王 剛
(海軍駐西安二十所軍事代表室,陜西 西安 710065)
隨著軍用光電技術(shù)的發(fā)展和作戰(zhàn)需求,寬光譜、多傳感器的光電裝備已經(jīng)成為軍事裝備的新寵,而光電裝備中各傳感器之間光軸一致性要求是光電裝備發(fā)揮效能的保證,因此需要一種能檢測(cè)光電裝備各傳感器光軸一致性的光電測(cè)試儀器。目前光電測(cè)試儀器中的光學(xué)結(jié)構(gòu)一般有折射式、反射式和折反射式等3種,其中折射式光學(xué)結(jié)構(gòu)具有設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單,加工裝配容易、像質(zhì)優(yōu)良等諸多優(yōu)點(diǎn),因而在一般的光電測(cè)試儀器中使用較為廣泛,但是對(duì)于光譜范圍寬(可見、激光1.064 μm、紅外),焦距長(zhǎng)、相對(duì)孔徑較大的光學(xué)系統(tǒng),由于存在透寬波譜光學(xué)材料少,色差校正困難的缺點(diǎn),限制了其使用[1]。反射式光學(xué)結(jié)構(gòu)不存在色差,能在寬光譜段工作,光路可以最大限度地折疊,容易實(shí)現(xiàn)輕量化設(shè)計(jì),此外,由于非球面加工和測(cè)量技術(shù)的迅速發(fā)展,使得非球面的加工精度得到很好的保證,因此反射式光學(xué)系統(tǒng)尤其是兩鏡系統(tǒng)的應(yīng)用將越來越廣泛。本文在兩鏡系統(tǒng)的基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)了兩鏡五反光學(xué)系統(tǒng),在不增加反射鏡的前提下實(shí)現(xiàn)5次反射,滿足多光譜、長(zhǎng)焦距、縱向尺寸短的光學(xué)系統(tǒng)要求。針對(duì)兩鏡光學(xué)系統(tǒng)軸外像差難于校正的問題,采用高次非球面設(shè)計(jì)的方法解決成像質(zhì)量的要求。
設(shè)計(jì)的光電測(cè)試儀器光學(xué)系統(tǒng)滿足:工作波段0.4 μm~12 μm;視場(chǎng)1 mrad;F#=1.33;長(zhǎng)焦距1.6 m;總長(zhǎng)≤85 mm。
光學(xué)系統(tǒng)工作在寬光譜段,并且體積小,如果選用透射式光學(xué)系統(tǒng),需使用寬光譜光學(xué)材料,尺寸很難達(dá)到技術(shù)指標(biāo)要求,因此使用反射式光學(xué)結(jié)構(gòu)。反射式光學(xué)結(jié)構(gòu)具有縱向外形尺寸小、相對(duì)孔徑大、分辨率高、透過率高、光能損失少,不產(chǎn)生色差的特點(diǎn),并且還具有壓縮光學(xué)長(zhǎng)度的特點(diǎn),能夠滿足使用要求。
2.2.1初始結(jié)構(gòu)選取
反射式光學(xué)結(jié)構(gòu)中,單反射式結(jié)構(gòu)校正像差困難,視場(chǎng)小,僅用在一些特殊場(chǎng)合。雙反射式光學(xué)結(jié)構(gòu)包括牛頓系統(tǒng)、格里高里系統(tǒng)、卡賽格林系統(tǒng)、RC系統(tǒng)以及等暈系統(tǒng)等類型,其中兩鏡系統(tǒng)的主鏡為拋物面,次鏡為雙曲面,具有壓縮比大,像質(zhì)優(yōu)良的特點(diǎn),可以選為光學(xué)系統(tǒng)的初始結(jié)構(gòu)[2]。在此基礎(chǔ)上,為進(jìn)一步壓縮系統(tǒng)軸向總長(zhǎng),減小體積,本文提出了兩鏡五反光學(xué)系統(tǒng)。
兩鏡五反光學(xué)系統(tǒng)工作原理:光學(xué)系統(tǒng)采用在兩鏡系統(tǒng)的2個(gè)反射面上共反射5次的結(jié)構(gòu)形式,并結(jié)合一種新型材料——光譜轉(zhuǎn)換靶,共同組成光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu),如圖1所示。
圖1 兩鏡五反光學(xué)系統(tǒng)Fig.1 Two-mirror five-reflection optical system
兩鏡光學(xué)系統(tǒng)主鏡鏡面焦點(diǎn)與次鏡鏡面焦點(diǎn)重合,組成一個(gè)望遠(yuǎn)系統(tǒng),當(dāng)激光測(cè)距機(jī)傾斜一定角度入射時(shí),其激光光束將在主次鏡上反射5次,前2次反射組成一級(jí)望遠(yuǎn)系統(tǒng),后2次反射組成二級(jí)望遠(yuǎn)系統(tǒng),經(jīng)主鏡的第5次反射對(duì)激光光束進(jìn)行聚焦。激光光譜轉(zhuǎn)換靶位于激光光束聚焦的焦面位置,激光光譜轉(zhuǎn)換靶在受激光輻射激勵(lì)后能夠同時(shí)輻射熒光并且發(fā)熱,產(chǎn)生可見光到長(zhǎng)波紅外的光譜,靶面受激輻射產(chǎn)生的可見光到長(zhǎng)波紅外的光譜再逆向經(jīng)兩鏡五反光學(xué)系統(tǒng)準(zhǔn)直為多種光譜的平行光輸出,模擬無窮遠(yuǎn)點(diǎn)目標(biāo),供光電裝備光軸調(diào)校使用。
2.2.2 結(jié)構(gòu)參數(shù)計(jì)算
(1)
系統(tǒng)的焦距為
(2)
式中N代表在次鏡上反射的次數(shù),本系統(tǒng)中N=2。
系統(tǒng)焦距為1.6 m,由(1)式和(2)式可得到主次鏡半徑的關(guān)系,因此主鏡半徑確定后便可得到次鏡的半徑。由于主次鏡為共焦系統(tǒng),所以二者間距為其焦距之差。至此,可得到兩鏡系統(tǒng)的初始結(jié)構(gòu)參數(shù),如表1所示。
表1 初始結(jié)構(gòu)參數(shù)Table 1 Parameters of initial structure
2.3.1 優(yōu)化設(shè)計(jì)
兩鏡光學(xué)系統(tǒng)的單色像差一共有5種:球差、彗差、像散、像面彎曲及畸變。由于光學(xué)方案使用了軸外光線成像,其像差較大,因此可以在兩鏡面上采用高次非球面,能有效地消除高級(jí)球差以及彗差和像散等軸外像差[3]。將計(jì)算的初始結(jié)構(gòu)帶入光學(xué)設(shè)計(jì)軟件CODEV中進(jìn)行優(yōu)化。設(shè)置外部參數(shù),選取k值、四次、六次項(xiàng)作為優(yōu)化變量,完成光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)。
2.3.2 設(shè)計(jì)結(jié)果
系統(tǒng)優(yōu)化后的參數(shù)如表2所示。光線傾斜2°入射,主鏡和次鏡均為高次非球面。
表2 光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)參數(shù)Table 2 Parameters of optical system
優(yōu)化后的兩鏡五反光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)如圖2所示,像質(zhì)如圖3所示。
圖2 優(yōu)化后的兩鏡光學(xué)系統(tǒng)Fig.2 Two-mirror system after optimization
圖3 系統(tǒng)點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)及能量分布圖Fig.3 Point spread function and encircled energy of optical system
本設(shè)計(jì)由于選用了反射式光學(xué)結(jié)構(gòu),不存在色差的影響,很好地發(fā)揮了寬光譜,長(zhǎng)焦距的優(yōu)點(diǎn)。從圖3可以看出,本系統(tǒng)能量匯聚度較好,可以滿足使用要求。采用的透鏡非球面度較小,工藝性好,現(xiàn)有的加工技術(shù)可以滿足加工非球面的要求。在設(shè)計(jì)時(shí),反射式光學(xué)系統(tǒng)中經(jīng)常出現(xiàn)多個(gè)鬼像,因此需要在光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中增加多次消雜光的光欄來消除鬼像的影響。
本文在某光電測(cè)試儀器研制過程中設(shè)計(jì)了一種兩鏡五反光學(xué)系統(tǒng),滿足了多光譜、長(zhǎng)焦距光學(xué)系統(tǒng)要求。針對(duì)兩鏡光學(xué)系統(tǒng)軸外像差難于校正的問題,采用高次非球面設(shè)計(jì)的方法,解決了成像質(zhì)量的要求。使用一種新型校靶材料,通過光學(xué)系統(tǒng)在校靶材料上聚焦,轉(zhuǎn)換為可見光到長(zhǎng)波紅外的光譜,實(shí)現(xiàn)了模擬無窮遠(yuǎn)目標(biāo)的功能。該光學(xué)系統(tǒng)通過配置不同的導(dǎo)光棱鏡輔助裝置,可組成多種便攜式光軸測(cè)試儀,實(shí)現(xiàn)對(duì)光電產(chǎn)品不同基線傳感器光軸平行性的檢測(cè),滿足長(zhǎng)焦距、短縱向尺寸、低成本等需求。
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