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    低共熔溶劑中原位合成ZIF-8膜及其氣體分離性能

    2016-09-09 03:31:54厲曉蕾陶碩李科達(dá)王亞松王蘋田志堅(jiān)
    物理化學(xué)學(xué)報 2016年6期
    關(guān)鍵詞:雙組分氧化鋁降溫

    厲曉蕾 陶碩 李科達(dá) 王亞松 王蘋 田志堅(jiān),3,*

    (1中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所,潔凈能源國家實(shí)驗(yàn)室,遼寧大連116023;2中國科學(xué)院大學(xué),北京100049;3中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所,催化基礎(chǔ)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,遼寧大連116023)

    低共熔溶劑中原位合成ZIF-8膜及其氣體分離性能

    厲曉蕾1,2陶碩1,2李科達(dá)1王亞松1,2王蘋1,2田志堅(jiān)1,3,*

    (1中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所,潔凈能源國家實(shí)驗(yàn)室,遼寧大連116023;2中國科學(xué)院大學(xué),北京100049;3中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所,催化基礎(chǔ)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,遼寧大連116023)

    在α-氧化鋁載體上,采用原位合成法,在尿素/氯化膽堿低共熔溶劑中合成了ZIF-8膜。采用X射線衍射(XRD)和掃描電子顯微鏡(SEM)對合成的ZIF-8膜進(jìn)行了表征??疾炝朔磻?yīng)溶液濃度、降溫速率對ZIF-8膜合成的影響。通過優(yōu)化合成條件合成了表面平整致密,厚度為8 μm的ZIF-8膜。采用Wicke-Kallenbach技術(shù)對優(yōu)化條件下合成的ZIF-8膜進(jìn)行了單組分氣體滲透和雙組分混合氣體分離性能表征。在室溫(293 K)下,ZIF-8膜對H2/CO2、H2/O2、H2/N2、H2/CH4雙組分氣體的分離系數(shù)分別為7.4、5.2、9.1、13.8,均大于相應(yīng)的努森擴(kuò)散分離系數(shù),說明合成的ZIF-8膜具有分子篩分性能。

    金屬有機(jī)骨架;低共熔溶劑;ZIF-8膜;氣體分離;分子篩分

    1 引言

    沸石咪唑酯骨架結(jié)構(gòu)材料(zeolitic imidazolate frameworks,ZIFs),是一類由過渡金屬離子(Zn2+、Co2+、Cu2+)與咪唑基配體配位而成的具有沸石拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的新型金屬有機(jī)骨架材料(metal-organic frameworks,MOFs)1。ZIFs結(jié)合了MOFs材料和沸石分子篩材料的優(yōu)勢,不僅具有規(guī)則的孔道結(jié)構(gòu)、可調(diào)節(jié)性的孔道尺寸、較高的比表面積和微孔體積,還具有異常的熱和化學(xué)穩(wěn)定性2,3。ZIFs材料高的選擇性和穩(wěn)定性,使其在氣體分離膜方面具有廣闊的前景4-8。目前,已經(jīng)有多種ZIFs材料(ZIF-79、ZIF-810,11、ZIF-2212、ZIF-6913、ZIF-7814和ZIF-9015等)被成功制備成具有氣體分離性能的膜。ZIF-8是目前ZIFs材料中研究得最廣泛,也是最具有代表性的一種,關(guān)于ZIF-8膜的合成方法的報道也不斷增多。ZIF-8膜采用的合成方法主要借鑒分子篩膜的制備方法,如原位合成法10,16,17、二次生長法18-20、表面功能化法21、逆擴(kuò)散法22和靜電紡絲技術(shù)23等。原位合成法操作簡單,但是由于ZIF-8在載體上的異相成核密度很低,原位合成法制備的ZIF-8膜容易存在晶界和裂縫等缺陷使分離性能下降10,16。如何控制ZIF-8在載體上均勻成核及生長是原位合成法制備高質(zhì)量的ZIF-8膜需要克服的難題。

    離子熱合成法是采用離子液體或者低共熔溶劑(deep eutectic solvent,DES)代替水或者有機(jī)溶劑的合成方法24-29。離子液體的特殊性質(zhì),如蒸氣壓可以忽略,液程寬,可調(diào)節(jié)的溶劑化特性等,使離子熱合成在金屬-有機(jī)骨架材料合成中表現(xiàn)出特別的性能30-32。最近我們報道了在離子液體和低共熔溶劑中合成ZIFs材料33,34。ZIF-8在尿素/氯化膽堿ChCl低共熔溶劑中的合成過程遵循溶解-結(jié)晶析出機(jī)理。程序控制冷卻時,ZIF-8在低共熔溶劑冷卻階段析出,類似于可溶性鹽的冷卻結(jié)晶35,并且冷卻速率可以顯著影響ZIF-8晶體的尺寸和形貌。在此研究基礎(chǔ)上,本文首次報道了利用溶解-結(jié)晶析出機(jī)理在α-氧化鋁載體上,在尿素/氯化膽堿低共熔溶劑中原位合成了ZIF-8膜??疾炝朔磻?yīng)溶液濃度和降溫速率對ZIF-8膜合成的影響,優(yōu)化了合成條件。采用Wicke-Kallenbach技術(shù)對ZIF-8膜進(jìn)行了H2、CO2、O2、N2、CH4單組分氣體滲透和雙組分氣體分離性能表征。低共熔溶劑中利用溶解-結(jié)晶析出機(jī)理原位合成ZIF-8膜的方法,結(jié)合了尿素/氯化膽堿低共熔溶劑的綠色、安全、制備簡單等優(yōu)點(diǎn),不僅具有新穎性,而且操作簡單,安全環(huán)保。

    表1 ZIF-8膜的合成條件Table 1Synthesis conditions for ZIF-8 membrane

    2 實(shí)驗(yàn)部分

    2.1試劑與材料

    尿素(AR,天津科密歐化學(xué)試劑有限公司);氯化膽堿(AR,阿拉丁化學(xué)試劑有限公司);六水合硝酸鋅(AR,天津科密歐化學(xué)試劑有限公司);2-甲基咪唑(AR,阿拉丁化學(xué)試劑有限公司);片狀α-Al2O3多孔載體為自制樣品,制備方法為:取1.25 g α-Al2O3粉末放入內(nèi)徑為20 mm的不銹鋼模具,以20 MPa壓力擠壓5 min,制得直徑20 mm,厚度2 mm的α-Al2O3圓片;所得氧化鋁載體在1150°C焙燒20 h,冷卻至室溫,用去離子水超聲洗滌多次,在120°C干燥12 h后備用。

    2.2ZIF-8膜制備

    將12.1 g尿素與13.98 g氯化膽堿混合(摩爾比2:1),80°C加熱至熔化。將六水合硝酸鋅和2-甲基咪唑依次加入到低共熔混合物中,攪拌至溶解。將自制的α-氧化鋁載體垂直放入帶聚四氟乙烯內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜內(nèi),向釜中倒入反應(yīng)溶液,液面高度必須完全沒過載體,反應(yīng)釜放入120°C烘箱保持一段時間后,采用急速冷卻(冰水?。┗虺绦蚩刂茖Ψ磻?yīng)釜降溫。冷卻后取出載體,超聲清洗1 min使表面附著的松散晶粒脫落。載體在去離子水中浸泡12 h后于80°C烘箱中干燥12 h。在氣體滲透測試前,ZIF-8膜需在100°C下真空干燥12 h,以去除吸附在膜上的各種雜質(zhì)。ZIF-8膜的合成條件見表1。

    2.3ZIF-8膜的表征

    采用荷蘭帕那科公司的X?Pert Pro PROX型X射線衍射儀(XRD)測定樣品的晶相,測試條件:Cu靶,Kα輻射(λ=0.15418 nm),Ni濾波,工作電流40 mA,工作電壓40 kV,掃描范圍5°-40°,掃描速率5(°)?min-1。采用日本日立S4800型,TM3000型掃描電鏡(SEM)觀測樣品的形貌,樣品測試前經(jīng)鍍金處理。

    2.4ZIF-8膜的氣體滲透性能表征

    采用Wicke-Kallenbach技術(shù)在自制的滲透裝置上對ZIF-8膜進(jìn)行氣體分離性能表征10。氣體滲透裝置原理圖見圖1。ZIF-8膜密封在滲透池中。進(jìn)氣側(cè)流量和吹掃氣流量由質(zhì)量流量控制器控制。對于單組分氣體滲透,進(jìn)氣側(cè)流量為50 mL?min-1。對于雙組分氣體滲透,進(jìn)氣側(cè)的總流量為100 mL?min-1,兩種氣體的流量各為50 mL?min-1。對于單組分和雙組分氣體滲透,N2作為吹掃氣(進(jìn)氣側(cè)有N2時,CH4作為吹掃氣),吹掃氣流量均為50 mL?min-1。測試在室溫(293 K)下進(jìn)行,膜兩側(cè)壓力均為0.1 MPa。滲透側(cè)氣體進(jìn)入色譜(Agilent 7890A,熱導(dǎo)檢測器(TCD))在線分析。氣體滲透性能由滲透通量和分離系數(shù)評價。雙組分混合氣體的分離系數(shù)定義為滲透側(cè)組分的摩爾分?jǐn)?shù)之比(yi/yj)除以滲透余側(cè)αi,j組分的摩爾分?jǐn)?shù)之比(xi/xj):

    3 結(jié)果與討論

    3.1反應(yīng)溶液濃度的影響

    在原位合成法制備ZIFs膜時,提高ZIFs在氧化鋁載體上的異相成核密度有利于制備連續(xù)的ZIFs膜。ZIF-8在低共熔溶劑中的析出過程類似于可溶性鹽的冷卻結(jié)晶,反應(yīng)溶液的濃度影響ZIF-8的成核密度33,因此我們考察了反應(yīng)溶液濃度對ZIF-8膜合成的影響。圖2和圖3分別是降溫速率為2°C?min-1時在不同濃度反應(yīng)溶液中合成的ZIF-8膜的XRD圖和SEM照片。XRD圖顯示,當(dāng)反應(yīng)溶液配比為n(Zn2+):n(2-Mim):n(urea):n(ChCl)= 1:4:80:40時,載體表面沒有ZIF-8的衍射峰。

    圖1 氣體滲透裝置原理圖Fig.1 Schematic diagram of gas permeation apparatusMFC:mass flow controller,GC:gas chromatography

    圖2 不同濃度反應(yīng)溶液中合成的ZIF-8膜(M1-M4)的XRD譜圖Fig.2XRD patterns of ZIF-8 membranes(M1-M4)prepared in different concentrations of reaction solutionThe solution compositions are shown in Table 1.

    圖3 不同濃度反應(yīng)溶液中合成的ZIF-8膜(M1-M4)的掃描電鏡圖片F(xiàn)ig.3SEM images of ZIF-8 membranes(M1-M4)prepared in different concentrations of reaction soultion

    當(dāng)反應(yīng)溶液濃度升高到1:4:60:30時,XRD譜圖中出現(xiàn)了7.35°、10.40°、12.75°、16.48°、18.07°等較弱的ZIF-8的特征衍射峰。隨著反應(yīng)溶液濃度的升高,XRD衍射譜圖上ZIF-8的衍射峰逐漸增強(qiáng)。SEM照片與XRD衍射譜圖結(jié)果一致。當(dāng)反應(yīng)溶液配比為1:4:80:40時,SEM照片顯示了粗糙的載體表面,沒有ZIF-8晶體生成。當(dāng)反應(yīng)溶液濃度升高到1:4:60:30時,氧化鋁載體表面散落分布著截角菱形十二面體ZIF-8晶體,晶體尺寸較大,晶粒之間沒有相互連接。隨著反應(yīng)溶液濃度繼續(xù)升高,氧化鋁載體表面上ZIF-8晶體的數(shù)量逐漸增多,尺寸顯著減小,ZIF-8晶體的覆蓋度增加。當(dāng)反應(yīng)溶液濃度升高到1:4:20:10時,α-氧化鋁載體上均勻覆蓋了一層ZIF-8晶體,晶粒之間相互交聯(lián)形成完整的ZIF-8膜。載體上ZIF-8的形貌也發(fā)生了改變,這是因?yàn)閆IF-8晶體屬于立方晶系,其形貌由{100}、{110}、{111}三個晶面的生長速率所決定,而晶面的生長速率與合成體系的過飽和度有關(guān)36。體系的過飽和度較低時,{100}、{110}、{111}三個晶面的生長速率接近,因此得到ZIF-8的形貌為截角菱形十二面體。隨著反應(yīng)溶液濃度的升高,一方面是由于體系過飽和度的升高,{100}晶面的生長速率增加,ZIF-8晶體的形貌會由截角菱形十二面體向菱形十二面體轉(zhuǎn)變,另一方面是由于成核密度高,ZIF-8晶體的生長會受到周圍晶體的阻礙,形貌變得不規(guī)則,而且晶體相互交聯(lián)形成完整的ZIF-8膜。以上結(jié)果說明提高反應(yīng)溶液濃度有利于合成完整的ZIF-8膜,這是因?yàn)殡S著反應(yīng)溶液濃度的增加,體系的過飽和度升高,ZIF-8在氧化鋁載體表面的異相成核逐漸增多,而高的成核密度有利于合成ZIF-8膜。

    3.2降溫速率的影響

    在ZIF-8膜原位合成過程中,控制載體上ZIF-8的均勻成核及生長是得到高質(zhì)量的ZIF-8膜的關(guān)鍵。根據(jù)我們之前的報道,ZIF-8在低共熔溶劑的冷卻階段析出,降溫速率能夠顯著影響ZIF-8的成核與生長,從而影響產(chǎn)物的尺寸與形貌。我們考察了反應(yīng)溶液配比為n(Zn2+):n(2-Mim):n(urea): n(ChCl)=1:4:20:10時,降溫速率對ZIF-8膜合成的影響。圖4顯示了在降溫速率分別為0.5、1、2°C?min-1時合成的ZIF-8膜的掃描電鏡照片。在降溫速率為0.5°C?min-1時,氧化鋁載體表面覆蓋一層尺寸約為20 μm的ZIF-8晶體,晶體間的結(jié)合疏松,存在較大的晶間缺陷。降溫速率升高到1°C?min-1時,載體表面的ZIF-8晶體較致密,但是不平整,側(cè)面SEM照片也顯示ZIF-8膜厚度不均勻。在降溫速率增加到2°C?min-1時,SEM照片顯示氧化鋁載體表面均勻覆蓋著一層ZIF-8晶體,晶體間的結(jié)合致密,膜表面也較為平整,側(cè)面SEM照片顯示膜的厚度大約為8 μm。從SEM照片可以看出,隨著降溫速率的增加,氧化鋁載體表面的ZIF-8膜晶體尺寸逐漸減小,晶體間的結(jié)合也由疏松變得致密,膜表面也變得平整,說明較快的降溫速率有利于ZIF-8膜的合成。出現(xiàn)上述現(xiàn)象的原因是,ZIF-8在低共熔溶劑冷卻階段析出過程中,降溫速率較小時,ZIF-8晶體的生長時間相對較長32,根據(jù)奧斯特瓦爾德熟化理論,具有較高表面自由能的小晶粒趨向于重新溶解并生成較大尺寸晶體,因此降溫速率為0.5°C?min-1時氧化鋁載體上的ZIF-8晶體尺寸最大。ZIF-8晶體尺寸的增加不僅使膜的厚度增加,而且較大尺寸的晶體相互堆積易產(chǎn)生較大的缺陷。隨著降溫速率的升高,體系達(dá)到過飽和度的速率逐漸增加,成核的推動力增加,從而生成的晶核的數(shù)目逐漸增多。ZIF-8在固相/液相交界面大量異相成核,晶核通過范德華力與氧化鋁載體表面相連接,并繼續(xù)生長為連續(xù)的膜。而且隨著降溫速率的升高,晶體的生長時間逐漸縮短,因此降溫速率升高到1和2°C?min-1時,氧化鋁載體上的ZIF-8晶體尺寸逐漸減小并且覆蓋逐漸致密。但是當(dāng)降溫速率繼續(xù)增加,在快速降溫條件下,載體表面沒有ZIF-8晶體生成。這是因?yàn)榉磻?yīng)溶液快速冷卻時,溶液快速達(dá)到過飽和,ZIF-8晶體在反應(yīng)溶液體相中快速析出,雖然ZIF-8大量成核,但是晶核生長時間非常短,ZIF-8晶核沒有足夠的時間在氧化鋁載體表面充分生長進(jìn)而相互交聯(lián)成膜。因此,對于ZIF-8膜的合成最佳降溫速率為2°C?min-1。

    圖4 不同降溫速率下合成的ZIF-8膜(M4-M6)的掃描電鏡照片F(xiàn)ig.4SEM images of the ZIF-8 membranes(M4-M6)synthesized with different cooling rates

    3.3氣體分離性能表征

    采用Wicke-Kallenbach技術(shù)對在優(yōu)化條件下合成的M4膜進(jìn)行了H2、CO2、O2、N2和CH4的單組分氣體滲透和摩爾比為1:1混合的雙組分氣體分離性能表征。單組分氣體的滲透通量與分離系數(shù)如圖5所示。滲透通量的大小次序?yàn)镠2>O2> CO2>N2>CH4,與文獻(xiàn)17,37報道的一致。因?yàn)镠2的氣體動力學(xué)直徑和相對分子質(zhì)量最小,其滲透通量最高,為6.4×10-7mol?m-2?s-1?Pa-1。隨著氣體分子動力學(xué)直徑增大,ZIF-8膜孔道對氣體分子的阻力增大,特別是氣體分子動力學(xué)直徑大于ZIF-8孔口直徑的N2和CH4,滲透通量明顯降低。而氣體動力學(xué)直徑大于ZIF-8孔口直徑的N2和CH4也可以透過ZIF-8膜,一方面是由于ZIF-8的骨架結(jié)構(gòu)具有柔韌性38,另一方面是由于所合成的ZIF-8膜不可避免地存在缺陷。H2/CO2、H2/O2、H2/N2和H2/ CH4的理想分離系數(shù)為兩組分的滲透通量之比,分別為10.0、7.5、13.2和16.7,均大于相應(yīng)的努森擴(kuò)散系數(shù)(4.7、4.0、3.7和2.8),說明所合成的ZIF-8膜具有良好的氣體分離性能。

    摩爾比為1:1混合的雙組分氣體的滲透通量和分離系數(shù)列于表2。H2的滲透通量大于4.0×10-7mol?m-2?s-1?Pa-1,H2/CO2、H2/O2、H2/N2和H2/ CH4的分離系數(shù)分別為7.4、5.2、9.1和13.8。混合氣體的分離系數(shù)均小于理想分離系數(shù),這是由于另一組分的存在阻礙了H2在ZIF-8孔道中的擴(kuò)散,降低了H2的滲透通量。雙組分氣體的分離系數(shù)均大于相應(yīng)的努森擴(kuò)散系數(shù),這說明氣體分子主要通過ZIF-8的孔道,合成的ZIF-8膜具有分子篩分性能。

    圖5 ZIF-8膜(M4)的單組分氣體滲透通量與理想分離系數(shù)(α)Fig.5Single gas permeances and ideal separation factors (α)for ZIF-8 membrane(M4)

    表2 ZIF-8膜的雙組分氣體滲透通量與混合分離系數(shù)(α)Table 2Mixture gas permeances and mixture separation factors(α)for ZIF-8 membrane

    4 結(jié)論

    在α-Al2O3載體表面,采用原位生長法,在尿素/氯化膽堿低共熔混合物中合成了ZIF-8膜??疾榱朔磻?yīng)溶液濃度,降溫速率對ZIF-8膜合成的影響,優(yōu)化了ZIF-8膜的合成條件。研究發(fā)現(xiàn),提高反應(yīng)溶液濃度,降低降溫速率有利于得到致密的ZIF-8膜。在反應(yīng)液配比n(Zn2+):n(2-Mim): n(urea):n(ChCl)=1:4:20:10時,降溫速率為2°C?min-1時合成了表面平整致密的ZIF-8膜。采用Wicke-Kallenbach技術(shù)對ZIF-8膜進(jìn)行了氣體分離性能表征。在室溫(293 K)下,ZIF-8膜對H2/CO2、H2/ O2、H2/N2和H2/CH4雙組分混合氣體的分離系數(shù)分別為7.4、5.2、9.1和13.8,均大于相應(yīng)的努森擴(kuò)散分離系數(shù),這說明合成的ZIF-8具有分子篩分性能。

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    (35)Jones,A.G.;Mullin,J.W.Chem.Eng.Sci.1974,29,105. doi:10.1016/0009-2509(74)85036-0

    (36)Dirksen,J.A.;Ring,T.A.Chem.Eng.Sci.1991,46,2389. doi:10.1016/0009-2509(91)80035-w

    (37)Hara,N.;Yoshimune,M.;Negishi,H.;Haraya,K.;Hara,S.;Yamaguchi,T.J.Membr.Sci.2014,450,215.doi:10.1016/j. memsci.2013.09.012

    (38)Zhou,W.;Wu,H.;Udovic,T.J.;Rush,J.J.;Yildirim,T.J.Phys. Chem.A 2008,112,12602.doi:10.1021/jp807033m

    In situ Synthesis of ZIF-8 Membranes with Gas Separation Performance in a Deep Eutectic Solvent

    LI Xiao-Lei1,2TAO Shuo1,2LI Ke-Da1WANG Ya-Song1,2WANG Ping1,2TIAN Zhi-Jian1,3,*
    (1National Laboratory of Clean Energy,Dalian Institute of Chemical Physics,Chinese Academy of Sciences,Dalian 116023,Liaoning Province,P.R.China;2University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,P.R.China;3State Key Laboratory of Catalysis,Dalian Institute of Chemical Physics,Chinese Academy of Sciences,Dalian 116023,Liaoning Province,P.R.China)

    ZIF-8 membranes were prepared on α-alumina substrates in a urea/choline chloride(ChCl)based deep eutectic solvent using an in situ method.The synthesized ZIF-8 membranes were characterized using X-ray diffraction(XRD)and scanning electron microscopy(SEM).The effects of the concentration of the reaction solution and the cooling rate on ZIF-8 membrane synthesis were investigated.The results indicate that increasing the concentration of the reaction solution and reducing the cooling rate are beneficial for synthesizing continuous ZIF-8 membranes.Acontinuous and compact ZIF-8 membrane with a thickness of about 8 μm was obtained on the substrate by optimizing the synthetic conditions.The single gas permeation and binary mixture gas separation performances of the ZIF-8 membrane prepared under the optimized synthetic conditions were determined using the Wicke-Kallenbach technique.For equimolar gas mixtures at room temperature(293 K),the separation factors for H2/CO2,H2/O2,H2/N2,and H2/CH4were 7.4,5.2,9.1,and 13.8,respectively.All the separation factors exceed the corresponding Knudsen diffusion coefficients,indicating that the ZIF-8 membrane displays molecular sieving performance.

    Metal-organic framework;Deep eutectic solvent;ZIF-8 membrane;Gas separation;Molecular sieving

    January 12,2016;Revised:March 28,2016;Published on Web:March 28,2016.

    O647

    [Article]10.3866/PKU.WHXB2016032803www.whxb.pku.edu.cn

    *Corresponding author.Email:tianz@dicp.ac.cn;Tel:+86-411-84379151.

    The project was supported by the National Natural Science Foundation of China(21373214)and Strategic Priority Research Program of the Chinese Academy of Sciences(XDA07020300).

    國家自然科學(xué)基金(21373214)和中國科學(xué)院戰(zhàn)略性先導(dǎo)科技專項(xiàng)(XDA07020300)資助

    ?Editorial office ofActa Physico-Chimica Sinica

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