口內(nèi)支抗與微型種植體支抗近中移動下頜磨牙效果比較

[摘要]目的:研究安氏I類錯牙合患者中，分別采用微型種植體作支抗與口內(nèi)前牙作支抗近移下頜磨牙進行比較，以評價兩種方法的各自特點。方法:將24例成人患者隨機分成兩組，分別采用兩種方法近移下頜磨牙。測量下頜第二磨牙在移動速度和近遠中方向、垂直方向的位置變化，以衡量磨牙的位置改變，并通過下頜中切牙的位置變化，評價支抗強弱。結果:種植體作支抗組下頜第二磨牙平均近中移動8.5mm，療程10.4個月，平均移動速度0.82mm/月，磨牙長軸向近中傾斜2.5°，磨牙垂直向壓低0.28mm，下頜中切牙位置無改變。對照組下頜第二磨牙平均近中移動7.8mm，療程10.2個月，平均移動速度0.76mm/月，磨牙長軸向近中傾斜角度7.5°，磨牙垂直向壓低0.06mm，下頜中切牙發(fā)生舌向傾斜9.5°。下頜中切牙切端向舌側移動了3.0mm。結論:兩種方法比較，種植體的支抗更強，未見前牙支抗喪失。二者磨牙的移動方式有所區(qū)別。

[關鍵詞]磨牙近中移動;種植體支抗;口內(nèi)支抗;安氏I類錯牙合

[中圖分類號]R783.5[文獻標識碼]A [文章編號]1008-6455(2010)02-0251-03

Comparison of mesializing mandibular molar by micro implant anchorage and intraoral anchorage

GUO Jun，F(xiàn)A Yong-hong，CAI Xing-wei

(Department of stomatology，General Hospital of the Second Artillery，Beijing 100088，China)

Abstract:ObjectiveTo evaluate characters of micro-implant anchorage and intraoral anchorage during mandibular molars mesialization in Class I malocclusal patients. Methods24 patients were divided into two groups equally. Measuring position changes of mandibular molars from 2 aspects and implant anchorage loss by mandibular central incisor. ResultsIn implant anchorage group: the velocity of mandibular second molar mesializing was 0.82 mm per month， mesial tipping 2.5°， mandibular central incisor do not move.In intraoral anchorage group: the velocity of mandibular second molar mesializing was 0.76 mm per month， mesial tipping 7.5°， mandibular central incisor move bucally 3.0mm. ConclusionTwo methods successfully mesialized maxillary molars to appropriate positions. But implant anchorage is stronger than another. Then move mode of mandibular molar differenciate from each other.

Key words:molar mesialization;implant anchorage;intraoral anchorage;angle I malocclusion

在臨床工作中，經(jīng)常會遇到下頜第一磨牙缺失，但是下頜第二、第三磨牙均為正常位置而且大小、形態(tài)發(fā)育良好的病例。這時候正畸醫(yī)師就會考慮將下頜第二、第三磨牙整體前移，占據(jù)下頜第一磨牙缺失的位置[1]。問題的關鍵是下頜磨牙牙根較多，移動起來相對困難，支抗的選擇非常重要。本研究將臨床中常用的口內(nèi)支抗與種植體支抗作一比較，探討兩者的支抗強弱以及各自的作用特點。

1材料和方法

1.1臨床資料:患者24例(男10例，女14例)，年齡20～32歲，平均24.8歲。其中9例雙側下頜第一磨牙缺失，15例單側下頜第一磨牙缺失。將所有患者采用完全隨機化的分組方法分成兩組，每組12例。具體納入、排除標準如下:①年齡18～30歲;②雙側或單側第二磨牙為中性關系;③上下頜牙列正常或輕度擁擠;④下頜第一磨牙單側或雙側缺失，缺失側下頜第二、第三磨牙正常萌出;⑤上頜第三磨牙先天缺失或矯治前拔除;⑥側貌面型基本正常;⑦身體健康，未接受過正畸治療。

1.2 治療方法:分別采用微型種植體支抗與口內(nèi)支抗拉下頜磨牙近移。具體分組及臨床操作如下。

1.2.1第1組(種植體支抗組):所有患者均采用非拔牙矯治(上頜第三磨牙若萌出在則術前予以拔除)，常規(guī)裝配下頜方絲弓矯治器，排齊整平下頜牙列直至0.018\"×0.025\"不銹鋼方絲納入全部托槽。然后將種植體植入預定部位(下頜第一前磨牙和下頜第二前磨牙之間的頰側牙槽骨內(nèi))。術后口服抗生素3天，復方氯己定含漱液含漱一周，防止感染。2周后復診，種植體不松，周圍組織正常，則開始近移下頜磨牙的治療。將鎳鈦螺簧兩端分別固定于下頜第二磨牙帶環(huán)頰側拉鉤與種植體上，拉長6mm，力量約300g，每4周復診一次。弓絲末端打磨圓鈍，并且超出下頜第一磨牙頰面管末端約1.5mm，打彎緊貼于下頜第三磨牙頰面管。

1.2.2第2組(對照組):常規(guī)裝配下頜方絲弓矯治器，排齊整平下頜牙列直至0.018\"×0.025\"不銹鋼方絲納入全部托槽。從一側下頜第二前磨牙緊密結扎直至另一側下頜第二前磨牙，將鎳鈦螺簧兩端分別固定于下頜第二磨牙帶環(huán)頰側拉鉤與下頜第二前磨牙托槽翼上，拉長約6mm，力量約300g，每4周復診一次。弓絲末端打磨圓鈍，并且超出下頜第一磨牙頰面管末端約1.5mm，打彎緊貼于下頜第三磨牙頰面管。

1.3 測量方法:每一位患者治療前后均拍攝正中頜位頭顱定位側位片，所有X線片均由同一名口腔正畸科醫(yī)師在一段集中的時間內(nèi)用硫酸紙描圖、定點、測量，并進行計算。

1.4 X線片測量項目(如圖1)

1.4.1測量基準平面(線):①腭平面(Palatine Plane，PP):通過前鼻棘(ANS)與后鼻棘(PNS)連線的水平面;②翼上頜裂平面 (Pterygomaxillary Plane，PFP):通過翼上頜裂點(Ptm點)且垂直于腭平面的平面;③前顱底平面(Basicranial Plane，SN):通過蝶鞍點(S)與鼻根點(N)連線的平面。

1.4.2測量項目:①L7-SN角:下頜第二磨牙長軸與SN連線的夾角(前下角)，表示下頜第二磨牙的近中傾斜程度;②L7-PFP:測量下頜第二磨牙牙冠中點至翼上頜裂垂線的距離，表示下頜第二磨牙的矢狀位置;③L7-PP:測量下頜第二磨牙牙冠中點至PP平面的距離，表示下頜第二磨牙的垂直位置;④L1-SN角:下頜中切牙長軸與SN連線的夾角(前下角)，表示下頜中切牙長軸的改變;⑤L1-PFP距:下頜中切牙切緣至PFP平面的垂直距離，表示下頜中切牙的凸度。

2結果(見表1)

3討論

3.1種植體支抗強弱與穩(wěn)定性:隨著種植體支抗的日益廣泛應用，令正畸醫(yī)師頭疼的支抗控制問題，逐步得到了很好的解決[2]。下頜磨牙的近中移動需要強大的支抗支撐，利用傳統(tǒng)的支抗控制也可以達到目的。但與微型種植體支抗相比，二者究竟有何區(qū)別?本研究初步比較了兩種方法的異同。通過研究結果可以看到:種植體確實發(fā)揮了強大的支抗作用，下頜中切牙位置沒有發(fā)生改變;而口內(nèi)支抗組中，下頜中切牙發(fā)生舌向傾斜9.5°。下頜中切牙切端向舌側移動了3.0mm，支抗喪失比較明顯，對后期矯治增加了困難。需要筆者重點考慮的問題是防止種植體的脫落，國內(nèi)外相關報道微型種植體的脫落率是10%左右[3]。本研究共對12例患者植入了17枚種植體，無一脫落。成功的經(jīng)驗是:①選擇合適的病例:成年人骨質(zhì)密度高，鈣化程度好，有利于種植體與骨質(zhì)結合;②最好采用粘膜下種植方式:將牙齦粘膜切開，分離骨膜后，再將種植體植入;③注意植入的角度，盡量增加種植體與骨質(zhì)接觸面積，增加種植體植入角度[4];④負載力量不要過大。

3.2磨牙移動方式:當下頜第一磨牙缺失較長時間時，常常會伴有下頜第二磨牙的近中傾斜[6]。本研究采用的方法是先用Ni-Ti絲排齊整平下頜牙列，使下頜第二磨牙盡量接近于垂直位，必要時在臨床中結合不銹鋼方絲上的后傾曲來實現(xiàn)下頜磨牙的扶正[7]，這樣就為下一步的拉磨牙近中移動提供了便利條件。事實上，筆者不愿看到的磨牙近中傾斜移動也是支抗喪失的表現(xiàn)，而微型種植體在其中發(fā)揮了很好的支抗作用。通過研究結果可以看出:種植體作支抗組磨牙長軸向近中傾斜角度只有2.5°，對照組磨牙長軸向近中傾斜角度7.5°，二者有明顯的統(tǒng)計學差別。說明種植體支抗既避免了磨牙近移導致的前牙舌傾或遠中移動，又使磨牙接近于整體移動。利用前牙作支抗則不可避免地在以上兩方面都反映出了支抗的喪失，無形之中給后續(xù)治療增加了難度，延長了矯治時間。也有一部分患者由于失去了下頜第一磨牙，相對應的上頜第一磨牙就發(fā)生了伸長[8]，既破壞了與鄰牙正常的鄰接關系，又阻擋了下頜第二磨牙的近中移動，我們采取的方法還是利用微型種植體支抗，將其分別植入上頜第一磨牙的頰舌側來壓低磨牙，結果很快就取得了明顯的成效。為了使磨牙更接近于整體移動，矯治力的方向應該盡量接近磨牙阻抗中心[9]，而且是水平方向，通過選擇適當?shù)闹踩氩课缓褪┝Ψ较颍梢垣@得滿意的效果。

3.3下頜第三磨牙位置:它與下頜第二磨牙關系密切，緊密相聯(lián)。隨著第二磨牙的前移，第三磨牙也會隨之前移。要盡可能早地將第三磨牙納入矯治系統(tǒng)，以利于整體控制，但在拉第二磨牙近移的過程中，不要同時拉第三磨牙，種植體負載過大可能導致其脫落。

[參考文獻]

[1]耿春艷，段銀鐘，李 楠，等.安氏Ⅰ類錯牙合中第一磨牙缺失矯治設計的探討[J].中國美容醫(yī)學，2006，15(1):60-62.

[2]Marie A，Cornelis，Nicole R.Scheffler，Catherine Nyssen-Behets.Patients' and orthodontists' perceptions of miniplates used for temporary skeletal anchorage:A prospective study[J].Am J Orthod Dentofacial Orthop，2008，133(1):18-24.

[3]郭 軍，段銀鐘，鄭輝強，等.種植體與口外弓作支抗推上頜磨牙遠移的比較研究[J].中國美容醫(yī)學，2005，14(3):335-337.

[4]代 泉，陳江浩，周 洪.微種植體植入角度對微種植體穩(wěn)定性的影響[J].中國美容醫(yī)學，2009，18(2):217-219.

[5]胡湘權，孔衛(wèi)東.微螺釘種植體支抗的研究現(xiàn)狀[J].中國美容醫(yī)學，2006，15(6):748-749.

[6]G.E.Wise and G.J.King.Mechanisms of tooth eruption and orthodontic toothmovement[J].J Dent Res，2008，87(5):414-434.

[7]武紅梅，馮云霞，張春香，等.下頜第二磨牙傾斜或旋轉錯位的矯治[J].山西醫(yī)科大學學報，2007，38(11):1046-1048.

[8]毛麗霞，吳 勇，房 兵，等.種植支抗技術壓入伸長磨牙的近期療效觀察[J].上?？谇会t(yī)學，2007，16(5):475-479.

[9]郭 軍，段銀鐘，白宇明，等.三種推磨牙方法的臨床比較研究[J].中國美容醫(yī)學，2004，13(5):600-602.

[收稿日期]2009-12-02 [修回日期]2010-01-12

編輯/何志斌