朱 婷,程榮榮,田華東,徐晴晴,林默涵,李 培,呂耀輝
(1.皖江工學院基礎教學部,安徽馬鞍山243031;2.安徽工業(yè)大學材料科學與工程學院,安徽馬鞍山243032)
便攜式電子設備和混合動力電動汽車的迅猛發(fā)展,加速了市場對高能量和高功率存儲器件的迫切需求。超級電容器因具高功率密度、良好的循環(huán)性和較寬的溫度限制等特性而被廣泛應用于消費電子、存儲器備用系統(tǒng)、工業(yè)電源和能源管理等領域[1-6]。贗電容材料(以MnO2,RuO2為代表)可在電極材料表面產生快速可逆的氧化還原反應,表現出優(yōu)異的比電容和能量密度。其中:RuO2在水電解質中的電容超過600 F·g-1,電化學性能優(yōu)異[7],但其成本高、毒性大,沒有得到廣泛應用;MnO2材料因具較低成本和較大電勢窗口而受到極大關注,但MnO2堿性電池比表面積低、電導率差,MnO2超級電容器在強酸和強堿電解質中性能不穩(wěn)定。因此,有必要探尋低成本、環(huán)保的贗電容材料。
新興材料BiOCl成本低、半導體特性優(yōu)異和晶體結構特殊,由此成為最有前景的電極材料。BiOCl材料為層狀的四方晶體結構,[Bi2O2]2+層在兩層Cl-中間,其獨特的晶體結構利于電解質離子沿c軸傳輸,從而提高其電化學性能[8-9]。Hong 等[10]制備出山茶花形BiOCl 材料,結果顯示:電流密度為1 A·g-1時,比電容達1 243 F·g-1;電流密度為5 A·g-1時,循環(huán)3 000次后電容保持率仍為90.3%,循環(huán)穩(wěn)定性優(yōu)異。
對于過渡金屬氧化物,氧空位是普遍存在的缺陷之一。研究表明[11-15],氧空位能夠改善金屬氧化物材料的電化學性能,主要原因在于氧空位可作為反應的活性位點,參與表面吸附和氧化還原反應過程;氧空位可改變材料的電子結構,增強電子/離子的擴散能力,進而增強材料的電導率;氧空位能提供離子存儲所需的物理空間,利于提高材料的比容量?;诖耍陙碓S多研究集中于通過調控氧空位來改善材料的電化學性能。Kim等[16]研究表明,氧缺失的α-MoO3-x具優(yōu)異的贗電容存儲性能,引入氧空位能產生更大的層間距,利于快速存儲電荷;Zhai等[17]通過氫化處理的手段制備了含氧空位的MnO2,與未處理的MnO2相比,經氫化處理的MnO2具高的比電容(449 F·g-1)、優(yōu)異的速率性能和循環(huán)穩(wěn)定性。然而,氧空位缺失的BiOCl微球電化學性能至今少見報道。鑒于此,文中以Bi(NO3)3·5H2O為鉍源、鹽酸為氯源,采用沉淀法制備分級BiOCl微球,研究氧空位對分級BiOCl微球微觀形貌、表面化學態(tài)和電化學性能的影響。
將一定量的Bi(NO3)3·5H2O(1 mol/L)溶液緩慢滴加至鹽酸(1 mol/L)溶液中,至Bi 與Cl 的摩爾比為1∶1時,磁力攪拌30 min。隨后將1 mol/L的NH4OH溶液逐滴滴加至上述溶液,當pH值為6時停止滴加,磁力攪拌30 min,用蒸餾水洗滌數次并真空抽濾得到白色固體產物。將產物在100 ℃下真空干燥24 h,得到BiOCl原始樣品,其離子反應方程式如式(1),(2)。取一定量的樣品放入自制的高壓反應釜中,在氫氣氣氛下進行氫化退火處理,反應溫度為100,150,200 ℃,升溫速率為10 ℃/min,反應時間為2 h,反應釜壓力保持為4 MPa。將不同溫度下氫化處理的樣品分別標記為BiOCl100,BiOCl150,BiOCl200。
將制備的活性物質BiOClθ(θ為反應溫度,分別為100,150,200 ℃)和乙炔黑以質量比8∶1混合研磨,加入適量的無水乙醇,超聲10 min 后滴加一定量的PTFE 乳液(2 mol/L)(乙炔黑∶PTFE(質量比)=1∶1),超聲1 h。隨后將上述漿料均勻涂抹在泡沫鎳上,80 ℃真空干燥12 h后,在壓片機上采用10 MPa壓力壓制成電極片。
將BiOClθ電極片放入6 mol/L的KOH溶液中浸泡1 h,采用三電極測試方法對其進行電化學性能測試。BiOClθ為工作電極,鉑電極為對電極,Hg/HgO電極為參比電極。采用CHI600E電化學工作站對BiOClθ電極片進行循環(huán)伏安(CV)和電化學阻抗譜(EIS)測試,電化學阻抗譜在開路電壓下測試,振幅為5 mV,頻率范圍為102~104kHz。采用Neware電池測試儀對BiOClθ電極片進行恒電流充放電和循環(huán)性能測試,電壓窗口0~1 V。由式(3)計算得到BiOClθ電極片質量比電容CBiOCl。
式中:C為電極材料的比電容;I為放電電流;m為BiOClθ的質量;ΔV為電勢窗口。
采用德國布魯克公司生產的型號為AXS D8 的X 射線衍射儀(X ray diffraction,XRD)(Cu 靶Kα 輻射,測試角度為10°~60°)測試樣品的晶體結構。采用型號為S-4200 的場發(fā)射掃描電子顯微鏡(field-emission scanning electron microscope,FESEM)和型號為JEM-2100F 的高分辨透射電子顯微鏡(high-resolution transmission electron microscope,HRTEM)觀察樣品的微觀形貌。采用型號為Thermo ESCALAB 250 XI 的X射線光電子能譜(X ray photoelectron spectroscopy,XPS)檢測材料表面元素組分(Al靶Kα輻射)。采用英國雷尼紹Renishaw公司的inVia激光共聚焦拉曼光譜儀測試材料的拉曼光譜(Raman spectroscopy),激發(fā)波長為425 nm。
圖1 為BiOCl 樣品不同溫度下氫化處理的XRD 圖譜。從圖1 可觀察到:沒有氫化處理的樣品在12.0°,24.1°,25.9°,32.5°和33.5°處出現衍射峰,分別對應于BiOCl的(001),(002),(101),(110)和(102)晶面(JCPDS卡片號為85-0861)(圖1(a));氫化處理樣品的衍射峰向著低角度方向偏移(圖1(b));隨著氫化溫度的升高,BiOCl晶格間距增大。晶格中氧原子缺失導致原子層厚度減小,從而造成表面張力增加,晶格間距加大,致使衍射峰的位置向左偏移[18]。
圖1 BiOCl,BiOCl100,BiOCl150,BiOCl200的XRD圖譜Fig.1 XRD patterns of BiOCl,BiOCl100,BiOCl150,BiOCl200
圖2 為氫化處理前后BiOCl 和BiOCl150樣品的拉曼光譜。從圖2可觀察到:BiOCl有3個明顯的特征峰,分別位于62.79,148.34,202.35 cm-1處,位于62.79 cm-1處的峰是由于外部Bi—Cl 產生,148.34 cm-1處的強峰是由于A1g內部Bi—Cl拉伸模式產生,存在于202.35 cm-1處的峰為Eg內部Bi—Cl拉伸模式[19-21];與BiOCl樣品相比,BiOCl150樣品的特征峰出現可視的移動和展寬,主要是由于氧空位引起B(yǎng)iOCl表面電子結構發(fā)生變化造成的[22]。
圖2 BiOCl和BiOCl150的拉曼圖譜Fig.2 Raman spectrum of BiOCl and BiOCl150
采用XPS 分析進一步研究樣品的表面組成和化學狀態(tài),圖3為BiOCl和BiOCl150樣品的O 1s高分辨圖譜。由圖3可以看出:對于BiOCl和BiOCl150樣品的O 1s圖譜,OL特征峰對應于晶格氧(Bi—O鍵),位于530.0 eV處;OW特征峰對應于Bi—O層間的游離氧,位于532.0 eV 處;位于531.2 eV 處的OV特征峰與氧空位有關。表面氧空位的存在增加了氧氣的潛在吸附[22-24]。表1為BiOCl和BiOCl150樣品中不同氧物種的含量。從表1 可看出,與BiOCl 相比,BiOCl150中的OV含量顯著增加,質量分數達6.7%,這主要是氧缺陷的存在增加氧氣吸附所致。
表1 O 1s高分辨譜中不同氧物種的含量Tab.1 Content of different oxygen species in the decomposed O 1s
圖3 BiOCl和BiOCl150的O 1s高分辨圖譜Fig.3 O 1s high resolution spectrum of BiOCl and BiOCl150
圖4為BiOCl原始樣品以及不同溫度下氫化處理樣品的FESEM圖。由圖4可觀察到:BiOCl原始樣品呈片狀組成的分級球狀形貌,尺寸為2~3 μm;隨著氫化處理溫度的升高,樣品球狀結構的塌陷程度逐漸增大,這是晶格中氧原子缺失所致;BiOCl150為大量疊加的片狀形貌,這與SEM圖片結果吻合;BiOCl150樣品的晶格條紋為0.267 nm,對應于BiOCl相的(102)晶面;值得注意的是,BiOCl150樣品邊緣模糊,這與BiOCl晶格中氧空位引起的晶格畸變有關[22,25]。
圖4 BiOCl,BiOClθ的FESEM圖像及BiOCl150的TEM和HRTEM圖像Fig.4 FESEM images of BiOCl,BiOClθ and TEM and HRTEM images of BiOCl150
圖5 為BiOCl,BiOClθ循環(huán)伏安曲線、充放電曲線及循環(huán)穩(wěn)定性。圖5(a)為BiOCl 和BiOClθ樣品在0.5 mV·s-1掃描速率下的循環(huán)伏安曲線。由圖5(a)可觀察到,樣品在-0.4,-0.7 V 左右均出現一對氧化還原峰,表現為贗電容行為。BiOCl的還原反應機理如下:
氧化反應機理如下:
圖5(b)為電流密度為0.5 A·g-1時,BiOCl和BiOClθ樣品的充放電曲線。從圖5(b)可觀察到,在充電過程中,BiOClθ電極電位迅速下降,降至-0.6 V左右時到達平臺,然后放電至-1 V,進一步說明BiOCl材料具有贗電容特性。根據式(1)可計算出BiOClθ樣品電極的比電容,結果如圖5(c)。由圖5(c)可看出:電流密度為0.5 A·g-1時,BiOCl150的比電容為983 F·g-1,而BiOCl的比電容僅500 F·g-1,這主要是由于氧空位增加了載流子濃度,便于離子/電子的傳輸,從而提高了電子/離子的遷移速率[26];值得注意的是,BiOCl200樣品的比電容稍微下降,這主要是過多的氧空位造成部分區(qū)域晶格結構塌陷,從而導致電容損失。
圖5 BiOCl,BiOClθ循環(huán)伏安曲線、充放電曲線及循環(huán)穩(wěn)定性Fig.5 Cyclic voltammetry,charge and discharge curves and cycle stability of BiOCl and BiOClθ
圖5(d)為BiOCl150在不同掃描速率下的循環(huán)伏安曲線。從圖5(d)可觀察到:BiOCl150的贗電容行為是由Bi 和Bi2O22+的氧化還原反應引起的,主要表現為在-0.336,-0.714 V 處的氧化還原峰;值得注意的是,在-0.523 V附近產生小峰,這是由于未轉化的BiOCl基質氧化所致[27];隨著掃描速率的增加,CV曲線的形狀保持不變,進一步說明BiOCl150材料具良好的電容性能和優(yōu)異的速率能,電流密度在0.5,1,2,5 A·g-1下的比電容分別為983,465,205,77 F·g-1,說明BiOCl150樣品具良好的倍率性能。
為進一步評估BiOCl150電極材料的循環(huán)穩(wěn)定性,在電流密度為1 A·g-1下對BiOCl150進行1 000次的充放電循環(huán)性能測試,結果如圖5(f)。由圖5(f)可看出,BiOCl150電極材料1 000次循環(huán)后,電容保持率約55%,循環(huán)穩(wěn)定性較好。
圖6 為BiOCl 樣品的奈奎斯特圖。從圖6 可觀察到:BiOClθ樣品在高頻區(qū)呈半圓特征,低頻區(qū)呈直線特征;BiOCl,BiOCl100,BiOCl150,BiOCl200的內阻Rs分別為1.26,1.17,1.14,1.16 Ω,說明氧空位增強了材料的電導率。高頻區(qū)半圓直徑表示電解質/電極界面的電荷轉移電阻Rct,低頻區(qū)直線斜率為擴散電阻。從圖6 還可觀察到,BiOClθ樣品的Rct幾乎一致,但隨著氫化溫度的升高,擴散電阻逐漸減小,BiOCl150表現出最小的擴散電阻。這是氧空位能有效改變材料的電子結構,減小電子/離子擴散阻力所致[28]。
圖6 BiOClθ樣品的奈奎斯特圖Fig.6 Nyquist plot of BiOClθ samples
采用共沉淀法制備系列富含氧空位的分級BiOCl微球,研究氧空位對BiOCl微球的表面狀態(tài)、微觀形貌及電化學性能的影響,得到如下主要結論:
1)BiOCl微球為由片狀組成的分級結構,尺寸為2~3 μm;氫化溫度為150 ℃時,氧空位質量分數達6.7%;隨著氫化溫度的增加,樣品球狀結構塌陷程度逐漸增大,這主要是由于晶格中氧原子缺失所致。
2)電流密度為0.5 A·g-1時,BiOCl150樣品的質量比電容為983 F·g-1,相比于未氫化處理的樣品,比電容提高了483 F·g-1,這主要是由于氧空位增加載流子濃度,便于電子/離子的傳輸,從而提高電導率所致。
本研究不僅提出了提高BiOCl電化學性能的簡單路線,而且為發(fā)展綠色和高性能超級電容器指明了新的方向。