電子信息制造業(yè)產(chǎn)值增長專利作用

魏延輝，張慧穎，魏　靜

(1.天津大學(xué)管理與經(jīng)濟學(xué)部,天津　300072；2.天津大學(xué)教育學(xué)院,天津　300072)

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電子信息制造業(yè)產(chǎn)值增長專利作用

魏延輝1，張慧穎1，魏靜2

(1.天津大學(xué)管理與經(jīng)濟學(xué)部,天津300072；2.天津大學(xué)教育學(xué)院,天津300072)

摘要：本文以電子信息制造業(yè)為例，從產(chǎn)業(yè)視角分析了專利數(shù)量對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟增長的主要影響因素和影響效應(yīng)，分析產(chǎn)業(yè)內(nèi)各行業(yè)貢獻差異與動態(tài)變化規(guī)律，研究電子信息制造業(yè)產(chǎn)值增長專利作用機理，為產(chǎn)業(yè)發(fā)展及相關(guān)政策制定提供有益借鑒。

關(guān)鍵詞：電子信息制造業(yè)；專利制度；經(jīng)濟增長；效率因素；效應(yīng)關(guān)系

1引言

2015年2月10日，國家發(fā)改委公布了對高通公司高達9.75億美金的處罰決定，創(chuàng)下了中國反壟斷處罰新高。此案例讓世人更深刻地認識到專利制度是把雙刃劍，既可以成為千里馬，助企業(yè)加速發(fā)展，也可成為脫韁野馬，破壞市場?？v觀人們對專利制度促進經(jīng)濟增長作用的認識，從最初非白即黑的靜態(tài)認識，到逐漸發(fā)生變化的U型關(guān)系的動態(tài)認識；從簡單的有利或有害的單效應(yīng)，到正負效應(yīng)并存的多效應(yīng)；從國家發(fā)達程度論、經(jīng)濟發(fā)展水平論、技術(shù)相對優(yōu)勢論，到區(qū)域、產(chǎn)業(yè)效應(yīng)差異說。時至今日，單獨爭論專利制度是否有利于經(jīng)濟增長是不夠的，在專利制度已經(jīng)成為國際經(jīng)濟關(guān)系最基本的行為準則，成為發(fā)展市場經(jīng)濟的重要法律依據(jù)的今天[1]；在專利成為企業(yè)開疆辟土、攻城掠寨的攻防利器[2]，專利競爭已是當(dāng)代企業(yè)國際科技競爭和經(jīng)濟競爭的戰(zhàn)略制高點的時代；在擁有專利的數(shù)量和質(zhì)量以及運用專利的能力和水平，已是衡量企業(yè)乃至國家或地區(qū)綜合實力重要指標的國際背景下，使專利制度如何促進及如何能更高效地促進經(jīng)濟增長顯得更為關(guān)鍵。這主要涉及兩方面研究：一是專利制度效率影響因素研究，即如何提高專利制度運營效率，使專利制度更好地發(fā)揮職能；二是專利制度與經(jīng)濟增長的效應(yīng)關(guān)系研究，主要是專利制度對經(jīng)濟增長的效果影響因素研究，即各種專利制度相關(guān)因素會對經(jīng)濟產(chǎn)生什么樣的影響。只有將二者有機整合，才能完整地構(gòu)成專利制度作用經(jīng)濟的動態(tài)有機鏈條，才能準確地把握專利制度作用經(jīng)濟的內(nèi)在驅(qū)動機理，才能更好地提高專利制度對經(jīng)濟的協(xié)同作用。但是關(guān)于這方面的耦合研究仍比較匱乏，一般為國家宏觀視角單因素分析[3]，因此本研究嘗試在相關(guān)文獻梳理的基礎(chǔ)上，將專利制度對經(jīng)濟增長作用的影響因素、影響效應(yīng)，結(jié)合具體產(chǎn)業(yè)——電子信息制造業(yè)進行分析，進一步厘清專利制度與經(jīng)濟增長關(guān)系的內(nèi)在機理，實現(xiàn)對經(jīng)濟發(fā)展的創(chuàng)新驅(qū)動。

2文獻綜述

隨著大數(shù)據(jù)時代的來臨、法學(xué)外的新學(xué)科體系的加入，人們對專利制度本身及其作用的系統(tǒng)認識進入到了全新階段。社會學(xué)、經(jīng)濟學(xué)、管理學(xué)對其作用越來越突顯[4]，信息學(xué)及系統(tǒng)論、營銷學(xué)等學(xué)科也必將對專利制度的發(fā)展產(chǎn)生深遠影響[5]。專利制度作為知識產(chǎn)權(quán)制度的重要組成部分，其對經(jīng)濟增長的機理成為近年來理論界關(guān)注的熱點，實踐界也越來越認識到科學(xué)運用專利制度的戰(zhàn)略重要性。中國專利立法已有30年，但是中國企業(yè)國際市場被動應(yīng)訴仍常見報端[6]。專利制度本身并非必然推動一個國家的科技進步和經(jīng)濟發(fā)展，專利制度也不是與企業(yè)創(chuàng)新有必然聯(lián)系[7]。專利制度利用不當(dāng)，很可能會破壞市場公平競爭，成為造就“高通現(xiàn)象”的溫床。但專利制度建立的本質(zhì)是為了激勵創(chuàng)新，專利制度與經(jīng)濟增長存在相關(guān)關(guān)系成為多數(shù)研究者共識，然而其對經(jīng)濟增長的作用方式與方向，爭論從來就沒停止過。

2.1專利制度對經(jīng)濟增長的影響效率因素研究

影響效率因素是指與專利制度對經(jīng)濟增長作用強度相關(guān)的因素，有關(guān)這方面的研究可使專利制度更高效地發(fā)揮職能。研究主要圍繞兩方面：一是對專利制度自身剛性因素設(shè)計與柔性因素調(diào)整的研究，二是對專利制度外部宏觀環(huán)境因素的影響和專利制度作用具體微觀對象研究。

(1)剛性專利法律制度與柔性專利政策。完善專利法律制度剛性因素研究，主要是對專利長寬高的取舍平衡，通過對其優(yōu)化可提供更好的創(chuàng)新激勵，從而進一步促進經(jīng)濟增長。例如關(guān)于專利長度的研究表明，無限專利效期不能實現(xiàn)社會整體最優(yōu)，有限專利效期在平衡增長路徑上可以使社會效益最大化[8]；對專利寬度、高度的研究結(jié)論也類似。專利寬度可以理解為某種專利對于相關(guān)行業(yè)的外延性，有研究者將其視為柔性因素，認為一個靈活的專利體制應(yīng)該允許不同產(chǎn)業(yè)間差異性專利寬度水平的存在[9]。專利高度是指專利的創(chuàng)新程度或水平，即比原有的技術(shù)提高到什么程度才可以授予專利。專利長寬高依據(jù)法律條文，應(yīng)遵循或達到一定的標準，在實踐過程中很難做到量體裁衣，即使現(xiàn)實操作存在差異，在后續(xù)專利執(zhí)行標準中一般也要遵行先例，不宜標準不一，因此上述因素應(yīng)主要歸為剛性因素。而對于一些行業(yè)、產(chǎn)業(yè)、區(qū)域的專利相關(guān)辦法、政策，相較法律條文，其靈活性要大得多，比如專利獎勵政策[2]，專利補助政策及其他各種政策，可以因地制宜，更具柔性特點。這些柔性因素的研究成為近年來學(xué)術(shù)界關(guān)注的重點，研究者主要圍繞如何運用專利政策，對剛性因素進行優(yōu)化調(diào)整[10]，協(xié)調(diào)區(qū)域和產(chǎn)業(yè)發(fā)展，實現(xiàn)專利制度對經(jīng)濟增長的促進和社會效益的提高。

(2)專利制度宏觀環(huán)境與專利制度作用微觀對象。專利制度宏觀環(huán)境主要指專利制度與市場結(jié)構(gòu)[7]、專利服務(wù)環(huán)境、專利治理環(huán)境研究等。專利與壟斷關(guān)系密切，專利技術(shù)所在領(lǐng)域的競爭程度與企業(yè)專利策略聯(lián)系緊密；專利服務(wù)環(huán)境主要是對于專利創(chuàng)造、專利運用、專利保護、專利管理等相關(guān)領(lǐng)域提供信息、協(xié)同服務(wù)；專利治理涉及專利的責(zé)權(quán)利約束機制設(shè)計等，專利制度經(jīng)濟效率客觀上受到上述宏觀環(huán)境制約。

專利制度作用具體微觀對象研究主要包括：專利制度對應(yīng)用專利的商品價格影響、專利的凈損失、專利被模仿的難易程度、專利的替代品和互補品、專利的彈性、專利歧視價格等因素。值得注意的是，技術(shù)自身的復(fù)雜性會影響其是否專利化的決定，因為它可以保障發(fā)明者在一定時期的壟斷地位。如果產(chǎn)品的周期很短，創(chuàng)新者更愿意去將那些不進行專利保護就無法獲得壟斷利潤的產(chǎn)品進行專利化。另外專利寬度可防止競爭者在專利技術(shù)的周邊進行模仿或小改進，以減少其替代品。

2.2專利制度對經(jīng)濟增長的影響效應(yīng)研究

正是由于受到諸如上述眾多因素的共同作用，導(dǎo)致了專利制度對經(jīng)濟增長效應(yīng)研究成為一個變量。專利制度對經(jīng)濟增長的效應(yīng)可視為專利作用經(jīng)濟的效果，現(xiàn)有的專利制度對經(jīng)濟增長的效應(yīng)研究可分為靜態(tài)效應(yīng)論和動態(tài)效應(yīng)論兩類。

(1)靜態(tài)效應(yīng)論。靜態(tài)效應(yīng)論包括正效應(yīng)說和負效應(yīng)說兩種，兩者的爭論伴隨著專利制度的發(fā)展至今沒有真正停止。正效應(yīng)說的支持者認為專利制度有利于經(jīng)濟增長，其依據(jù)是專利制度激勵技術(shù)開發(fā)與創(chuàng)新，是諸如醫(yī)藥類行業(yè)發(fā)展的必要條件，對引進外資、對外貿(mào)易、引進技術(shù)作用顯著。負效應(yīng)說則持相反觀點，認為專利制度會產(chǎn)生凈損失[10]，造成壟斷，催生專利叢林[11]，滋生專利流氓。一些企業(yè)申請專利并不是為了創(chuàng)新，而是為對手制造障礙，或?qū)＠?dāng)成一種勛章，申請專利成為其炫耀的資本和牟取各種市場外資源的手段[12]。

(2)動態(tài)效應(yīng)論。動態(tài)效應(yīng)論認為專利制度對經(jīng)濟增長的作用是變化的。按其依據(jù)的標準不同，即按其效應(yīng)表現(xiàn)的取決因素的差異，又可以分為四種：一是國家發(fā)達程度論，即效應(yīng)表現(xiàn)取決于國家的相對發(fā)達程度，通常對發(fā)達國家經(jīng)濟更有利；二是經(jīng)濟發(fā)展水平論，認為效應(yīng)的表現(xiàn)取決于國家的發(fā)展階段，在國家發(fā)展不同階段專利制度的作用不同；三是技術(shù)相對優(yōu)勢論，認為效應(yīng)的表現(xiàn)取決于國家的技術(shù)相對優(yōu)勢，當(dāng)技術(shù)處于優(yōu)勢地位時，專利制度對該國經(jīng)濟有利；四是多效應(yīng)關(guān)系論，認為效應(yīng)的表現(xiàn)是多效應(yīng)共同作用的顯性結(jié)果，專利制度對經(jīng)濟增長的效應(yīng)不是一成不變的，是動態(tài)的，也不是非此即彼的，是正負效應(yīng)同時存在、共同作用的結(jié)果[12]，某產(chǎn)業(yè)在某階段所表現(xiàn)出的效應(yīng)只是當(dāng)前階段的各類效應(yīng)共同作用的顯性結(jié)果。

2.3已有研究評述

上述研究并不能簡單進行優(yōu)劣之分，其結(jié)論都是在一定客觀時空條件下實證的結(jié)果，研究通過理論分析和實證探索較好地考察了專利制度對經(jīng)濟增長的效應(yīng)，但仍存在一些問題。特別是動態(tài)效應(yīng)論，看起來更有道理。但是專利制度對經(jīng)濟增長影響具有復(fù)雜性和多面性，如果拋開外在環(huán)境去分析兩者的關(guān)系則很難得到一致觀點[13]。已有研究或者是研究效率影響因素，或者是研究專利效應(yīng)，這種割裂研究存在一定不足，對于經(jīng)濟增長的專利效率和專利效果影響因素耦合分析，才能真正挖掘?qū)＠贫葷撃軝C理，進而完善、優(yōu)化專利制度。耦合本是物理學(xué)概念，指兩個或兩個以上的系統(tǒng)或運動方式之間通過各種相互作用而彼此影響以至聯(lián)合起來的現(xiàn)象,是在各子系統(tǒng)間的良性互動下相互依賴、相互協(xié)調(diào)、相互促進的動態(tài)關(guān)聯(lián)關(guān)系。通過對專利制度效率因素、效應(yīng)關(guān)系的文獻分析不難發(fā)現(xiàn)，各種效應(yīng)的表現(xiàn)是客觀因素作用的結(jié)果，因此有必要對兩者統(tǒng)一分析做進一步努力。但如果要精準研究專利制度對經(jīng)濟增長的效果，則有必要結(jié)合具體產(chǎn)業(yè)。因行業(yè)之間存在異質(zhì)性，即不同行業(yè)專利傾向差異很大[14]，不同產(chǎn)業(yè)的市場結(jié)構(gòu)及產(chǎn)業(yè)動力不同。有些產(chǎn)業(yè)具有較低的技術(shù)進入門檻，創(chuàng)業(yè)者和創(chuàng)新活動在該產(chǎn)業(yè)中作用突出，而另有產(chǎn)業(yè)大型企業(yè)占據(jù)主導(dǎo)地位，進入門檻較高，如CPU制造業(yè)。還有的行業(yè)發(fā)展主要依靠自然的演進，或依靠資本的驅(qū)動。綜上，本研究選取在國民經(jīng)中占有重要比重，同時專利活動又較為活躍的電子信息制造業(yè)為研究對象，基于效率因素和效應(yīng)關(guān)系的耦合視角，研究產(chǎn)業(yè)的專利數(shù)量與產(chǎn)值關(guān)系，從根本上分析其內(nèi)在聯(lián)系。

3解決思路與假設(shè)提出、數(shù)據(jù)來源、描述統(tǒng)計

以一個產(chǎn)業(yè)為例考慮專利時，其產(chǎn)業(yè)核心技術(shù)大多處于中上游，對下游產(chǎn)品的提升起到至關(guān)重要的作用。因此研究專利數(shù)量與產(chǎn)值的關(guān)系，所選范圍既不宜過大，也不宜過小，以免有失偏頗。將研究集中于電子信息制造業(yè)及其內(nèi)部子行業(yè)，既可避免樣本范圍過大、行業(yè)過多降低效度，也可避免單類商品代表性不強、偶然性因素增多，干擾了對專利數(shù)量與產(chǎn)值關(guān)系顯著性判斷。本文假設(shè)在電子信息制造業(yè)內(nèi)部專利數(shù)量與電子信息制造業(yè)產(chǎn)值之間存在相關(guān)關(guān)系，專利的申請數(shù)量可以代表該產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展水平，該行業(yè)技術(shù)發(fā)展水平越高，發(fā)展越好，專利申請數(shù)量越多。假設(shè)模型如下：

(1)

式中，Yit為i行業(yè)t期產(chǎn)出；A是常數(shù)，代表除資本(K)、勞動力(L)、專利技術(shù)(P)以外促進產(chǎn)出增長的因素，如環(huán)境、教育等；α、β、γ是相應(yīng)底數(shù)對因變量產(chǎn)出彈性。推導(dǎo)可得：

lnYit=lnA+αlnKit+βlnLit+γlnPit

(2)

通過對2003—2013年電子信息制造業(yè)工業(yè)生產(chǎn)總值、全社會固定資產(chǎn)投資總額、年平均就業(yè)人數(shù)、專利申請數(shù)量的相關(guān)資料進行統(tǒng)計分析，測算專利的貢獻度。利用GDP平減系數(shù)對金額進行處理，以去除價格影響，以2002年價格水平為基期。數(shù)據(jù)來源于2004—2014年《中國高技術(shù)產(chǎn)業(yè)統(tǒng)計年鑒》等官方數(shù)據(jù)。本文以電子信息制造業(yè)為研究對象，選取10個子行業(yè)進行分析研究。在10個子行業(yè)內(nèi)部專利創(chuàng)造能力差異明顯，極大值在11年中均發(fā)生在通信設(shè)備制造業(yè)，說明該領(lǐng)域創(chuàng)新活動活躍，近年來電子器件制造業(yè)和電子元件制造業(yè)也保持了較快的上升勢頭，大有趕超通信設(shè)備制造業(yè)之勢。而極小值則是不斷變化，雷達及配套設(shè)備制造業(yè)和辦公設(shè)備制造業(yè)時而交替，這可能與這兩個行業(yè)個體發(fā)展階段和市場競爭特點有關(guān)。各子行業(yè)專利數(shù)量差距的絕對量指標在逐年加大，但是表示離散程度的相對量指標變異系數(shù)在前5年整體為差距加大趨勢，在后6年整體為差距減小趨勢。證明在電子信息制造業(yè)內(nèi)部子行業(yè)創(chuàng)新能力存在異質(zhì)性，市場競爭格局與行業(yè)內(nèi)部發(fā)展勢頭出現(xiàn)多元化，見圖1。

圖1　2003—2013年中國電子信息制造業(yè)子行業(yè)專利申請數(shù)量差異

4回歸方法選擇及實證

4.1面板回歸方法

除常見的混合最小二乘(PE)估計、固定效應(yīng)(FE)回歸估計和隨機效應(yīng)(RE)回歸三種方法外，還選擇廣義最小二乘法(GLS)供對照，以克服可能產(chǎn)生的誤差，消除可能存在的異方差性和序列相關(guān)性。

4.2專利數(shù)據(jù)實證

本文分別采用上述方法進行估計，結(jié)果見表1。

表1　2003—2013年面板數(shù)據(jù)回歸結(jié)果

注：***、**、*分別代表p值0.01、0.05和0.10，下同。

表1以2003—2013年數(shù)據(jù)為研究對象進行分析，進一步分為兩階段精細化分析，原因有二：①從圖1可發(fā)現(xiàn)變異系數(shù)曲線在2007年后出現(xiàn)轉(zhuǎn)折，有必要分兩個階段對比分析；②本文在建立模型時是以專利數(shù)代表技術(shù)水平，假設(shè)當(dāng)該行業(yè)技術(shù)發(fā)展水平越高，發(fā)展得越好，專利申請數(shù)量越多，這條假設(shè)要求分析對象時間跨度不宜太大，但如果分析時間太短又會影響回歸結(jié)果的顯著性，綜合權(quán)衡，分為兩階段進行分析，分階段回歸結(jié)果見表2。

表2　分階段面板數(shù)據(jù)回歸結(jié)果

注：因分析時間較短，為保證回歸結(jié)果無偏性，提高其有效性和一致性，最后一列對其取均值,供參考。

4.3變系數(shù)子行業(yè)面板回歸

運用變系數(shù)面板回歸模型對電子信息制造業(yè)各個子行業(yè)分別進行回歸，結(jié)果見表3。

從回歸結(jié)果看，多數(shù)數(shù)據(jù)通過了顯著性檢驗。10個子行業(yè)中9個專利對產(chǎn)值的產(chǎn)出彈性(γ)是正值，只有電子計算機外部設(shè)備制造是負值。

4.4計算結(jié)果分析

以下重點分析觀察專利產(chǎn)值彈性γ的變化規(guī)律。

(1)觀察回歸結(jié)果中專利制度對產(chǎn)值作用的方向。系數(shù)正負差異說明專利制度對不同子行業(yè)有的是促進作用、有的是阻礙作用，目前階段起促進作用的多于起阻礙作用的行業(yè)，對整個產(chǎn)業(yè)而言是起促進作用。

表3　電子信息制造業(yè)子行業(yè)面板回歸

(2)分析專利制度對產(chǎn)值的作用強度。電子計算機整機制造業(yè)專利對產(chǎn)值彈性只有0.04，不及電子元件制造業(yè)的1/6。還有的行業(yè)彈性為負，首先說明在該行業(yè)中負效應(yīng)因素強于正效應(yīng)因素；其次要努力降低負效應(yīng)因素的影響；再次，對于具體的行業(yè)——電子計算機外部設(shè)備制造業(yè)而言，要找尋原因，從國家、產(chǎn)業(yè)、企業(yè)不同層面尋求解決路徑。

(3)回歸系數(shù)的動態(tài)變化。系數(shù)大小是動態(tài)變化的，通過前后階段的動態(tài)對比后6年的專利平均產(chǎn)出彈性為0.13，較前5年有所下降，而資本的平均產(chǎn)出彈性由0.32降為0.10。

(4)電子信息制造業(yè)專利的經(jīng)濟貢獻。經(jīng)測算專利的產(chǎn)出彈性為0.13～0.17，2003—2013年電子信息制造業(yè)專利申請年平均增長速度28.59%，據(jù)此計算，對電子信息制造業(yè)產(chǎn)值而言，專利年均貢獻3.72%～4.86%的經(jīng)濟增長率。

(5)電子計算機外部設(shè)備制造業(yè)專利彈性為負，再次直觀證實專利制度是一把雙刃劍，專利數(shù)量的增多在不同行業(yè)的特定階段不一定都是伴隨產(chǎn)值的增長，有的行業(yè)可能是負增長。對于行業(yè)政策的制定應(yīng)做到政策柔性，對專利彈性是負值的行業(yè)，第一，應(yīng)慎用專利申請的獎勵與補助政策，找出專利彈性為負是專利自身質(zhì)量原因還是產(chǎn)業(yè)競爭的結(jié)果，是產(chǎn)業(yè)內(nèi)部原因還是外部環(huán)境影響。產(chǎn)業(yè)內(nèi)部原因例如該行業(yè)已經(jīng)落后，在消費領(lǐng)域被市場逐漸淘汰，或者技術(shù)過于超前，未被市場廣泛認可，這兩種情況在產(chǎn)業(yè)發(fā)展的特定時點都可能存在。第二，當(dāng)以一個產(chǎn)業(yè)為例考慮專利時，其產(chǎn)業(yè)核心技術(shù)大多處于中上游，對下游產(chǎn)品的提升起到至關(guān)重要的作用，這是分析實際情況時必須考慮的要素。此外，一些基礎(chǔ)性研究專利其市場影響力可能是跨行業(yè)的，也可能是間接的，難以測量的。第三，即使在電子信息制造業(yè)某個子行業(yè)內(nèi)部，子行業(yè)中情況也比較復(fù)雜，子行業(yè)間產(chǎn)品成熟度、行業(yè)競爭格局差異較大，更會影響分析結(jié)果，這時單純的模型數(shù)據(jù)簡單化地說明現(xiàn)實復(fù)雜情況往往也只是統(tǒng)計學(xué)意義上的顯著，說明子行業(yè)當(dāng)前階段的平均狀況，具體到某項專利和產(chǎn)品，又涉及前文論述的各類情況，要求緊密與實際情況相結(jié)合，以免有失偏頗。此外，對于彈性為正的行業(yè)，也要關(guān)注強度的變化，通過分析調(diào)整產(chǎn)業(yè)的發(fā)展方向和發(fā)展模式，調(diào)控預(yù)期，合理布局，宏觀掌控，調(diào)整政策的作用方向和方式，實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)向良性發(fā)展。

5結(jié)語

本文以電子信息制造業(yè)為例，通過對其效率影響因素和效應(yīng)關(guān)系耦合分析，探尋專利制度優(yōu)化路徑，提出專利制度運用要剛?cè)岵浞掷梅杉罢吖ぞ?，結(jié)合宏觀環(huán)境與微觀作用對象，才可能真正駕馭專利制度這匹良駒。同時，只有市場經(jīng)濟充分發(fā)育、只有通過激發(fā)有效的利用機制，專利制度才能實現(xiàn)設(shè)計目標；專利制度的利用，存在國家、政府、企業(yè)、社會等多層面、多角度定位問題；對經(jīng)濟增長的影響是動態(tài)變化的，在產(chǎn)業(yè)發(fā)展過程中，要注意專利制度的針對性、時效性與協(xié)同性，使專利制度從本國的國情、實際出發(fā)，成為最適合的專利制度；注重產(chǎn)業(yè)的發(fā)展階段，將專利制度特征與產(chǎn)業(yè)特征、區(qū)域特征、階段特征相結(jié)合。在專利制度效應(yīng)改進時，要考慮專利效率影響因素，反之在專利制度效率提升過程中，也要考慮其與經(jīng)濟的效應(yīng)關(guān)系，實現(xiàn)效率因素和效應(yīng)關(guān)系的耦合。受到分析工具局限，通過計量模型將專利制度作用經(jīng)濟的復(fù)雜機理進行完整的概括還存在一定不足，這需要在未來研究中進一步改進和完善。

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(責(zé)任編輯沈蓉)

Patent Impact on the Output Value of Electronic and Information Manufacturing Industry

Wei Yanhui1,Zhang Huiying1,Wei Jing2

(1.College of Management and Economics，Tianjin University，Tianjin 300072，China;2.School of Education，Tianjin University，Tianjin 300072，China)

Abstract：Existing studies examining the relationship between patent system and economic growth were mostly from a single perspective，among which，the most representative may be from the perspectives of patent system efficiency and patent system effect.The former emphasizes an optimization of patent system and calls for reasonable adjustment between rigid factors and flexible policies；and the latter concerns for the effect relationship between patent system and economic growth with characteristics and conditions of patent system effect as its focuses.Mostly，the two kinds of studies were isolated，which ignore industrial heterogeneity.Such is hard to comprehensively disclose the internal mechanism between patent system and economic growth，as well as patent system potential.By measuring and analyzing the dynamic relationship between patent filings and output values of electronic and information manufacturing industry，this study tries to find out the influencing factors and influencing effects of patent filings upon economic growth from an industrial perspective and explore contribution differences and dynamic variation rules between sectors within the industry.By disclosing patent impact on the output value of electronic and information manufacturing industry，the study provides new evidence and references for future industrial development and related policy making.

Key words:Electronic information manufacturing industry；Patent system；Economic growth；Influencing factors；Effect relationship

中圖分類號:F426

文獻標識碼:A

作者簡介:魏延輝(1976-)，男，黑龍江嫩江人，天津大學(xué)管理與經(jīng)濟學(xué)部博士研究生；研究方向：創(chuàng)新管理，知識產(chǎn)權(quán)管理。

收稿日期:2015-06-29

基金項目:科技部科技支撐計劃“綠色校園建設(shè)及管理關(guān)鍵技術(shù)開發(fā)與示范”(2012BAC13B05)，國家知識產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略實施研究基地 2013 年度專項研究任務(wù)“專利制度對電子信息產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟的影響研究”(ZX130403)，國家知識產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略實施研究基地 2014 年度專項研究任務(wù)“知識產(chǎn)權(quán)資產(chǎn)屬性與資產(chǎn)管理研究”(ZX140403)。