梁旭華,繆情俄,趙艷艷
(商洛學(xué)院生物醫(yī)藥與食品工程學(xué)院,陜西商洛 726000)
目前,抗生素的使用量不斷增長(zhǎng),由此引起的生態(tài)環(huán)境問題和細(xì)菌耐藥性問題受到越來越多的關(guān)注,抗生素環(huán)境殘留、遷移轉(zhuǎn)化行為已逐漸成為研究熱點(diǎn)。 頭孢曲松鈉(C18H16N8Na2O7S3·3.5H2O)作為一種β-內(nèi)酰胺類抗生素,是臨床上常用的第三代頭孢菌素類廣譜抗生素,能有效抑制革蘭氏陽性菌及革蘭氏陰性菌的生長(zhǎng),因此被廣泛應(yīng)用于人體疾病治療和養(yǎng)殖業(yè)。頭孢曲松鈉的分子量為661.59,易溶于水,常用劑型為粉針劑,使用后在生活污水、制藥工業(yè)廢水及家禽養(yǎng)殖污水中大量殘留,并隨之排放進(jìn)入環(huán)境,引起一系列危害人類健康和環(huán)境破壞問題[1]。
目前,研發(fā)高效且環(huán)境友好的催化材料將頭孢曲松鈉降解為CO2、H2O及其他無毒無害的小分子顯得尤為重要。近年來,大量研究表明鎢酸鉍(Bi2WO6)具有高效光催化降解性能,目前已成為該領(lǐng)域研究熱點(diǎn)。涂亞鵬[2]總結(jié)了可見光催化劑Bi2WO6的制備方法及其光催化性能,并采用溶膠凝膠法制備了Bi2WO6,研究發(fā)現(xiàn)在氙燈模擬太陽光條件下,Bi2WO6對(duì)甲基橙的降解率可達(dá)92%,太陽光降解率達(dá)58%。然而,由于Bi2WO6光生電子-空穴對(duì)快速?gòu)?fù)合,其可見光響應(yīng)范圍受到了極大限制[3]。研究發(fā)現(xiàn)材料的光催化活性與其結(jié)構(gòu)密切相關(guān),因此研究者主要關(guān)注改善Bi2WO6材料的結(jié)構(gòu),而構(gòu)建復(fù)合材料被認(rèn)為是增強(qiáng)其光催化活性的有效途徑。郭丹等[4]采用一步法制備石墨烯復(fù)合花狀鎢酸鉍,研究結(jié)果顯示其催化活性為純Bi2WO6的1.7倍。楊莉等[5]以酵母細(xì)胞為模板,采用生物模板法制備了Bi2WO6空心微球,增大了催化劑的比表面積,顯著提高了光催化降解效果。魏偉[6]通過摻雜稀土離子的方式對(duì)Bi2WO6進(jìn)行改性,制備了光催化-熒光雙功能納米材料,在增強(qiáng)光催化效果的同時(shí)可以進(jìn)行熒光標(biāo)記。石墨相氮化碳(g-C3N4)作為典型的二維層狀材料,較窄的禁帶寬度和特殊的層狀結(jié)構(gòu)有效改善了其可見光響應(yīng)[7],已成為光催化降解領(lǐng)域的一顆新星。若能將g-C3N4和Bi2WO6復(fù)合,利用二者的協(xié)同作用制備高效光催化材料,將探索出一條治理抗生素殘留的新路徑。本文采用水熱合成法制備Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料,重點(diǎn)對(duì)其結(jié)構(gòu)、降解頭孢曲松鈉活性及降解機(jī)理進(jìn)行深入研究,為治理抗生素殘留提供一條新的思路。
材料:三聚氰胺、硝酸鉍(Bi(NO3)3·5H2O)及鎢酸鈉(Na2WO4·2H2O)購(gòu)自國(guó)藥集團(tuán);頭孢曲松鈉購(gòu)自悅康藥業(yè)集團(tuán)有限公司;去離子水為實(shí)驗(yàn)室自制;其他試劑均為分析純級(jí)別,不經(jīng)處理直接使用。
儀器:水熱釜(100 mL);電子分析天平;鼓風(fēng)干燥箱;磁力攪拌器;高速離心機(jī);X射線衍射儀;馬弗爐;傅里葉變換紅外光譜儀;超聲波清洗儀;掃描電子顯微鏡;紫外可見分光光度計(jì);熒光分光光度計(jì)。
1.2.1 Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料的制備
采用高溫煅燒法制備塊狀g-C3N4:稱取10 g三聚氰胺置于瓷坩堝中,在馬弗爐中600℃煅燒4 h,研磨即得塊狀g-C3N4材料。稱取一定量g-C3N4超聲分散于60 mL去離子水中,加入1 mmol Na2WO4·2H2O和2 mmol Bi(NO3)3·5H2O,用冰醋酸溶液調(diào)節(jié)pH至5,然后轉(zhuǎn)移至水熱反應(yīng)釜中,180℃反應(yīng)18 h。自然冷卻后,離心,干燥即得Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料。
1.2.2 材料的結(jié)構(gòu)表征
由于材料的光催化降解性能與結(jié)構(gòu)密切相關(guān),本研究通過XRD法考察Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料的晶體結(jié)構(gòu),F(xiàn)TIR法測(cè)定其表面特征官能團(tuán),SEM法分析其微觀形貌,采用XPS分析其元素組成。
1.2.3 Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料吸附頭孢曲松鈉
準(zhǔn)確稱取0.1 g新制備的Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料超聲分散于新配制的頭孢曲松鈉溶液中(100 mL,10 mg·mL-1)[8],室溫下避光攪拌 70 min,每10 min取樣一次,測(cè)定其在254 nm處的吸光度。采用式(1)計(jì)算Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料對(duì)頭孢曲松鈉的吸附容量(Q),以評(píng)價(jià)其吸附性能[9]。
其中,C0和Ct分別為頭孢曲松鈉初始濃度和吸附t時(shí)刻的濃度,m為質(zhì)量,V為溶液體積。
1.2.4 Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料降解水中頭孢曲松鈉
準(zhǔn)確稱取100 mg Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料超聲分散于100 mL 10mg·mL-1的頭孢曲松鈉水溶液中,室溫下采用300 W的氙燈照射并攪拌使其達(dá)到吸附平衡。每20 min取樣一次,測(cè)定頭孢曲松鈉的吸光度,降解率[10]計(jì)算公式為:
式中,C0和Ct分別為頭孢曲松鈉初始濃度和吸附t時(shí)刻的濃度。
1.2.5 Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料降解頭孢曲松鈉機(jī)理分別稱取三份100 mg Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料,加入到三份100 mL頭孢曲松鈉水溶液(10 mg·mL-1)中,接著分別加入10 mg的活性成分捕獲劑,其中三乙醇胺(TEOA)作為空穴(h+)捕獲劑,對(duì)苯醌(BQ)作為超氧自由基捕獲劑,叔丁醇(t-BuOH)作羥基自由基(·OH)的捕獲劑。以300 W的氙燈模擬太陽光,每20 min取樣5 mL,離心,取上清液,采用紫外-可見分光光度法測(cè)定頭孢曲松鈉的降解率,研究分析Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料降解頭孢曲松鈉的機(jī)理。
2.1.1 SEM分析材料的形貌
如圖1(a)所示,Bi2WO6是由許多有序的納米片組成的三維花狀結(jié)構(gòu),此種結(jié)構(gòu)具有較大的比表面積,能夠增加與抗生素的接觸面積,增強(qiáng)光催化效果;圖1(b)顯示g-C3N4為二維層狀結(jié)構(gòu),具有較大的比表面積,可以高效吸附納米晶體;圖1(c)為Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料的形貌,通過水熱法原位復(fù)合后,3D-花狀Bi2WO6和二維層狀g-C3N4材料緊密結(jié)合,Bi2WO6與g-C3N4的形貌均未發(fā)生改變。
2.1.2 FTIR分析
采用FTIR法分析所制備的Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料的表面官能團(tuán),如圖2所示,g-C3N4的紅外光譜圖中,808 cm-1可歸屬于三嗪環(huán)特征峰,1000~1800 cm-1的一系列峰可歸屬于C-N和C=N的伸縮振動(dòng)峰,3000~3300 cm-1處的寬峰可歸屬于N-H的伸縮振動(dòng)[11]。Bi2WO6材料在702 cm-1和813 cm-1處具有兩個(gè)強(qiáng)的窄峰,可分別歸屬于W=O和Bi=O的伸縮振動(dòng)峰[12-13]。Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料中既有g(shù)-C3N4的特征峰,又有Bi2WO6的特征峰,證明成功制備得到了Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料。
圖2 光催化降解材料的紅外光譜圖
2.1.3 XRD分析
為了了解Bi2WO6/g-C3N4的晶體結(jié)構(gòu),本研究采用XRD法分別對(duì)Bi2WO6、g-C3N4及Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料進(jìn)行了檢測(cè),如圖3所示。純Bi2WO6材料在 28.2°、32.8°、47.1°、56.1°、58.8°和 68.9°的衍射峰分別對(duì)應(yīng)其 (131)、(200)、(202)、(331)、(262)和(400)晶面,證明 Bi2WO6為純斜方相晶型[14]。g-C3N4在 13.1°和 27.5°的兩個(gè)衍射峰,分別與g-C3N4標(biāo)準(zhǔn)卡片的(100)晶面和(002)晶面吻合[15]。Bi2WO6與g-C3N4復(fù)合后,由于g-C3N4在13.1°的峰強(qiáng)度太弱而沒有出現(xiàn),Bi2WO6與g-C3N4的特征峰28.2°與27.5°相距較近,在復(fù)合材料上表現(xiàn)為一個(gè)較寬的峰,證明成功制備得到Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料。
圖3 光催化材料的X射線衍射圖譜(XRD)
2.1.4 XPS分析
XPS是分析元素組成的重要手段,其原理是樣品在X射線輻射下,原子或分子內(nèi)層電子或價(jià)電子將被激發(fā)出來,通過測(cè)量逃逸的電子數(shù),從而得到XPS譜圖。本研究采用XPS全譜分析Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料的元素組成,如圖4所示。從Bi2WO6的XPS圖譜中可以發(fā)現(xiàn)Bi、W、O及C元素的特征峰,C的峰主要來源于CO2。與單純的Bi2WO6材料相比,Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料的譜圖中出現(xiàn)了明顯增強(qiáng)的C和N的吸收峰,證實(shí)了復(fù)合材料中含有Bi、W、O、C和N元素組成,說明成功制備得到了Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料。
圖4 Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料的XPS圖譜
光催化材料的吸附性能對(duì)頭孢曲松鈉的降解率有顯著影響,吸附率越大,說明目標(biāo)污染物與材料的活性位點(diǎn)接觸越密切,從而降解效率越高。本研究采用紫外分光光度法測(cè)定了Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料對(duì)頭孢曲松鈉的吸附率,如圖5所示。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,在暗吸附的前50 min,Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料對(duì)頭孢曲松鈉的吸附能力迅速增加,隨后吸附率不再有明顯變化,Bi2WO6、g-C3N4和Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料的吸附率分別為0.18、1.45、3.4 mg·g-1, 表明 Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料具有優(yōu)于單體材料的吸附性能,為其優(yōu)良的光催化降解頭孢曲松鈉性能提供了佐證。
圖6為 Bi2WO6、g-C3N4和 Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料對(duì)頭孢曲松鈉的降解率,從圖6中可以發(fā)現(xiàn),不加入光催化材料僅僅用300 W氙燈模擬太陽光降解頭孢曲松鈉120 min,降解率為5.73%,大大低于實(shí)驗(yàn)組的降解率,說明實(shí)驗(yàn)中可以忽略光對(duì)降解率的影響[16-17]。在可見光輻射120 min后,單純采用Bi2WO6或g-C3N4作為光催化材料降解頭孢曲松鈉,降解率分別為 82.7%和60.4%,而Bi2WO6/g-C3N4對(duì)頭孢曲松鈉的降解率可達(dá)94.5%,說明在光催化過程中,Bi2WO6和C3N4發(fā)生了協(xié)同作用,從而極大的提高了頭孢曲松鈉的降解率。
圖5 光催化材料吸附頭孢曲松鈉
圖6 光催化材料降解頭孢曲松鈉
不同淬滅劑存在下Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料對(duì)頭孢曲松鈉的降解率,如表1所示。
從表1中可發(fā)現(xiàn),捕獲劑的存在對(duì)頭孢曲松鈉的降解率具有明顯的影響。當(dāng)采用TEOA捕獲空穴(h+)后,頭孢曲松鈉的降解率僅有27.33%;采用t-BuOH及BQ分別捕獲羥基自由基(·OH)和超氧自由基后,頭孢曲松鈉的降解率均有不同程度下降。TEOA對(duì)降解率的影響最大,說明在光催化降解過程中,TEOA屏蔽的空穴(h+)起到了主要的催化作用。根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果可以推測(cè)出材料的光催化機(jī)理為:當(dāng)Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料受到高能入射光激發(fā)時(shí),Bi2WO6和g-C3N4特殊的能帶結(jié)構(gòu)使價(jià)帶產(chǎn)生的空穴(h+)在g-C3N4的價(jià)帶上積聚,導(dǎo)帶產(chǎn)生的電子(e-)在Bi2WO6的導(dǎo)帶上積聚,從而實(shí)現(xiàn)了光生電子和空穴的分離。當(dāng)頭孢曲松鈉與強(qiáng)氧化性的空穴反應(yīng)后能被氧化分解為H2O、CO2和其他小分子物質(zhì),從而達(dá)到治理水中殘留抗生素類有機(jī)污染物的目的。
表1 不同捕獲劑存在下Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料降解頭孢曲松鈉的降解率
本研究通過水熱復(fù)合法制備Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料,并研究其對(duì)水中頭孢曲松鈉的降解性能和機(jī)理,以尋找綠色高效的降解水中抗生素類有機(jī)污染物的方法。通過一系列表征手段對(duì)復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究,成功制備了Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料。由于Bi2WO6和g-C3N4的協(xié)同作用,Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料具有優(yōu)于單純Bi2WO6和g-C3N4的光催化活性,能夠有效降解水中殘留頭孢曲松鈉。因此,Bi2WO6/g-C3N4復(fù)合材料為治理水中抗生素類有機(jī)污染物提供了一種新方法,具有巨大的應(yīng)用價(jià)值。