人工晶體學(xué)報(bào)
綜合評(píng)述
研究論文
- 鉭酸鋰電光調(diào)Q晶體開(kāi)關(guān)的制備研究
- 鈦酸鍶單晶體生長(zhǎng)工藝研究
- NV色心濃度與退火溫度的Boltzmann模型
- 核殼結(jié)構(gòu)Fe3O4@ZnO納米粒子的制備及電磁波吸收性能研究
- Ti5Al2C3與Ti2AlC、Ti3AlC2結(jié)構(gòu)、彈性和電子性質(zhì)的第一性原理對(duì)比研究
- ZnO (110)單層膜對(duì)O的自吸附及其電子結(jié)構(gòu)的研究
- 不同磁控濺射方式制備的C摻雜h-BN薄膜微觀結(jié)構(gòu)與導(dǎo)電性研究
- 磁場(chǎng)下Bi-2223/Ag異質(zhì)結(jié)的光伏效應(yīng)研究
- Li2CO3-Y3+共摻雜TiO2納米材料的制備及光催化性能的研究
- 不同形貌WO3的制備及其可見(jiàn)光催化性能研究
- Co2O3/石墨烯復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)及電化學(xué)性能研究
- 尺寸對(duì)NaYbF4納米晶活性氧產(chǎn)生速率的影響
- 鈮酸鋰晶體的研磨損傷層研究
- 單晶硅太陽(yáng)電池黑角問(wèn)題的研究
- 近紫外激發(fā)Ca2NaMg2V3O12∶Sm3+熒光粉的制備及發(fā)光性能
- Ag3PO4量子點(diǎn)修飾Ag3PO4/Bi2WO6異質(zhì)光催化劑的構(gòu)筑及其可見(jiàn)響應(yīng)活性增強(qiáng)機(jī)制
- SiNX覆蓋層厚度對(duì)非晶In-Ga-Zn-O薄膜退火晶化的影響研究
- Al2O3晶型對(duì)K2WO4/Al2O3物化性質(zhì)及催化合成甲硫醇的影響
- 1,2,3-三唑二羧酸鎘(II)配位聚合物的合成、晶體結(jié)構(gòu)與性質(zhì)
- 正交法優(yōu)化ZnO/MMT抗菌材料制備條件及抑菌活性研究
- 表面活性劑改性碳?xì)饽z吸附亞甲基藍(lán)性能的研究
- rGO/Ag0.005Sn0.995Se熱電復(fù)合材料的制備及性能研究
- 燒結(jié)溫度對(duì)(Ba0.85Ca0.15)(Ti0.9Hf0.1)O3陶瓷壓電性能的影響
- 微反應(yīng)法連續(xù)制備納米Li2CO3 的研究
- 透輝石微晶玻璃的低溫?zé)Y(jié)制備及性能表征