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      不同金屬雜質(zhì)對堿性鋅酸鹽鍍鋅層結(jié)構(gòu)及耐蝕性的影響

      2021-12-29 05:18:26王力強(qiáng)廖廣其詹中偉孫志華
      電鍍與精飾 2021年12期
      關(guān)鍵詞:鍍液晶面鍍鋅

      呂 玲,王力強(qiáng),廖廣其,詹中偉,張 騏,孫志華

      (1.成都飛機(jī)工業(yè)(集團(tuán))有限責(zé)任公司,四川成都 610092;2.中國航發(fā)北京航空材料研究院航空材料先進(jìn)腐蝕與防護(hù)航空科技重點實驗室,北京 100095)

      鍍鋅層對鋼鐵基體起著非常好的電化學(xué)保護(hù)作用,是保護(hù)鋼鐵腐蝕最經(jīng)濟(jì)有效的方法。長期以來,氰化鍍鋅在電鍍鋅工藝中一直占主導(dǎo)地位;但由于CN-嚴(yán)重危害人體及環(huán)境,因此其使用遭到限制。近年來,人們開始逐步關(guān)注無氰鍍鋅體系,提出了氯化鉀鍍鋅、堿性鋅酸鹽鍍鋅、銨鹽鍍鋅及硫酸鹽鍍鋅等多種工藝。其中,由于堿性無氰鍍鋅是由氰化鍍鋅演變過來,其性能上也更接近氰化鍍鋅。但是,堿性無氰鍍鋅的基本成分是氧化鋅與氫氧化鈉,缺少對金屬雜質(zhì)有很強(qiáng)絡(luò)合能力的氰化鈉,因此堿性無氰鍍鋅的鍍層質(zhì)量較易受到雜質(zhì)離子的影響,如鉛、銅、鐵等離子的影響[1-3]。

      在堿性無氰鍍鋅電鍍生產(chǎn)中,多采用不溶性的鉛系合金,如鉛錫、鉛銀等合金等,作為電鍍陽極。但是在實際工作中,這些不溶性的陽極板還是存在著一定的溶解速率,導(dǎo)致鍍液中鉛雜質(zhì)的增加,從而對鍍鋅層產(chǎn)生影響[3]。除此之外,電鍍件在進(jìn)入電鍍槽進(jìn)行電鍍前,都要進(jìn)行一些相應(yīng)的前處理,而在這些前處理步驟中雜質(zhì)離子也很容易跟隨著鍍件進(jìn)入鍍液中,此外由于大部分的前處理槽都為鐵基體,并且鍍件的掛具也大多為鐵制品,電鍍過程中又經(jīng)常出現(xiàn)掛具掉入鍍槽中的情況,從而引入了鐵離子[4];另外,電鍍的導(dǎo)電銅排也會在鍍液中溶解,從而引入雜質(zhì)銅離子。因此,在電鍍過程中,鍍液總是不可避免的會混入上述離子,從而最終對鍍鋅層的質(zhì)量造成了影響。拋開鍍層的外觀變差不說,鍍層的其他重要性能也會受到影響,像耐蝕性、涂漆性等,尤其是鉛雜質(zhì)離子進(jìn)入鍍液后,會使得鍍鋅層發(fā)黑,這成為了堿性鍍鋅工藝的重要研究課題[5]。

      溫乃盟[6]等研究發(fā)現(xiàn)Pb2+離子可以影響鍍鋅層的結(jié)晶沉積取向,導(dǎo)致鍍鋅鋼板初期耐蝕性改變,從而使鍍鋅鋼板黑變。李寧[7]等研究了微量元素在硫酸鹽鍍鋅體系中對鍍層外觀形貌、顯微組織、結(jié)晶擇優(yōu)取向和耐蝕性的影響,結(jié)果表明不同的雜質(zhì)對鍍層的外觀、顯微組織以及晶面的擇優(yōu)取向的影響不同;鉛離子的引入降低了鍍層的外觀質(zhì)量和(002)晶面的強(qiáng)度,銦離子的引入使鍍層的外觀質(zhì)量和(002)晶面的強(qiáng)度均得到提高,起到了無機(jī)光亮劑的作用.尚書定等[8]指出鉀鹽鍍鋅溶液中的鐵離子會降低電鍍液的分散能力和深鍍能力,降低鍍液的穩(wěn)定性,使鍍液渾濁、發(fā)黃,同時會影響所得鍍層的可鈍化性。朱學(xué)松[9]研究表明銅、鎳、鐵等金屬離子對對鍍層外觀質(zhì)量、微觀形貌和耐黑變性能有負(fù)面影響。但是在堿性鋅酸鹽鍍鋅液中對不溶性陽極所溶出的金屬雜質(zhì)離子影響的系統(tǒng)研究尚未見報道。

      本文采用三維視頻顯微鏡、電化學(xué)測試等系統(tǒng)研究了Fe2+、Pb2+、Cu2+等常見金屬雜質(zhì)離子對鍍層形貌、耐蝕性及晶粒取向的影響,確定雜質(zhì)離子的容忍濃度;研究結(jié)果可為堿性鋅酸鹽鍍鋅體系的應(yīng)用提供技術(shù)支持。

      1 試驗

      1.1 電鍍工藝流程

      試驗材料為Q235 鋼;鍍鋅工藝流程為:除銹→水洗→堿性除油→二次水洗→弱酸活化→二次水洗→堿性無氰鍍鋅→二次水洗→吹干。其中,除油液由60~80 g/L NaOH、35~55 g/L Na3PO4、30~50 g/L Na2CO3、10~20 g/L Na2SiO3和去離子水配制,溫度60~70 ℃,除盡為止?;罨捎皿w積分?jǐn)?shù)10%的硫酸浸泡30~60 s。堿性鋅酸鹽鍍鋅溶液主要成分為:17 g/L ZnO,150 g/L NaOH;12~24 mL/L 添加劑A(聚季銨鹽)和0.4~2.0 mL/L 添加劑B(煙酸類的磺化鹽);電流密度為2.5 A/dm2,電鍍溫度為30 ℃。

      在上述鍍鋅工藝條件不變的前提下,以七水合硫酸亞鐵的形式分別依次向堿性鍍鋅液中加入0.001 mol/L、0.005 mol/L、0.01 mol/L、0.03 mol/L、0.05 mol/L 的鐵離子,研究鐵離子雜質(zhì)對鍍鋅層結(jié)構(gòu)及耐蝕性的影響;以五水合硫酸銅的形式分別依次向堿性鍍鋅液中加入0.001 mol/L、0.005 mol/L、0.01 mol/L、0.04 mol/L 的銅離子,研究鐵離子雜質(zhì)對鍍鋅層結(jié)構(gòu)及耐蝕性的影響;以三水合乙酸鉛的形式分別依次向堿性鍍鋅液中加入2×10-5mol/L、5×10-5mol/L、7×10-5mol/L、0.0001 mol/L、0.001 mol/L、0.01 mol/L的鉛離子。

      1.2 鍍層結(jié)構(gòu)及耐蝕性評價

      鍍層制備后,采用KH-7700 三維顯微鏡對鍍層的微觀形貌進(jìn)行觀察,放大倍數(shù)為50 倍。通過Bruker D8-Advance A25 X 射線衍射儀分析膜層相結(jié)構(gòu)。利用CHI604D 電化學(xué)工作站測試帶鍍層試樣的Tafel 曲線表征其耐蝕性。實驗采用三電極體系,鍍件作為研究電極,鉑片作為輔助電極,飽和甘汞電極(SCE)作為參比電極;腐蝕溶液為3.5 wt%NaCl溶液,pH=7.0。Tafel曲線測試以開路電位作為基準(zhǔn)電位,掃描范圍在其±0.60 V 范圍內(nèi),掃描速率為5 mV/S,試片在鹽水中浸泡15 min 待穩(wěn)定開路電位以后進(jìn)行測試。測試完成后采用電化學(xué)工作站自帶的分析軟件對數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合處理,得到腐蝕電位和腐蝕電流,可用來表征鍍鋅層膜耐蝕性能。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 鐵離子雜質(zhì)對鍍層外觀及耐蝕性的影響

      當(dāng)鍍液中混入鐵離子雜質(zhì)后,在0.05mol/L范圍內(nèi),鐵離子對堿性鍍鋅層外觀無明顯影響;整體上看,所有鍍層外觀較細(xì)致平整,沒有出現(xiàn)針孔,鍍層比較合格。采用KH-7700 三維顯微鏡對不同鍍層進(jìn)行微觀形貌觀察,結(jié)果見圖1;其中圖1(a)為不含鐵離子雜質(zhì)的鍍層;圖1(b)為在含0.05 mol/L 鐵離子的鍍液中所得的鍍層。由圖可知,相比于不含雜質(zhì)的原始鍍層,加入0.05 mol/L Fe2+后,鍍層表面略顯粗糙、暗淡,結(jié)晶相對粗大,存在少量氣泡和黑色斑點。

      圖1 鐵離子雜質(zhì)對鍍鋅層微觀形貌的影響Fig.1 Effect of iron ion impurities on the micro-morphology of zinc coating

      對不同濃度Fe2+雜質(zhì)鍍液中所得的鍍層進(jìn)行動電位極化曲線測試,結(jié)果如圖2 所示,表1 為相應(yīng)的擬合結(jié)果。由圖2和表1可知,當(dāng)鍍液中的鐵離子濃度增加時,鍍層的自腐蝕電位正移,自腐蝕電流密度略有增加。自腐蝕電位由-1.296 V(SCE)正移至-1.273 V(SCE),自腐蝕電流密度由8.992 mA/cm2增加至10.19 mA/cm2,這可能是電鍍過程中微量的鐵離子在鍍層中沉積,而鐵的電極電位比鋅的電極電位略正,導(dǎo)致鍍鋅層的自腐蝕電位正移,同時由于電位差的存在導(dǎo)致鍍層出現(xiàn)電偶腐蝕,腐蝕速度加快,鍍層耐蝕性略微降低。結(jié)合鍍層外觀及耐蝕性判斷,堿性鋅酸鹽鍍鋅溶液中的鐵離子濃度應(yīng)該控制在0.05 mol/L以內(nèi)。

      圖2 在含不同濃度鐵離子雜質(zhì)的鍍液中所得鍍層的Tafel曲線Fig.2 Tafel curve of zinc coating formed in the bath containing different concentrations of iron impurities

      表1 圖2中Tafel曲線的擬合結(jié)果Tab.1 Fitting results of the Tafel curve in Fig.2

      2.2 銅離子雜質(zhì)對鍍層外觀及耐蝕性的影響.·

      加入銅雜質(zhì)離子后所得的鍍層外觀,當(dāng)銅離子濃度為0 mol/L~0.01 mol/L時鍍層整體合格,與原始鍍層無明顯差異。然而,當(dāng)銅離子濃度達(dá)到0.01 mol/L時開始得到不合格鍍層。如圖3所示,鍍層變的暗淡,鍍層表面可以明顯觀察到一條條的樹枝狀的痕跡,且有氣泡分布。而當(dāng)銅雜質(zhì)的濃度達(dá)到0.04 mol/L 時,鍍層變得非常粗糙,上面布滿氣泡和黑色斑點,并且有局部脫落現(xiàn)象,這勢必會嚴(yán)重的影響鍍鋅層的耐蝕性。

      圖3 銅雜質(zhì)對鍍鋅層微觀形貌影響Fig.3 Effect of copper ion impurities on the micromorphology of zinc coating

      對不同濃度Cu2+雜質(zhì)鍍液中所得的鍍層進(jìn)行動電位極化曲線測試,結(jié)果如圖4 所示,表2 為相應(yīng)的擬合結(jié)果。由圖4 可知,當(dāng)鍍液中混入Cu2+雜質(zhì)后,所得鍍層的自腐蝕電流密度明顯增大、耐蝕性變差。當(dāng)銅離子濃度為0.01mol/L時,鍍鋅層的自腐蝕電位正移,這也是由于鍍層中含有微量的沉積銅,高電位的銅和低電位的鋅構(gòu)成電偶腐蝕,導(dǎo)致鍍層電位正移,腐蝕速度增加。而當(dāng)銅離子濃度增大到0.04 mol/L 時,自腐蝕電位發(fā)生負(fù)移,自腐蝕電流密度明顯增加;這可能是由于銅離子為0.04 mol/L 時鍍層質(zhì)量較差,鍍層溶解速度增加導(dǎo)致固液界面雙電層金屬一側(cè)負(fù)電荷的積累,電位降低。

      圖4 在含不同濃度Cu2+雜質(zhì)的鍍液中所得鍍層的Tafel曲線Fig.4 Tafel curve of zinc coating formed in the bath containing different concentrations of copper impurities

      表2 圖4中Tafel曲線的擬合結(jié)果Tab.2 Fitting results of the Tafel curve in Fig.4

      2.3 鉛離子雜質(zhì)對鍍層外觀及耐蝕性的影響

      當(dāng)鉛離子濃度小于0.0001 mol/L 時所得的鍍層表面光亮,與無金屬雜質(zhì)所得到的鍍鋅層外觀無明顯差異。但是鉛離子濃度繼續(xù)增加時,無法得到外觀合格的鍍層。圖5給出了在不同鉛離子雜質(zhì)溶液中所得鍍層的微觀形貌。由圖可知,當(dāng)鍍液中鉛離子濃度達(dá)到0.001 mol/L 時,鍍層灰暗,且比較粗糙,呈霧狀、海綿狀,表面存在著黑斑和缺陷;而當(dāng)鉛離子濃度達(dá)到0.01 mol/L 時,鍍層發(fā)黑嚴(yán)重,且出現(xiàn)了腐蝕坑,鍍層性能已受到嚴(yán)重影響。

      圖5 鉛離子對鍍鋅層微觀形貌影響Fig.5 Effect of lead ion impurities on the micromorphology of zinc coating

      對含不同濃度鉛離子雜質(zhì)鍍液中所得的鍍層進(jìn)行動電位極化曲線測試,結(jié)果如圖6 所示,表3 為相應(yīng)的擬合結(jié)果。圖6 表明鉛離子濃度在0 mol/L~0.010 mol/L 的范圍內(nèi)增加時,鍍鋅層的自腐蝕電位不斷負(fù)移、自腐蝕電流增大。這表明鉛離子嚴(yán)重影響了鍍鋅層的質(zhì)量,使鍍鋅層耐蝕性嚴(yán)重惡化,鍍層陽極溶解占主導(dǎo)作用,表現(xiàn)為隨著鉛離子濃度增加,自腐蝕電位正移,自腐蝕電流密度增加。溫乃盟[6]等也認(rèn)為鐵、銅、鉛三種雜質(zhì)中,鉛雜質(zhì)對堿性無氰鍍鋅的影響最大,鐵雜質(zhì)的影響最小。

      表3 圖6中Tafel曲線的擬合結(jié)果Tab.3 Fitting results of the Tafel curve in Fig.6

      圖6 在含不同濃度Pb2+雜質(zhì)的鍍液中所得鍍層的Tafel 曲線Fig.6 Tafel curve of zinc coating formed in the bath containing different concentrations of lead impurities

      2.4 不同金屬雜質(zhì)對鍍層晶面織構(gòu)系數(shù)的影響

      鍍鋅層的耐蝕性除了和鍍層中其他金屬的沉積有關(guān),如鐵、銅的沉積導(dǎo)致的電偶腐蝕,還與鍍鋅層的晶面取向有關(guān)[7,10]。為了明確各雜質(zhì)離子對于鋅鍍層晶面織構(gòu)系數(shù)的的影響,對每種雜質(zhì)離子鍍液中得到的鍍層作X 射線衍射分析,結(jié)果如圖7 所示。采用織構(gòu)系數(shù)化來表示(hkl)晶面的擇優(yōu)取向變化:

      圖7 在含不同金屬雜質(zhì)的鍍液中所得鍍層的XRD譜Fig.7 XRD spectra of zinc coatings obtained in the solutions containing different metal impurities

      式中I(hkl)—鋅沉積層晶面的衍射強(qiáng)度,s-1;I0(hkl)—標(biāo)準(zhǔn)鋅粉末晶面的衍射強(qiáng)度,s-1。不同種類雜質(zhì)條件下所制備鍍鋅層的晶面織構(gòu)系數(shù)如表4所示。

      表4 在不同金屬雜質(zhì)的鍍液中所得鍍層的晶面織構(gòu)系數(shù)Tab.4 Texture coefficient(TC)of the crystal plane of zinc coating in the solutions containing different metal impurities

      研究表明(110)晶面擇優(yōu)取向的鍍鋅層具有更高的耐蝕性[10]。在不含雜質(zhì)的原始槽液中得到的鍍鋅層擇優(yōu)取向為(110)方向,其織構(gòu)系數(shù)為91.4%。因此,原始鍍層具有良好的耐蝕性。當(dāng)槽液中含有0.03 mol/L 鐵離子時,鍍層的擇優(yōu)取向仍然是(110)晶面,并且(110)晶面的織構(gòu)系數(shù)91.5%,其(110)晶面的織構(gòu)系數(shù)略有增加。從擇優(yōu)取向的角度分析,鐵雜質(zhì)對鍍層的擇優(yōu)取向沒有明顯影響,鍍層應(yīng)該具有較好的耐蝕性,但是極化曲線結(jié)果表明鐵雜質(zhì)會導(dǎo)致鍍鋅層電位正移,腐蝕速度增加。

      當(dāng)槽液中含有0.04 mol/L 銅雜質(zhì)時,(110)晶面的織構(gòu)系數(shù)由91.4%降低至19.8%,鍍層的擇優(yōu)取向變?yōu)椋?01)晶面。當(dāng)槽液中含有鉛離子時,鍍鋅層出現(xiàn)了Pb(111)晶面的衍射峰,鍍鋅層的擇優(yōu)取向也是(101)晶面。與(110)晶面相比,鋅(101)晶面的耐蝕性較差[10]。鍍液中的銅、鉛等雜質(zhì)導(dǎo)致鍍鋅層晶面的擇優(yōu)取向,使鍍鋅層的擇優(yōu)取向由(110)晶面變?yōu)椋?01)晶面,這也許是銅、鉛雜質(zhì)導(dǎo)致鍍層耐蝕性變差的主要原因。

      3 結(jié)論

      (1)對于堿性鍍鋅體系,鐵離子雜質(zhì)的含量在0.05 mol/L 以內(nèi)時,對鍍層的外觀與微觀形貌影響較小。而銅離子和鉛離子會對鍍層產(chǎn)生較大影響,當(dāng)銅離子濃度小于0.01 mol/L 時,鍍層的外觀無明顯變化,但一旦濃度達(dá)到該值后,就開始產(chǎn)生樹枝狀鍍層,鍍層開始變粗糙;當(dāng)鉛離子含量在0 mol/L~0.0001 mol/L 時,鍍層不會受到太大影響,而鉛含量達(dá)到0.001 mol/L 時,鍍層開始變黑,甚至燒焦,呈現(xiàn)霧狀。

      (2)任何金屬雜質(zhì)的引入都使鋅鍍層的自腐蝕電流電流增大、腐蝕速度加快,鍍層耐蝕性變差;尤其是銅離子和鉛離子。為了保證鍍層耐蝕性,鐵離子雜質(zhì)不宜超過0.05 moL/L;銅離子雜質(zhì)濃度要小于0.01 moL/L;鉛離子含量須低于0.001 mol/L。

      (3)鐵離子濃度在0.05 mol/L 以內(nèi)時,鍍鋅層與不含雜質(zhì)的原始鍍層結(jié)構(gòu)相近,表現(xiàn)為(110)晶面的擇優(yōu)取向;而當(dāng)銅離子濃度達(dá)到0.01mol/L以及鉛離子濃度達(dá)到0.001 mol/L 時,鋅層晶面指數(shù)發(fā)生了改變,表現(xiàn)為(101)晶面的擇優(yōu)取向。

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