、小的進(jìn)一步發(fā)展，線路的發(fā)展也到了一個(gè)前所未有的高度：40 μm/40 μm的細(xì)線已經(jīng)應(yīng)用在高端HDI產(chǎn)品，進(jìn)入小批量生產(chǎn)；35 μm/35 μm、甚至30 μm/ 30 μm的線路也在研究中。但現(xiàn)有的DES工藝到底可以制作到多細(xì)的線路？對(duì)于這個(gè)問題業(yè)界顯然沒有一個(gè)統(tǒng)一的答案。本文展開的研究就是想嘗試一下：采用DES工藝搭配真空二
印制電路信息 2015年3期2015-02-05
- 基于線寬測量的增材制造流量智能控制方法
本文提出一種基于線寬測量的增材制造流量的智能控制方法，通過傳感器反饋的實(shí)際線寬對(duì)工作臺(tái)位移速度和噴頭流量的相對(duì)關(guān)系進(jìn)行控制，從而實(shí)現(xiàn)漿料的精確控制，提高實(shí)體模型或支架形狀的成形精度。1 開環(huán)低溫成形機(jī)的缺點(diǎn)目前開環(huán)的低溫成形機(jī)主要存在掃描線斷裂及掃描線過堆兩大缺點(diǎn)。1.1 掃描線斷裂低溫成形機(jī)在制備支架過程中噴頭擠出漿料流量過小或帶動(dòng)噴頭的掃描電機(jī)速度過快時(shí)，噴頭擠出的材料還未跌落粘結(jié)，就被拉走，造成填料不足，絲料斷裂，導(dǎo)致漿料在設(shè)備的工作臺(tái)上留下的掃描線
- 平面S 型等線寬與漸變線寬微彈簧彈性系數(shù)分析
用下,平面S型等線寬微彈簧的彈性系數(shù)理論計(jì)算公式。平面S型等線寬微彈簧在慣性力作用下,彈簧彈性系數(shù)從其固定錨點(diǎn)處隨著單元節(jié)數(shù)遞增而遞增,彈簧單元位移量隨節(jié)數(shù)的遞增而減小。為了防止錨點(diǎn)處彈簧單元因形變量過大導(dǎo)致微彈簧失效,本文提出漸變線寬彈簧并推導(dǎo)了其彈性系數(shù)計(jì)算公式。同時(shí)解決了文獻(xiàn)[11]中“同一彈簧的不同節(jié)線寬不一樣對(duì)彈簧剛度的影響”的問題。1 平面微彈簧應(yīng)用環(huán)境當(dāng)平面微彈簧所受載荷為外界集中力(即等效作用于彈簧自由端的質(zhì)點(diǎn)力)時(shí),集中力對(duì)其任一彈簧單元
機(jī)械制造與自動(dòng)化 2014年6期2014-09-19
- 阻抗±5%公差影響因素分析與探討
下幾點(diǎn)：內(nèi)/外層線寬、層壓半固化片介厚、電鍍銅厚、油墨厚度、進(jìn)行控制，使最終實(shí)現(xiàn)阻抗值+5% Ω控制；經(jīng)過與PCB實(shí)驗(yàn)、研究和實(shí)際控制經(jīng)驗(yàn)并結(jié)合CITS27和Si8000軟件的使用，我對(duì)這個(gè)問題有了一些粗淺的認(rèn)識(shí)，愿和大家分享。2 阻抗信號(hào)傳輸線類型最通用的傳輸線類型：微帶線（microstrip）和帶狀線（stripline）。（1）微帶線：指在 PCB外層的線和只有一個(gè)參考平面的線，有非嵌入/嵌入兩種；如圖1、圖2。圖1 非嵌入(我們目前常用)圖2 嵌
印制電路信息 2014年4期2014-05-31
- 堿蝕流程精細(xì)線路板件線寬補(bǔ)償規(guī)則的改善研究
流程精細(xì)線路板件線寬補(bǔ)償規(guī)則的改善研究Paper Code: S-132林偉娜 （汕頭超聲印制板公司，廣東 汕頭 515041）文章主要是通過試驗(yàn)及Cpk計(jì)算評(píng)估精細(xì)線路板件在堿蝕流程中的加工情況，找出不同蝕銅厚度、不同線路類型及不同線路走向之間的線寬補(bǔ)償規(guī)律，從資料制作上改善受圖形分布或平板加厚導(dǎo)致線細(xì)與蝕不凈矛盾，降低生產(chǎn)難度，提高板件加工穩(wěn)定性。堿蝕；CPK計(jì)算；精細(xì)線路；線寬補(bǔ)償規(guī)律；加工穩(wěn)定性1 前言對(duì)于高多層及細(xì)線路板件在外層堿蝕制作過程中，受
印制電路信息 2014年4期2014-05-04
- 淺談內(nèi)層411.6μm底銅制作工藝
越高，在縮小線路線寬的同時(shí)又要提高線路電流的承載力，只能是相應(yīng)的提高線路的銅厚，一般的內(nèi)外層的線路銅厚大于102.9 μm即稱為厚銅板，其主要特點(diǎn)：承載大電流，減少熱應(yīng)變和散熱，主要應(yīng)用于高端電源線路板及大功率設(shè)備電路板，本文主要通過試驗(yàn)介紹一種內(nèi)層411.6 μm（12 oz）高厚底銅的生產(chǎn)作業(yè)方式，確認(rèn)411.6 μm銅厚內(nèi)層蝕刻的線路補(bǔ)償以及制作能力。2 試驗(yàn)設(shè)置（1）選擇銅厚為411.6 μm的基材2PNL；（2）對(duì)原稿設(shè)計(jì)不同三組補(bǔ)償0.2 mm
印制電路信息 2014年10期2014-01-13
- 基于半導(dǎo)體外腔激光器的光反饋研究﹡
的基礎(chǔ)上，分析了線寬因子、外腔反饋強(qiáng)度以及反饋電場相位等因素對(duì)外腔半導(dǎo)體激光器的穩(wěn)定性影響，同時(shí)認(rèn)為激光器只有在其振蕩頻率在更低的激光器閾值增益下，才能穩(wěn)定運(yùn)行[10-11]。所以對(duì)其閾值增益和窄線寬特性的研究顯得很有必要。從理論上討論外腔半導(dǎo)體激光器的閾值特性和窄線寬機(jī)制，并進(jìn)行數(shù)值模擬分析。1 Littrow型外腔半導(dǎo)體激光器典型的Littrow型外腔半導(dǎo)體激光器[12]結(jié)構(gòu)如圖1所示。外腔半導(dǎo)體激光器輸出的激光經(jīng)透鏡準(zhǔn)直后，入射至光柵處發(fā)生衍射，產(chǎn)生
通信技術(shù) 2013年6期2013-10-31
- 溫控體布拉格光柵外腔單管半導(dǎo)體激光器
)具有波長穩(wěn)定、線寬窄等優(yōu)點(diǎn)［1］，在半導(dǎo)體激光泵浦堿金屬激光器(diode pumped alkali laser，DPAL)中得到了廣泛的應(yīng)用［2］。堿金屬激光器的增益介質(zhì)主要為鉀(K)、銣(Rb)、銫(Cs)蒸氣，泵浦光波長分別為766 nm，780 nm，852 nm。為了提高堿金屬激光的效率，通常采用外腔技術(shù)對(duì)現(xiàn)有的普通商用半導(dǎo)體激光器進(jìn)行線寬壓窄。相對(duì)于平面光柵線寬壓窄技術(shù)，體布拉格光柵用于線寬壓窄時(shí)具有功率損失少、結(jié)構(gòu)簡單等優(yōu)點(diǎn)，是目前堿金屬
激光與紅外 2013年5期2013-03-20
- PCB線寬最大最小值的檢測算法
有限公司1 引言線寬檢測主要是對(duì)PCB線路板導(dǎo)線缺陷的檢測。印刷電路板（PCB）作為集成各種電子元器件的信息載體，在各個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用[1]。而電子產(chǎn)品趨于更輕、更薄、更多功能化，也使得PCB 制造技術(shù)朝向更高密度發(fā)展，使得單位面積和單位體積PCB板的線路越來越多；而隨著線路板行業(yè)的發(fā)展，國內(nèi)外客戶對(duì)線路板產(chǎn)品的要求越來越高，因此檢測技術(shù)領(lǐng)域?qū)?span id="j5i0abt0b" class="hl">線寬的檢測，不再僅限于傳統(tǒng)檢測線寬的平均值，還需要測量出線寬的最大值和最小值。本文將對(duì)線寬的最大值和最小值檢
印制電路信息 2012年1期2012-08-15
- Narrow linewidth Erbium-doped photonic crystal fiber laser?
r圖1 全光纖窄線寬摻鉺光子晶體光纖激光器示意圖The cross-section micrograph of Er-doped PCF is shown in Fig 2 and has a similar hexagonal holey clad.The core diameter of used PCF is 3.34 μm with numerical aperture of 0.143 and the mass fraction of Erbiu
深圳大學(xué)學(xué)報(bào)（理工版） 2011年5期2011-11-26
- PCB線寬檢測設(shè)備的發(fā)展現(xiàn)狀與趨勢
08）1 PCB線寬/間距的發(fā)展現(xiàn)狀世界通訊電子產(chǎn)品在向多功能化、小型化、輕量化的方向發(fā)展，致使印制電路板從過去的孔插裝技術(shù)（THT）階段，全面走上了當(dāng)前的表面貼裝技術(shù)（SMT）階段和芯片級(jí)封裝（CSP）階段，將來還將走向系統(tǒng)封裝（SIP）階段。近幾年來，多層板、撓性板、剛撓結(jié)合板、高密度互連（HDI）板、IC封裝板（BGA、CSP）、特種印制板（高頻板、金屬基板、陶瓷基板和厚銅箔板）等PCB品種已成為主要的增長點(diǎn)。因此國內(nèi)外未來印制板生產(chǎn)制造技術(shù)正向高密
印制電路信息 2011年7期2011-07-30
- Auto CAD中打印機(jī)線型配置及應(yīng)用實(shí)例
進(jìn)行配置，選擇好線寬（根據(jù)本人調(diào)查、使用經(jīng)驗(yàn)，細(xì)線寬選擇0.25mm，粗線寬選擇0.40mm即可）。單擊“保存并關(guān)閉”，線型配置完成。2 實(shí)際應(yīng)用按照圖線GB4457.4—1984中的規(guī)定，假定粗實(shí)線、粗點(diǎn)劃線線寬為b，則其他線型線寬約為b/3。而在計(jì)算機(jī)輔助制圖中，這樣的設(shè)置就顯的不是很合理，如果細(xì)實(shí)線的線寬為0.25 mm，按規(guī)定，粗實(shí)線的線寬應(yīng)選0.75 mm，而我們在實(shí)際應(yīng)用中只需設(shè)置為0.4 mm就能夠滿足視覺要求了。假如按規(guī)定執(zhí)行的話，就會(huì)造成
科學(xué)之友 2010年15期2010-06-13