江嘉喬,魯冰新,肖天亮,翟 錦
(北京航空航天大學(xué)化學(xué)學(xué)院,仿生智能科學(xué)與技術(shù)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京 100191)
納米離子通道具有離子選擇性、離子整流性和離子門控性3個(gè)重要的特征.其中,離子整流性(即離子在納米通道內(nèi)定向運(yùn)輸)是指在一定的外加電勢(shì)下,離子優(yōu)先從通道的一側(cè)向另一側(cè)進(jìn)行輸運(yùn),反過來(lái)幾乎不能通過,表現(xiàn)為類似二極管的整流性能.當(dāng)納米離子通道用于構(gòu)造具有整流性的器件時(shí),可在nA級(jí)別調(diào)控電流,此時(shí)離子通道體系在相反的外加電勢(shì)下可以測(cè)得非對(duì)稱的離子電流,因此,也被稱為納米流體二極管(Nanofluidic diode)[1~3].基于連續(xù)電荷的假設(shè),納米離子通道研究有許多理論模型.其中,Siwy等[4~7]對(duì)錐形納米通道電勢(shì)分布進(jìn)行了研究并提出靜電場(chǎng)的棘輪模型;Woermann等[8]則對(duì)錐形單納米通道的離子整流行為提出了一種半定量的理論模型,提出了擬合實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)電流的公式;Cervera等[9]提出了基于泊松-能斯特-普朗克(Poisson-Nernst-Planck,PNP)方程組的模型,該模型定量描述錐形通道中離子電流與電壓的關(guān)系.利用計(jì)算機(jī)在離子通道二維模型中求解PNP連續(xù)方程組最早由Daiguji 等[10]提出,它可以給出模型中電勢(shì)、離子濃度等物理量的分布.Cheng 等[11]對(duì)具有納米流體二極管性質(zhì)的多種離子通道實(shí)驗(yàn)體系和理論做了介紹和總結(jié).
在描述離子通道性質(zhì)的PNP方程模型中,泊松(Poisson)方程是描述靜電場(chǎng)分布的通用方程.而在恒溫條件下,對(duì)于納米離子通道,使用能斯特-普朗克(Nernst-Planck)方程進(jìn)行描述溶液中載流子的定向運(yùn)動(dòng),則是基于電化學(xué)液相傳質(zhì)理論中的擴(kuò)散-電遷移模型[12,13].根據(jù)經(jīng)典的半導(dǎo)體載流子輸運(yùn)理論,在恒溫條件下,半導(dǎo)體導(dǎo)電是由于電子、空穴兩種載流子通過濃度梯度形成的擴(kuò)散作用和電場(chǎng)下的漂移作用產(chǎn)生定向運(yùn)動(dòng)形成電流,該模型稱為擴(kuò)散-漂移(Diffusion-drift)模型[14,15].比較兩種模型,半導(dǎo)體的擴(kuò)散電流與溶液的擴(kuò)散電流之間、半導(dǎo)體的漂移電流和溶液的電遷移電流之間有相同的描述形式,即各自的載流子輸運(yùn)都可以通過能斯特-普朗克方程描述.
PN結(jié)二極管是一種典型的半導(dǎo)體[14~16].對(duì)于理想二極管模型,通過二極管的電流對(duì)其兩端電壓呈指數(shù)函數(shù),當(dāng)反向偏壓逐漸增大且未擊穿時(shí),對(duì)應(yīng)反向電流將趨于飽和電流(Saturated current).仿真電路模擬器(Simulation Program with Integrated Circuit Emphasis,SPICE)模型是一種通用的電路模擬模型,它可以用于求解包含二極管的電路,且已被用于模擬神經(jīng)元離子通道的等效電路[17,18].在實(shí)際的固體半導(dǎo)體器件中,一般都存在偏離理想二極管模型的情況,使得在反向偏壓下存在一定的額外電流[15].Antognetti等[19]提出在二極管電路的SPICE模型中,對(duì)于偏離理想模型的電流,可以由包含反向飽和電流(Reverse saturated current)的項(xiàng)描述.
在離子通道整流性測(cè)定實(shí)驗(yàn)中,通常將具有離子通道的薄膜夾在兩個(gè)裝有相同溶液的電解池之間組成實(shí)驗(yàn)裝置,并在一定的外加電勢(shì)范圍(如-2~+2 V)內(nèi)測(cè)量I-V特性曲線,該曲線與半導(dǎo)體二極管電流-電壓(I-V)特性曲線有相同的非對(duì)稱和通過原點(diǎn)的性質(zhì).因此,本文比較固體PN結(jié)二極管半導(dǎo)體電流和錐形離子通道實(shí)驗(yàn)裝置離子電流的產(chǎn)生原理,提出可以參考PN結(jié)二極管半導(dǎo)體載流子輸運(yùn)的理論,使用SPICE模型建立的等效二極管電路來(lái)擬合離子通道整流性的I-V曲線.離子通道實(shí)驗(yàn)測(cè)量I-V曲線來(lái)表征整流性時(shí),在實(shí)驗(yàn)裝置施加外加電勢(shì)范圍內(nèi)通常不會(huì)出現(xiàn)較大反向偏壓下的擊穿效應(yīng)和較大正向偏壓下的大電流飽和效應(yīng).在實(shí)驗(yàn)的反向偏壓范圍內(nèi),此時(shí)離子通道對(duì)離子輸運(yùn)的阻力較大,因此測(cè)得較小的離子電流.可以注意到隨著反向偏壓增大,離子電流線性增大,而不是類似于理想PN結(jié)二極管的I-V曲線趨近于下界的特性.這種I-V曲線的特性既呈現(xiàn)在聚合物錐孔離子通道,也呈現(xiàn)在多種類型材料復(fù)合而成的異質(zhì)結(jié)離子通道,且可以存在于低整流比和高整流比的體系[20~27].
對(duì)于錐形離子通道體系,基于PNP 方程組的模型可以較好地模擬實(shí)驗(yàn)測(cè)得的I-V特性曲線[20,21,28~31].因此,本文以PNP模型模擬一定幾何外型、表面電荷密度均勻的錐形離子通道在多種條件下的I-V特性曲線,并通過PNP模型的模擬結(jié)果分析離子通道體系根據(jù)能斯特-普朗克方程描述的離子電流的組成.以此為依據(jù),進(jìn)一步在SPICE模型中將離子通道裝置作為電路中的一個(gè)二極管器件模擬I-V特性曲線,并將該結(jié)果同PNP 模型的結(jié)果進(jìn)行比較,闡述離子通道體系類似PN 結(jié)二極管的特性.離子通道SPICE電路模型的建立可用于研究納米流體二極管作為一個(gè)器件在電路中的應(yīng)用.
固體半導(dǎo)體載流子輸運(yùn)的擴(kuò)散-漂移模型,對(duì)于電子n和空穴p各自的擴(kuò)散流密度Ji(mol·m-2·s-1)由下式描述:
電子n和空穴p各自在電場(chǎng)E作用下形成的漂移流密度Ji由下式描述:
式中:Di(m2/s)為擴(kuò)散系數(shù);Ni(mol/m3)為電子/空穴濃度;ei為電子/空穴電荷數(shù);μi(m2·V-1·s-1)為電子/空穴遷移率;i表示電子/空穴種類;φ(V)表示電勢(shì).自由電子貢獻(xiàn)電流與通量方向相反,自由空穴貢獻(xiàn)電流與通量方向相同.
在PN結(jié)二極管中,無(wú)外加電勢(shì)時(shí),PN結(jié)界面附近會(huì)自發(fā)形成電子-空穴平衡.對(duì)于理想的固體PN結(jié)半導(dǎo)體,當(dāng)處于外加電勢(shì)作用下,界面處的電子-空穴平衡被打破而產(chǎn)生擴(kuò)散電流.在一定的外加電勢(shì)范圍內(nèi),不考慮因外加電勢(shì)過大導(dǎo)致反向擊穿電壓效應(yīng)或正向注入大電流飽和效應(yīng)的情況,理論推導(dǎo)的通過理想PN結(jié)二極管器件電流I(A)表達(dá)式如下:
式(3)中,q=1代表電子n和空穴p具有基本電荷量;對(duì)于理想模型,參數(shù)N=1;kB為玻爾茲曼常數(shù);T(K)為溫度,此處固定為室溫293.15 K;Va(V)為PN結(jié)兩側(cè)的外加電勢(shì);IS(A)為飽和電流.式(4)中,Dn和Dp分別為電子n和空穴p的擴(kuò)散系數(shù);Ln(m)和Lp(m)分別為電子n和空穴p的擴(kuò)散長(zhǎng)度;和分別為P型半導(dǎo)體平衡狀態(tài)下的電子n的濃度和N型半導(dǎo)體平衡狀態(tài)下的空穴p的濃度.對(duì)于一定溫度下特定的PN結(jié)材料,它們屬于固有屬性,決定了飽和電流密度j0(A/m2),式(4)中括號(hào)內(nèi)兩項(xiàng)分別描述電子n向P型區(qū)的擴(kuò)散和空穴p向N型區(qū)的擴(kuò)散行為.Sarea(m2)為具體器件的橫截面積[14,16].
在SPICE模型語(yǔ)言中,二極管的串聯(lián)電阻可以作為二極管器件的屬性描述,因此僅需在電路模型中定義一個(gè)直流電源器件、一個(gè)二極管器件以模擬I-V曲線.對(duì)于理想PN結(jié)二極管器件,不考慮反向擊穿電壓(模型符號(hào)為BV)以及正向注入大電流飽和(模型符號(hào)為IKF),需要定義IS和定值串聯(lián)電阻[RS(Ω)]兩個(gè)參數(shù),使用式(3)對(duì)通過理想PN結(jié)二極管器件的電流I進(jìn)行計(jì)算[17,19].Scheme 1給出了理想PN 結(jié)二極管器件的工作原理及求解所得的I-V特性曲線,可見,當(dāng)反向偏壓逐漸增大且未擊穿時(shí),通過PN結(jié)的反向電流將趨于IS.
Scheme 1 Schematic diagram of interface electric field and charge carrier transportation of ideal PN junction on negative bias(A) and positive bias(B),and corresponding I-V characteristic curve(C)
在實(shí)際的固體半導(dǎo)體器件中,通常存在偏離理想二極管模型的情況,因而,在反向偏壓下存在一定的額外電流[15].此外,如果存在一定的外界作用使得較大數(shù)量的少數(shù)載流子(P區(qū)中的電子n和N區(qū)中的空穴p)并非由于PN結(jié)界面平衡作用生成,且可以到達(dá)PN結(jié)的界面,被PN結(jié)的強(qiáng)電場(chǎng)拉向界面的另一側(cè)從而導(dǎo)向外電路,則此時(shí)在反向偏壓下也可以形成較大的電流.兩個(gè)常用器件的例子可以說明這種情況:(1)PNP型三極管集電區(qū)部分的PN結(jié),如Scheme 2(A)所示,對(duì)于PNP型三極管而言,中間的N型基區(qū)很薄,在工作狀態(tài)時(shí),發(fā)射區(qū)PN結(jié)處于正向偏壓下,生成大量載流子空穴pE向集電區(qū)發(fā)射并能避免在N型基區(qū)復(fù)合,而集電區(qū)PN結(jié)處于反向偏壓下,其界面的強(qiáng)電場(chǎng)可以將載流子空穴pE快速拉向另一側(cè)P區(qū)并導(dǎo)出形成大電流,可見此時(shí)集電區(qū)PN結(jié)區(qū)域有大量載流子由外部引入,并在電場(chǎng)施加的漂移作用下運(yùn)動(dòng);(2)PN結(jié)光生伏特效應(yīng),如Scheme 2(B)所示,PN結(jié)界面吸收光照受到激發(fā)而產(chǎn)生電子-空穴對(duì)并產(chǎn)生電勢(shì),電子-空穴對(duì)被PN結(jié)界面強(qiáng)電場(chǎng)分離形成光電流,并在電勢(shì)作用下通過漂移作用分別導(dǎo)向外電路,其光生電子nE、光生空穴pE的運(yùn)動(dòng)方向相對(duì)于PN 結(jié)界面電場(chǎng)的方向與Scheme 1中理想PN結(jié)反向偏壓下的情況相同[14,16].
Scheme 2 Scheme of electron and hole transportation in a working PNP transistor(A),scheme of electron and hole transportation in a working photovoltaic PN junction(B)
對(duì)于PN 結(jié)二極管偏離理想模型的電流,在SPICE 電路模型中,Antognetti 等[19]提出的包含反向飽和電流ISR(A)項(xiàng),由下式描述:
式中:q=1;參數(shù)NR=2;T固定為室溫293.15 K;VJ(V)為PN 結(jié)內(nèi)建電場(chǎng)的電勢(shì);M為PN 結(jié)的梯度系數(shù),M>1/2表示PN結(jié)為突變結(jié),M≤1/3表示PN結(jié)為緩變結(jié);反向飽和電流ISR參數(shù)由具體器件決定.
式(5)屬于構(gòu)造公式,并不明確地對(duì)應(yīng)實(shí)際的物理意義.但它需要給出VJ,M和ISR,同樣屬于器件的固有屬性.該式表明,在較大的反向偏壓下PN結(jié)界面的電場(chǎng)明顯增大,由ISR描述的項(xiàng)會(huì)被PN結(jié)界面電場(chǎng)快速分離,避免了電子-空穴復(fù)合效應(yīng)的發(fā)生,通過二極管器件的電流會(huì)逐漸增大[17,19].
在一定的外加電勢(shì)范圍內(nèi),不考慮較大反向偏壓下的擊穿效應(yīng)以及較大正向偏壓下的大電流飽和效應(yīng),由式(3)和式(5)兩部分共同構(gòu)成恒溫條件下SPICE 模型描述的二極管器件I-V曲線的電流[JD(A)],如下式所示:
SPICE模型可由COMSOL Multiphysics軟件使用“電路”模塊依據(jù)電路原理圖建立和求解,其作為通用模型也可以由其它軟件求解.
對(duì)于描述離子通道性質(zhì)的PNP方程模型,以常用的納米離子通道在KCl濃度為1~100 mmol/L的中性水溶液體系為例,此時(shí),H+/OH-的濃度可以忽略不計(jì),電解質(zhì)溶液中的離子電流大小主要由K+和Cl-兩種載流子決定,能斯特-普朗克方程描述的通量密度J由擴(kuò)散通量密度和電遷移通量密度兩部分組成,如下所示:
式中:ui(m2·V-1·s-1)為離子淌度;ci(mol/m3)為離子濃度;zi為離子電荷數(shù);i表示離子種類;F為法拉第常數(shù);R為理想氣體常數(shù);T固定為室溫293.15 K.將離子通量換算為離子電流時(shí),正離子貢獻(xiàn)電流與通量方向相同,負(fù)離子貢獻(xiàn)電流與通量方向相反.
對(duì)于錐孔離子通道在10 mmol/L 中性KCl 水溶液體系的模型,假設(shè)錐孔通道表面電荷密度均勻分布,且不與K+或Cl-發(fā)生化學(xué)反應(yīng).討論該體系時(shí),改變離子通道表面電荷密度,而不改變錐孔通道的幾何外形.此時(shí),離子通道體系的載流子為K+和Cl-,其分布主要受到通道表面電荷和外加電勢(shì)的影響.
錐形離子通道PNP模型使用COMSOL Multiphysics軟件建立.如圖1所示,其幾何外型為一個(gè)錐孔通道的二維模型,參考常用于制備錐孔的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)和聚酰亞胺(PI)薄膜,包括一個(gè)長(zhǎng)度10 μm、左側(cè)小孔端為10 nm、右側(cè)大孔端為400 nm的錐孔[20~22].
錐形通道兩側(cè)為兩個(gè)長(zhǎng)500 nm、寬1000 nm的緩沖池.二維模型的面外厚度設(shè)置為1 m,以此換算模型的輸出電流.其中,模型左側(cè)邊界定義為工作電極電勢(shì)(φL)及其所在電解池體相溶液濃度(cL),右側(cè)邊界定義為對(duì)電極接地電勢(shì)(φR)及其所在電解池體相溶液濃度(cR);代表離子通道表面的邊界具有均勻的表面電荷密度(σ).
在COMSOL Multiphysics軟件中求解時(shí),使用軟件的“靜電”和“稀物質(zhì)傳遞”模塊.離子通道在KCl中性水溶液體系中,數(shù)值模擬使用PNP方程組與時(shí)間無(wú)關(guān)的穩(wěn)態(tài)形式,如下所示:
式中:K+和Cl-的離子擴(kuò)散系數(shù)分別為1.96×10-9和2.03×10-9m2/s;ε為水溶液介電常數(shù),相對(duì)介電常數(shù)為80;T固定為室溫293.15 K.
模型左側(cè)(圖1紅色)邊界條件代表工作電極和左側(cè)電解池KCl體相溶液濃度,電勢(shì)定義為儀器的外加電勢(shì)φA(V),電解池的體相溶液濃度為c0(mol/m3),邊界條件由如下兩式描述:
而右側(cè)(圖1藍(lán)色)邊界代表接地電極的電勢(shì)和右側(cè)電解池體相濃度,邊界條件如下兩式描述:
其中,工作電極電勢(shì)φA在-2~+2 V 范圍之間,體相溶液濃度c0根據(jù)具體模型分別設(shè)定為1,10,100 mmol/L.
模型的輸出電流I(A)為以上左側(cè)或右側(cè)邊界各離子通量積分并換算后的總和,如下式所示:
式中:l(m2)為考慮面外厚度的模型左側(cè)邊界.
給定代表離子通道各表面的模型邊界(圖1黃色)具有均勻的表面電荷密度σ0(C/m2),該離子通道表面對(duì)溶液體系產(chǎn)生的電勢(shì)梯度符合靜電學(xué)高斯(Gauss)定律,由如下兩式描述:
式中:σ(C/m2)為離子通道的表面電荷密度;n為該處通道表面的單位法向量.其余模型邊界(圖1 黑色)表面電荷密度和法向通量均為零.
設(shè)置電解池KCl溶液體相濃度為10 mmol/L、錐形通道表面電荷密度為-5 mC/m2,軟件對(duì)PNP模型求解可得該離子通道體系在外加電勢(shì)-2~+2 V范圍內(nèi)的I-V特性曲線,另外,模擬結(jié)果還給出了由能斯特-普朗克方程得到的擴(kuò)散電流和電遷移電流的組成,如圖2(A)所示.在±2 V外加電勢(shì)下離子通道體系軸線上的電勢(shì)和離子濃度分布如圖2(B)所示.
Fig.2 Simulated I-V curve and its composition of diffusion and electrophoresis currents(A),electric voltage and ions concentrations distributions on the axis of channel system under ±2 V applied voltages of the 10 mmol/L bulk concentration,-5 mC/m2 surface charge density conical ion channel PNP model(B)
由PNP 模型I-V曲線模擬結(jié)果可知,-2 V 時(shí)總離子電流為-0.849 μA,其中,擴(kuò)散電流為0.004 μA,電遷移電流為-0.853 μA;2 V時(shí)總離子電流為8.405 μA,其中,擴(kuò)散電流為-0.007 μA,電遷移電流為8.412 μA.可見,在-2~+2 V外加電勢(shì)范圍內(nèi),擴(kuò)散作用貢獻(xiàn)的離子電流十分微小,而電遷移作用貢獻(xiàn)的離子電流占據(jù)主導(dǎo)地位.
如果考察軸線上電勢(shì)和離子濃度的分布,在-2 V 外加電勢(shì)下通道內(nèi)小孔端附近正負(fù)離子逐漸排空,而電勢(shì)逐漸升高;在2 V下通道內(nèi)小孔端附近兩種離子都迅速富集,且此處電勢(shì)快速下降,表明此時(shí)電場(chǎng)強(qiáng)度較大.
Nernst-Planck方程擴(kuò)散電流大小由兩種離子濃度變化之差決定,電遷移電流大小由兩種離子濃度之和與電場(chǎng)強(qiáng)度的乘積決定.由于K+和Cl-濃度在-2 V或2 V下的分布沒有顯著差別,因此擴(kuò)散電流較??;而±2 V下小孔端附近K+和Cl-濃度之和與電場(chǎng)強(qiáng)度的乘積描述的電遷移電流可以描述相反偏壓下的整流性.
對(duì)比PN結(jié)二極管半導(dǎo)體中始終存在快速的電子-空穴平衡反應(yīng),電子在P區(qū)或空穴在N區(qū)運(yùn)動(dòng)時(shí)容易受到復(fù)合作用的影響.在10 mmol/L KCl 中性水溶液中則幾乎不存在因化學(xué)平衡改變而產(chǎn)生的電流,且離子通道表面電荷吸附相反離子的電容效應(yīng)而產(chǎn)生的電流也可以忽略不計(jì),因此擴(kuò)散電流的貢獻(xiàn)十分微?。涣硪环矫?,離子通道兩側(cè)的電解池是濃度穩(wěn)定的載流子的外部來(lái)源,在外加電勢(shì)下,它們的電遷移運(yùn)動(dòng)成為了離子電流的主要來(lái)源.這一行為十分類似偏離理想模型的PN結(jié)中外部來(lái)源的載流子形成漂移電流的行為.
進(jìn)一步改變?cè)揚(yáng)NP 模型的表面電荷密度(-10,-5,-2 和-1 mC/m2)時(shí)的I-V曲線如圖3(A)所示,相應(yīng)±2 V 外加電勢(shì)下整流比為14.1,9.90,4.69 和2.60.對(duì)于這一小孔端直徑10 nm 的錐形通道在10 mmol/L KCl中性水溶液的體系而言,較大的離子通道表面電荷密度可以產(chǎn)生較大的整流比.同時(shí),這些條件下電遷移作用貢獻(xiàn)的離子電流占據(jù)主導(dǎo)地位(圖S1,見本文支持信息).
Fig.3 Simulated I-V curves(A) and corresponding electric voltage distributions on the axis of channel system(B) under 0 V applied voltages of the 10 mmol/L bulk concentration conical ion channel PNP model with different surface charge densities
由以上討論可知,在本文離子通道模型中,與理想PN結(jié)相似的因載流子平衡被打破而產(chǎn)生的擴(kuò)散電流十分微小,電遷移作用貢獻(xiàn)的離子電流占據(jù)主導(dǎo)地位.因此,為了簡(jiǎn)化需要擬合的參數(shù),在應(yīng)用二極管器件SPICE模型構(gòu)造本錐形離子通道I-V曲線測(cè)定的電路模型[圖4(A)]時(shí),考慮設(shè)定飽和電流IS為零,而僅使用含反向飽和電流ISR的項(xiàng)進(jìn)行描述.
本文SPICE電路模型由電壓源V1和二極管D1兩個(gè)器件組成.其中,電壓源V1表示離子通道裝置的外加電勢(shì),范圍設(shè)定為-2~+2 V;二極管D1表示離子通道體系,其中包括一個(gè)恒定的串聯(lián)電阻RS.模型的電路示意圖如圖4(A)所示.此時(shí),二極管D1器件的電流特性僅包含反向飽和電流ISR的項(xiàng),如下式所示:
根據(jù)此假設(shè),在COMSOL Multiphysics軟件中求解SPICE模型,對(duì)錐形離子通道I-V曲線進(jìn)行模擬,已知參數(shù)正電荷載流子K+和負(fù)電荷載流子Cl-的電荷數(shù)q=1,NR=2,玻爾茲曼常數(shù)kB,恒定溫度(T=293.15 K)條件.另外,還需要給出PN結(jié)內(nèi)建電場(chǎng)電勢(shì)VJ,PN結(jié)梯度系數(shù)M,反向飽和電流ISR以及串聯(lián)電阻RS.
對(duì)于內(nèi)建電勢(shì),PNP 模型給出0 V外加電勢(shì)下軸線上的電勢(shì)分布,如圖3(B)所示,在離子通道內(nèi)小孔端附近電勢(shì)會(huì)快速下降,這個(gè)電勢(shì)差可以用于估計(jì)二極管模型的內(nèi)建電勢(shì)VJ.對(duì)于串聯(lián)電阻RS,它在二極管器件SPICE 模型中為一個(gè)定值,考慮到在2 V 外加電勢(shì)下電流較大,此時(shí)PN 結(jié)阻值較小,緩沖池阻值有重要作用,因此可以粗略估計(jì)RS≤2 V/I2V,通過擬合PNP模型在2 V外加電勢(shì)時(shí)計(jì)算得到的電流確定串聯(lián)電阻RS.當(dāng)處于反向偏壓范圍內(nèi),需要通過設(shè)置反向飽和電流ISR和PN 結(jié)梯度系數(shù)M求解SPICE模型的I-V曲線,從而對(duì)PNP模型的計(jì)算結(jié)果進(jìn)行擬合.
Fig.4 Scheme of SPICE model for the conical ion channel(A),simulated I-V curves of the 10 mmol/L bulk concentration conical ion channel SPICE model with different surface charge densities(B)
對(duì)于表面電荷密度為-5 mC/m2的錐形通道,其串聯(lián)電阻RS通過PNP模型在2 V外加電勢(shì)下總離子電流8.405 μA估計(jì)在小于238 kΩ的范圍附近為215 kΩ,內(nèi)建電勢(shì)VJ通過圖3(B)得到為7.4 mV.而后指定ISR為0.054 μA、M為0.5進(jìn)行求解得到SPICE模型的I-V曲線.本SPICE模型的導(dǎo)出網(wǎng)表見本文支持信息.當(dāng)表面電荷密度較大時(shí),0 V外加電勢(shì)下離子通道軸線上電勢(shì)變化更陡峭,因此,考慮較大的PN結(jié)梯度系數(shù)M進(jìn)行擬合;相應(yīng)表面電荷密度較小時(shí),降低PN結(jié)梯度系數(shù)M.同樣方法通過SPICE模型擬合出的錐形通道表面電荷密度為-10,-5,-2和-1 mC/m2時(shí)的I-V曲線[圖4(B)].
體相濃度10 mmol/L下不同表面電荷密度的PNP模型計(jì)算得到的±2,±1,±0.5 V下的離子電流,以及對(duì)應(yīng)SPICE模型求解使用的參數(shù)和計(jì)算得到的±2,±1,±0.5 V下的電流列于表1中.可見,特別是在反向偏壓下離子輸運(yùn)阻力較大時(shí),由于離子通道內(nèi)的電阻遠(yuǎn)大于電解池的電阻,僅考慮反向飽和電流項(xiàng)的SPICE二極管模型對(duì)該10 mmol/L濃度下錐形離子通道PNP模型的I-V曲線有很好的擬合結(jié)果.在正向偏壓下,由于實(shí)際實(shí)驗(yàn)中緩沖池尺寸遠(yuǎn)大于PNP模型的設(shè)置,但又非SPICE模型中定值串聯(lián)電阻的情況,I-V曲線介于兩種模型之間[20,21].
Table 1 Parameters for SPICE model and simulated results of PNP and SPICE models of the 10 mmol/L bulk concentration conical ion channel
使用相同方法,對(duì)低濃度1 mmol/L KCl溶液體系的PNP模型進(jìn)行模擬計(jì)算.離子通道幾何模型不變,設(shè)定其表面電荷密度為-1,-0.5,-0.2和-0.1 mC/m2時(shí)的I-V曲線如圖5(A)所示,相應(yīng)±2 V下整流比為13.7,9.12,4.22,2.32,此時(shí),較小的表面電荷密度可以得到相近的整流效應(yīng).模擬結(jié)果也表明本組模型電遷移作用貢獻(xiàn)的離子電流占據(jù)主導(dǎo)地位(圖S2,見本文支持信息).
Fig.5 Simulated I-V curves of PNP model(A),corresponding electric voltage distribution on the axis of channel system(B) under 0 V applied voltages,simulated I-V curves of SPICE model(C) of the 1 mmol/L bulk concentration conical ion channel with different surface charge densities,simulated I-V curves of PNP model(D),corresponding electric voltage distributions on the axis of channel system(E) under 0 V applied voltages,simulated I-V curves of SPICE model(F) of the 100 mmol/L bulk concentration conical ion channel with different surface charge densities
同樣,應(yīng)用SPICE 模型求解I-V曲線,需要的內(nèi)建電勢(shì)由PNP 模型在0 V 外加電勢(shì)下給出,如圖5(B)所示,得到的I-V曲線如圖5(C)所示.體相濃度1 mmol/L下不同表面電荷密度的PNP模型計(jì)算得到的±2,±1,±0.5 V 下的離子電流,以及對(duì)應(yīng)SPICE 模型求解使用的參數(shù)和計(jì)算得到的±2,±1,±0.5 V下的電流列于表2.可見,SPICE模型同樣對(duì)這一條件下的PNP模型有較好的擬合結(jié)果.
Table 2 Parameters for SPICE model and simulated results of PNP and SPICE models of the 1 mmol/L bulk concentration conical ion channel
對(duì)高濃度100 mmol/L KCl溶液體系的PNP模型進(jìn)行模擬計(jì)算.離子通道幾何模型不變,設(shè)定其表面電荷密度為-10,-5,-2,-1 mC/m2時(shí)的I-V曲線如圖5(D)所示,相應(yīng)±2 V 下整流比為2.56,1.67,1.23,1.11,此時(shí),錐孔端10 nm的直徑相對(duì)100 mmol/L溶液體相濃度而言較大,因此,這一離子通道體系難以達(dá)到較高的整流比.而模擬結(jié)果同樣表明本組模型電遷移作用貢獻(xiàn)的離子電流占據(jù)主導(dǎo)地位(圖S3,見本文支持信息).
用相同方法應(yīng)用SPICE 模型模擬I-V曲線,圖5(E)給出PNP 模型模擬的0 V 外加電勢(shì)下的內(nèi)建電勢(shì),得到的I-V曲線如圖5(F)所示.
體相濃度100 mmol/L 下不同表面電荷密度的PNP 模型計(jì)算得到的±2,±1,±0.5 V下的離子電流,以及對(duì)應(yīng)SPICE模型求解使用的參數(shù)和計(jì)算得到的±2,±1,±0.5 V下的電流列于表3.可見,在低整流比下SPICE模型同樣對(duì)PNP模型有較好的擬合結(jié)果.
考察了常用離子通道體系I-V曲線偏離理想PN 結(jié)二極管的特性,通過PNP 模型模擬典型的錐形離子通道實(shí)驗(yàn)裝置,發(fā)現(xiàn)離子電流中電遷移電流占據(jù)主導(dǎo)地位.通過SPICE 模型將該離子通道作為電路中的一個(gè)器件進(jìn)行研究時(shí),比較固體PN結(jié)二極管器件的電流成因,提出其在反向偏壓下仍然可以由電解池引入離子電流,因此,使用包含反向飽和電流項(xiàng)的二極管I-V曲線模型進(jìn)行擬合.通過對(duì)KCl體相濃度為1,10和100 mmol/L且具有不同表面電荷密度的錐形離子通道體系進(jìn)行I-V特性曲線數(shù)值模擬可知,SPICE模型的模擬結(jié)果與PNP模型結(jié)果比較,特別是在反向偏壓下離子通道對(duì)離子輸運(yùn)阻力占主要作用時(shí)的I-V曲線有很好的擬合.本文初步給出了一定條件范圍內(nèi)的錐形離子通道I-V特性曲線的SPICE模型,后續(xù)的研究可以引入本文省略的參數(shù).如比較理想PN結(jié)二極管的電流成因,引入飽和電流項(xiàng)可以討論化學(xué)平衡存在明顯作用的體系,而反向擊穿電壓和正向注入大電流飽和的引入可以更精細(xì)地刻畫不同種類離子通道體系的I-V曲線,此外,電路中的電容項(xiàng)可用于模擬I-t曲線.使用SPICE通用模型描述可以進(jìn)一步探索納米流體二極管與其它元件相連接成電路時(shí)在不同條件下的工作狀態(tài).
支持信息見http://www.cjcu.jlu.edu.cn/CN/10.7503/cjcu20230384.