劉星遇,蘭玉婷,苗雨欣*,劉雯雯,楊新宇,趙 震,2*
(1.沈陽(yáng)師范大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院,能源與環(huán)境催化研究所,遼寧 沈陽(yáng) 110034;2.中國(guó)石油大學(xué)(北京)重質(zhì)油國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京 102249)
工業(yè)與科技的大力發(fā)展給人們生產(chǎn)和生活帶來(lái)便利的同時(shí),環(huán)境污染也逐漸加重,其中CO是環(huán)境的主要污染物之一,來(lái)源主要有汽車(chē)尾氣排放、工廠廢氣排泄等,且CO也是一種常見(jiàn)的有毒氣體,可穩(wěn)定存在于空氣中[1],威脅人類(lèi)健康。目前,將CO氧化消除是最簡(jiǎn)單和方便的方法,其中貴金屬催化在CO氧化方面的研究非常廣泛。Ag價(jià)格低廉,但穩(wěn)定性差與高溫易燒結(jié)的缺點(diǎn)限制了其在催化領(lǐng)域的應(yīng)用。
本文以不同濃度賴(lài)氨酸為沉淀劑,采用簡(jiǎn)單的一步水熱法制備不同尺寸的HAP納米棒,進(jìn)一步通過(guò)等體積浸漬法制備Ag/HAP催化劑,探究HAP載體結(jié)構(gòu)對(duì)CO催化氧化性能的影響。
實(shí)驗(yàn)用水為三級(jí)去離子水;Ca(NO3)2·4H2O、(NH4)2HPO4和賴(lài)氨酸均為分析純,國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司;AgNO3,分析純,天津市瑞金特化學(xué)品有限公司。
1.2.1 HAP制備
將4 mmol的Ca(NO3)2·4H2O溶解于去離子水中配成溶液;并將2.4 mmol的(NH4)2HPO4溶解于去離子水中配制成(NH4)2HPO4溶液;將兩種溶液混合,在60 ℃水浴鍋中持續(xù)攪拌;分別將不同量的賴(lài)氨酸加至混合溶液中,并在60 ℃水浴鍋中攪拌1 h得到前驅(qū)體;將前驅(qū)體裝入內(nèi)襯為聚四氟乙烯的不銹鋼反應(yīng)釜中,恒溫160 ℃水熱6 h后取出冷卻至室溫,產(chǎn)物經(jīng)離心分離,并用去離子水洗滌至中性,50 ℃烘箱中干燥12 h;最后研磨得到HAP樣品,所得HAP樣品根據(jù)賴(lài)氨酸的濃度不同標(biāo)記為H-X(X為賴(lài)氨酸濃度)。
1.2.2 Ag/HAP催化劑制備
采用浸漬法制備Ag/HAP催化劑,將一定濃度AgNO3溶液加入到H-X樣品的燒杯中,充分?jǐn)嚢瑁?0 ℃烘箱干燥2 h;在5%H2+95%Ar混合氣氣氛恒溫300 ℃焙燒2 h得到催化劑,標(biāo)記為Ag/H-X。
N2吸附-脫附采用美國(guó)麥克儀器公司3020型吸附儀,對(duì)催化劑的比表面積、孔容及孔徑進(jìn)行測(cè)量分析,樣品在200 ℃預(yù)處理4 h,然后在-196 ℃用N2為吸附質(zhì)進(jìn)行靜態(tài)吸附分析測(cè)試。
XRD采用日本理學(xué)公司Ultima IVX射線粉末衍射儀,CuKα,工作電壓40 kV,工作電流30 mA,掃描范圍20°~60°,掃描速率5°·min-1。
SEM采用日本日立公司S-4800掃描電子顯微鏡,在20 kV進(jìn)行測(cè)試,由于待測(cè)樣品導(dǎo)電性較差,測(cè)試前對(duì)樣品進(jìn)行噴金處理。
UV-vis采用日本日立公司UH4150型紫外-可見(jiàn)光譜儀,測(cè)試范圍(800~200) nm,掃描速率300 ℃·min-1,取樣間隔為0.5 nm。
H2-TPR采用美國(guó)麥克儀器公司2920型化學(xué)吸附儀,50 mg催化劑置于U型管內(nèi),在Ar氣氛由室溫升到300 ℃預(yù)處理1 h,升溫速率10 ℃·min-1,降溫至100 ℃后氣路切至H2/Ar,升溫到800 ℃,進(jìn)行記錄。
XPS采用美國(guó)賽默飛世爾公司ESCALAB 250Xi型X射線光電子能譜儀對(duì)催化劑進(jìn)行表面組成及價(jià)態(tài)分析,儀器能量分辨率小于0.5 eV,樣品分析室真空度5×10-7Pa,最大束電流4 μA,通過(guò)內(nèi)標(biāo)碳(C1s=284.8 eV)校正電子結(jié)合能。
采用固定床微管反應(yīng)器,微管長(zhǎng)度500 mm,內(nèi)徑8 mm。將50 mg催化劑粉末裝入微管反應(yīng)器中,催化劑床層高約5 mm。用N2吹掃約20 min,通入體積組成為0.8%CO、20%O2和79.2%N2的反應(yīng)氣,氣體流速50 mL·min-1,空速60 000 mL·(g·h)-1。將固定床反應(yīng)器進(jìn)行程序升溫,采用配備TDX-01柱、檢測(cè)器為FID的安捷倫7890B氣相色譜儀和N2作為載氣的熱導(dǎo)率檢測(cè)器對(duì)出口氣體成分進(jìn)行在線分析。
圖1為Ag/H-X催化劑的N2吸附-脫附等溫曲線和孔徑分布。從圖1可知,吸附等溫曲線為Ⅳ型等溫線,且在相對(duì)壓力為0.8~1.0時(shí)形成H3型滯后環(huán),表明制備的催化劑帶有堆積孔。
圖1 Ag/H-X催化劑的N2吸附-脫附等溫曲線與孔徑分布Figure 1 N2 adsorption - desorption isotherms and pore diameter distributions of Ag/H-X catalystsAg/H-0.08、Ag/H-0.14和Ag/H-0.20的N2吸附-脫附曲線依次向上移動(dòng)50 cm3·g-1、100 cm3·g-1和150 cm3·g-1
Ag/H-X催化劑的比表面積、孔體積和平均孔徑如表1所示。由表1可以看出,4種催化劑均形成介孔堆積孔,孔徑為(5.52~26.37) nm,其中Ag/H-0.20催化劑的比表面積最大,達(dá)48.7 m2·g-1,孔體積(0.29 cm3·g-1)與平均孔徑(22.39 nm)相對(duì)較大;Ag/H-0.14催化劑的比表面積、孔體積和平均孔徑在所有Ag/H-X催化劑中參數(shù)最小,分別僅為15.6 m2·g-1、0.06 m3·g-1和5.52 nm。
表1 Ag/H-X催化劑的比表面積、孔體積和平均孔徑
圖2為制備的HAP載體和Ag/H-X催化劑的XRD圖。從圖2可以看出,制備的載體在25.9°、31.8°、32.2°、32.9°、34°、39.8°、46.7°和49.5°分別與XRD卡片(JCPDS 94-0432)的羥基磷灰石的(002)、(211)、(112)、(300)、(202)、(310)、(222)和(213)晶面特征衍射峰相對(duì)應(yīng),并且峰形尖銳無(wú)雜峰,表明制備出晶相較好、結(jié)晶度高的HAP。
圖2 HAP載體和Ag/H-X催化劑的XRD圖Figure 2 XRD patterns of HAP carriers and Ag/H-X catalysts
由圖2還可以看出,Ag/H-X催化劑與HAP載體的XRD圖形基本一致,隨著賴(lài)氨酸濃度增加,Ag/H-X催化劑在38.2°的Ag(111)晶面的特征衍射峰逐漸降低,Ag/H-0.04催化劑在38.2°可以觀察到Ag(111)晶面有明顯的特征峰,根據(jù)謝樂(lè)公式計(jì)算出Ag/H-0.04和Ag/H-0.08催化劑中的銀粒子尺寸皆為2.4 nm。在Ag/H-0.14和Ag/H-0.20催化劑的XRD圖上沒(méi)有Ag的特征衍射峰,可能是因?yàn)锳g的負(fù)載量小,高度分散在HAP表面上所致。表明隨著賴(lài)氨酸濃度增加,負(fù)載在HAP上的Ag粒子的分散性逐漸變好。
圖3為HAP載體的SEM照片。
圖3 HAP載體的SEM照片F(xiàn)igure 3 SEM images of HAP carriers
從圖3可以清晰地觀測(cè)到HAP的形貌特征,隨著賴(lài)氨酸濃度增加,HAP的形貌發(fā)生明顯變化,賴(lài)氨酸濃度較低即0.04 mol·L-1和0.08 mol·L-1時(shí),合成的HAP形貌為長(zhǎng)約150 nm、長(zhǎng)徑比約4∶1的短棒。當(dāng)賴(lài)氨酸濃度增加到0.14 mol·L-1時(shí),制備的HAP長(zhǎng)度明顯增加,平均約500 nm。當(dāng)賴(lài)氨酸濃度增加至0.20 mol·L-1時(shí),制備的HAP的長(zhǎng)度約200 nm,長(zhǎng)徑比約5∶1。表明賴(lài)氨酸濃度對(duì)HAP的形貌影響較大。
圖4為Ag/H-X催化劑對(duì)CO催化氧化的催化性能。
圖4 Ag/H-X催化劑上的CO轉(zhuǎn)化率Figure 4 CO conversion on Ag/H-X catalysts
由圖4可以看出,Ag/H-0.04催化劑催化性能較差,在210 ℃時(shí)CO轉(zhuǎn)化率達(dá)到90%,繼續(xù)升高反應(yīng)溫度,CO轉(zhuǎn)化率呈下降趨勢(shì),并未達(dá)到完全轉(zhuǎn)化。隨著賴(lài)氨酸濃度逐漸增加,催化劑活性越來(lái)越好,Ag/H-0.08催化劑在250 ℃時(shí)CO轉(zhuǎn)化率達(dá)到98%,趨于反應(yīng)完全。Ag/H-0.14催化劑在210 ℃時(shí)CO完全轉(zhuǎn)化,Ag/H-0.20催化劑190 ℃時(shí)CO轉(zhuǎn)化率達(dá)到100%,相比之下Ag/H-0.20的催化活性最好,優(yōu)于文獻(xiàn)報(bào)道[14-15]。
Ag/H-X催化劑的UV-vis譜圖如圖5所示。由圖5可以看出,4種催化劑在410 nm處均有一明顯特征峰,歸屬于單質(zhì)Ag的吸收峰[16-19]。由于催化劑制備過(guò)程中在300 ℃用H2進(jìn)行預(yù)處理,所以在220 nm處的Ag+吸收峰[16-17]極其微弱。在(200~800) nm,除410 nm處有一明顯的特征峰歸屬于單質(zhì)Ag,在220 nm有微弱的Ag+特征峰,表明4種催化劑表面負(fù)載的Ag主要成分均為Ag0,這部分Ag0納米粒子是CO催化反應(yīng)的主要活性組分。
圖5 Ag/H-X催化劑的UV-vis譜圖Figure 5 UV-vis spectra of Ag/H-X catalysts
Ag/H-X催化劑的H2-TPR譜圖如圖6所示。
圖6 Ag/H-X催化劑的H2-TPR譜圖Figure 6 H2-TPR spectra of Ag/H-X catalysts
從圖6可以看出,在約200 ℃,觀察到Ag/H-0.04樣品出現(xiàn)明顯的特征峰,歸屬于HAP載體表面Ag2O的還原特征峰[12],而隨著賴(lài)氨酸濃度增加,Ag/H-X系列催化劑的峰位置發(fā)生前移,還原溫度降低,表明催化劑的還原性能增強(qiáng)。Ag/H-0.20在約480 ℃出現(xiàn)一個(gè)特征峰,認(rèn)為是HAP孔道內(nèi)小體積的Ag2O還原峰[20],這部分Ag物種相較于在HAP表面的Ag2O更難被還原。除Ag2O特征峰外,并未觀察到其他特征峰,表明Ag主要以單質(zhì)和Ag2O的形式存在于HAP載體表面,且Ag/H-0.20樣品的還原性能最強(qiáng),表面的Ag物種更容易被還原,與催化劑活性評(píng)價(jià)結(jié)果相一致。
圖7為Ag/H-X催化劑Ag3d和O1s的XPS譜圖。
圖7 Ag/H-X催化劑Ag3d和O1s的XPS譜圖Figure 7 XPS spectra of Ag3d and O1s of Ag/H-X catalysts
對(duì)于Ag/H-X催化劑,Ag3d5/2的結(jié)合能為368.3 eV,表明有單質(zhì)Ag的存在[21]。而對(duì)于Ag3d3/2的結(jié)合能,催化劑Ag/H-0.04、Ag/H-0.08和Ag/H-0.14均為373.9 eV,Ag/H-0.20的Ag3d3/2的結(jié)合能為373.6 eV,與標(biāo)準(zhǔn)Ag3d3/2的結(jié)合能374.05 eV相比均有所下降。文獻(xiàn)[12]指出,Ag的結(jié)合能隨氧化態(tài)的降低而增加,負(fù)的結(jié)合能表明Ag的存在形式可能是Ag+和Ag0,這種結(jié)合能降低是因?yàn)锳g納米粒子與HAP載體相互作用所致,因?yàn)锳g納米粒子與載體之間相互作用的增強(qiáng),提高了催化劑催化性能。在結(jié)合能為367.8 eV處有一特征峰,表明催化劑表面有Ag2O存在[21]。與UV-vis和H2-TPR表征結(jié)果一致,表明Ag/HAP催化劑中Ag主要以Ag0和Ag+的形式存在于HAP載體表面。如表2所示,Ag0/Ag+隨著賴(lài)氨酸濃度增加從1.62增加到2.06,并且含量逐漸提高,表明Ag0為催化劑的主要活性組分。
(1)通過(guò)調(diào)控賴(lài)氨酸濃度制備出不同尺寸的HAP納米棒,成功制備出一種高分散且性能穩(wěn)定的Ag/HAP催化劑。
(2)在CO氧化反應(yīng)中Ag/HAP催化劑具有較高的催化活性,賴(lài)氨酸濃度為0.20 mol·L-1時(shí),制備的Ag/HAP催化劑催化性能最好,在空速為60 000 mL·(g·h)-1條件下,190 ℃即可實(shí)現(xiàn)CO的完全轉(zhuǎn)化。
(3)表征結(jié)果表明,Ag納米粒子高度分散于HAP載體表面,主要以Ag0和Ag+形式存在,Ag0納米粒子為Ag/H-X催化劑的主要活性組分,與HAP之間的羥基形成強(qiáng)相互作用,有利于較低溫度下實(shí)現(xiàn)CO氧化,克服了傳統(tǒng)Ag基催化劑不穩(wěn)定和反應(yīng)活性低的缺點(diǎn)。