健康成人30 例顳上溝MRI 形態(tài)特征分析

石祖強，曹衛(wèi)民

臨床上應(yīng)用導(dǎo)航神經(jīng)外科技術(shù)及微侵襲性外科技術(shù)的主要目的就是最大限度地在保護(hù)腦組織功能的前提下切除病灶，而從生理腦溝入路進(jìn)行大腦內(nèi)某些病灶的微創(chuàng)手術(shù)。由于不破壞腦本身的結(jié)構(gòu)，損傷小、后遺癥少，術(shù)后患者恢復(fù)好，現(xiàn)在已被臨床醫(yī)生接受和廣泛采用。詳細(xì)的顳葉內(nèi)面的局部解剖以及和顳上溝周圍鄰近區(qū)域的關(guān)系的描述將非常有意義，為術(shù)前計劃的制定和后續(xù)手術(shù)對策成功的實現(xiàn)提供可靠的基礎(chǔ)理論支持。本研究基于連合間徑對矢狀斷層上顳上溝進(jìn)行分段統(tǒng)計，并以矢狀斷層影像為參照，利用eFilm 軟件的“3D-Cursor”功能，探尋顳上溝在橫斷面、矢狀面斷層影像上的形態(tài)學(xué)規(guī)律，使得人們能夠快速準(zhǔn)確地識別顳上溝及其周圍區(qū)域的重要結(jié)構(gòu)，以期為顳上溝區(qū)域斷層影像定位及手術(shù)方案的擬定提供相關(guān)解剖學(xué)標(biāo)志和解剖學(xué)指導(dǎo)。

1 資料與方法

1.1 資料 樣本數(shù)據(jù):本實驗從蚌埠醫(yī)學(xué)院第一附屬醫(yī)院磁共振室獲取30 例成年志愿者頭顱MR 圖像，男16 例，女14例，年齡18～65 歲，其中18～50 歲19 例，51～70 歲8 例，71～80 歲3 例，平均年齡48.7 歲。臨床門診體檢及MRI 顱腦檢查無神經(jīng)、精神病史及家族史。以AC-PC 線為掃描基線，獲取30 例臨床常規(guī)3 mm 層厚橫斷層及7 mm 層厚矢狀斷層T1MR 圖像Dicom3.0 格式。

1.2 方法 采用GE Signa1.5T 超導(dǎo)磁共振成像系統(tǒng)及頭顱正交線圈;eFilm Workstation，Merge eMed Co.USA;Adobe Photoshop CS10.0，Adobe System Incorporateed，USA。以MRI 掃描基線為前聯(lián)合后緣中點到后聯(lián)合前緣中點的連線，即連合間徑(AC－PC)。掃描野FOV24.0 cm ×24.0 cm，分辨率512 ×512，點距0.46875 mm×0.46875 mm，自旋回波序列，TR:1850 ms～2000 ms，TE:15 ms～25 ms。橫斷面圖像以(AC－PC)平面為零層面，層厚2.5 mm，層間隔0.5 mm;矢狀面以頭顱正中矢狀面為零層面，層厚6 mm，層間隔1 mm，即層間距7 mm。掃描過程中嚴(yán)格保持頭顱固定。由于掃描野為大小不變的正方形，頭顱斷層影像域相對于正方形的4 個頂位置固定，圖像配準(zhǔn)通過正方形四個頂點自動完成，亦即圖像的大小，配準(zhǔn)信息包含于Dicom 3.0 格式的信息中，無需人工干預(yù)［1］。30 例頭顱連續(xù)MRI 斷層掃描數(shù)據(jù)，在微型計算機(jī)上以Dicom 3.0格式導(dǎo)入eFilm 2.1 工作站。通過eFilm 2.1 工作站中所具備的“基于連續(xù)斷層的結(jié)構(gòu)追蹤法”(連續(xù)追蹤法)［2］和“三維定標(biāo)法”(3D－Cursor)［3］功能，以矢狀斷層易識別的顳上溝為依據(jù)，識別橫斷層上的顳上溝，觀察總結(jié)其在橫斷面和矢狀面斷層上的解剖和形態(tài)特征，確定大腦顳上溝以及其與周圍結(jié)構(gòu)的解剖關(guān)系。對照觀察橫斷面和矢狀面圖像顳上溝結(jié)構(gòu)，觀察顳上溝外表面走行、位置及形態(tài)特點。

2 結(jié)果

2.1 大腦顳上溝在橫斷面上的識別 以大腦原點(AC －PC線的中點)為坐標(biāo)原點建立笛卡爾三維坐標(biāo)系，利用“3D －Cursor”技術(shù)識別30 例大腦顳上溝在薄層MRI 的形態(tài)特征。在eFilm2.1 工作站中，當(dāng)在矢狀面上將鼠標(biāo)箭頭指向顳上溝時，橫斷面上的“十”字指針隨箭頭聯(lián)動，提示此兩點為對應(yīng)點，用此法能準(zhǔn)確識別顳上溝在橫斷面上的表現(xiàn)(見圖1)。

2.2 顳上溝在橫斷面上的分段 研究發(fā)現(xiàn)顳上溝在橫斷面從下向上，從顱底部橫斷面上顳上溝的出現(xiàn)到顳上溝的消失，顳上溝的形態(tài)變化依次為斜形短溝(顳上溝開始出現(xiàn))、多溝表現(xiàn)(水平段)、拐點、淺“～”形長溝(升段)以及斜形短溝(顳上溝即將消失)。

經(jīng)第四腦室下方層面(Z = －36 mm，即AC －PC 下方第12 層面)該層面顳極已出現(xiàn)，顳上溝也隨之出現(xiàn)，從大腦表面由外上向內(nèi)下走行，位于大腦原點前方，呈一斜形短溝，由于顳上溝才開始出現(xiàn)，溝深入大腦內(nèi)部較短，故溝的形態(tài)為較短的斜溝。該層面可見第四腦室剛出現(xiàn)。見圖2A。

經(jīng)腳間池層面(Z= －12 mm，即AC－PC 下方第4 層面)在橫斷面上該層面顳上溝隨著層面的上升而向后移行，顳上溝表現(xiàn)為多條近乎平行的腦溝，是由于在矢狀面上的定位線切在顳上溝多峰的腦溝上而在橫斷面上表現(xiàn)出多溝形態(tài)，多溝分布在大腦原點前后。該層面可見中腦、中腦導(dǎo)水管、小腦蚓部、外側(cè)裂池及四疊體池。見圖2B。

經(jīng)AC－PC 層面(Z =0 mm，即AC －PC 層面)該層面顳上溝隨著層面的上升繼續(xù)向后移行，溝呈淺“～”形深入大腦內(nèi)部，溝深度比前層變大。該層面顳上溝在矢狀面上出現(xiàn)向后向上的與顳上溝水平段呈鈍角的拐點，在橫斷面上位于Y=0 后方，該層面可以見到前連合(AC)與(PC)，AC 與PC 連線的中點即為大腦原點。該層面可見尾狀核頭部、豆?fàn)詈伺c第三腦室。見圖2C。

經(jīng)側(cè)腦室中央部層面(Z=24 mm，即AC－PC 上方第8 層面)該層面顳上溝繼續(xù)向后移行，溝的形態(tài)和深度與上一層面變化不大，仍呈淺“～”形深入大腦內(nèi)部，該層面島葉消失，中線附近可見側(cè)腦室中央部及胼胝體干。見圖2D。

經(jīng)中央旁小葉中部層面(Z =48 mm，即AC －PC 上方第16 層面)該層面顳上溝繼續(xù)向后移行，大部分樣本的顳上溝已經(jīng)消失，溝走形變淺，呈短“一”字形，該層面可見中央旁小葉、楔前葉、緣上回、角回，顳上溝隨著角回的出現(xiàn)而消失。見圖2E。

圖1 三維定標(biāo)法對照觀察橫斷面與矢狀面MRI 圖像上顳上溝的形態(tài)特征。白箭頭示橫斷面上顳上溝位置，黃色“十”字指針 隨前者聯(lián)動，提示該取樣點與前者對應(yīng)。

圖2 典型層面橫斷層上顳上溝形態(tài)特征

3 討論

顳上溝位于外側(cè)裂下方，與之平行，由前下走向后上，后上端被角回包繞;它與下方與之平行的顳下溝將顳葉分為顳上回、顳中回和顳下回。顳上溝長度的測定:右側(cè)約為(9.3 ±0.4)cm，左側(cè)約為(7.8 ±0.1)cm［4］。而包繞于外側(cè)溝后升支和顳上溝后支周圍的腦回分別為緣上回和角回，它們構(gòu)成頂下小葉。因此在橫斷層掃描中可以外側(cè)溝后升支和顳上溝后支作為識別緣上回和角回的重要標(biāo)志［5］。

顳上溝在大腦溝回的發(fā)育上屬于一級腦溝，在大腦外表面是相當(dāng)恒定的腦溝，顳上溝是顳葉外表面主要的解剖學(xué)界標(biāo)，對手術(shù)與功能圖譜有重要作用。顳上溝在1895 年曾經(jīng)被Huxley、Pansch、Broca、Gratiolet、Ecker 分別稱為前顳溝、顳溝、第一顳溝、平行溝以及顳上溝。在大腦表面，左側(cè)顳上溝比右側(cè)更靠后，右側(cè)顳上溝溝深比左側(cè)明顯［6］。

在薄層MRI 對顳上溝的研究中，利用eFilm2.1 工作站觀察顳上溝的變化規(guī)律，發(fā)現(xiàn)在橫斷層從下向上，即從顱底部橫斷面顳上溝的出現(xiàn)至顱頂部顳上溝的消失，顳上溝的形態(tài)變化依次是:斜形短溝(顳上溝開始出現(xiàn))、多溝表現(xiàn)(水平段)、拐點、淺“～”形長溝(升段)以及斜形短溝(顳上溝即將消失)，且隨著層面的上升，顳上溝整體不斷后移。由于成年人腦溝、回的變異較大，即使是同一人的左右大腦半球相應(yīng)的溝、回形態(tài)也可不對稱，給MRI 圖像中腦溝、回的辨認(rèn)和定位帶來困難。如果利用單一征象識別腦溝容易出現(xiàn)誤差，而多個征象的結(jié)合則有助于腦溝、回及病變區(qū)的準(zhǔn)確定位。因此，總結(jié)出顳上溝在各層面上的形態(tài)變化規(guī)律，結(jié)合顳上溝的形態(tài)特征，可為影像醫(yī)生、臨床醫(yī)生在斷面上快速、準(zhǔn)確識別顳上溝及對其周圍區(qū)域病變進(jìn)行精確定位提供了幫助，此種顳上溝分段法也有利于在臨床應(yīng)用、影像診斷、解剖學(xué)教學(xué)中對顳上溝進(jìn)行描述，使得手術(shù)入路、影像診斷的定位更加確切。另一方面，本研究發(fā)現(xiàn)在顳上溝后部出現(xiàn)明顯向后上走行的呈較大鈍角的拐點，這是否與腦皮質(zhì)的發(fā)育速率以及功能區(qū)移行有關(guān)，還有待于進(jìn)一步的研究和文獻(xiàn)支持。

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