兩種或多種導(dǎo)電體在它們的接點(diǎn)處都存在接觸電阻,且接觸電阻的阻值不是一個(gè)固定值,它取決于多種因素——機(jī)械接觸壓力、接觸面的各種物理化學(xué)性質(zhì)、接觸面光潔度、接觸面積等.通常情況下,這種阻值的增加是非線性的, 因此接觸電阻分析起來比較零亂,解釋也較為困難.
如圖1,S是電路中的一個(gè)開關(guān),當(dāng)其閉合后,觸點(diǎn)之間的接觸電阻為RC,則從圖可得:
VL= ·E= ·E
因?yàn)榻佑|電阻Rc很小, <1,用冪級(jí)數(shù)形式展開,負(fù)載兩端電壓為:
VL=E[1- +( )2-( )3+…+(-1)n( )n]
通常情況下,RC< 可以看出,由于存在接觸電阻,負(fù)載兩端的電壓將會(huì)發(fā)生變化,這對(duì)負(fù)載的工作狀態(tài)勢(shì)必產(chǎn)生影響. 1. 接觸電阻的簡(jiǎn)化模型 電器觸點(diǎn)的接觸在微觀上是非常復(fù)雜的.觸點(diǎn)A和觸點(diǎn)B相接觸,根據(jù)接觸界面的微觀構(gòu)造,其可能的接觸狀態(tài)有如下兩種: 以圖2(a)接觸狀態(tài)為例,接觸界面為理想球面相接觸,接觸處為一個(gè)點(diǎn)圓,則電流先在接觸處彎曲、收縮,最后集中于點(diǎn)圓內(nèi),如圖3所示. 顯然,與理想兩平面接觸相比較,球面接觸時(shí)的電流線收縮,路徑加長(zhǎng),電流通過的截面大大縮小,產(chǎn)生了新的附加接觸電阻——收縮電阻RS. 根據(jù)霍姆(Holm)的球面接觸理論,此時(shí)產(chǎn)生的附加接觸電阻為:RS= . 式中,a為點(diǎn)圓的半徑;?籽1, ?籽2為觸點(diǎn)A、B的電阻率;若觸點(diǎn)A、B的材料相同,則?籽1= ?籽2,接觸電阻為:RS= . 其中接觸點(diǎn)圓的半徑由兩觸點(diǎn)表面接觸時(shí)所產(chǎn)生的變形情況來確定,它包含三種狀態(tài):①彈性變形;②塑性變形;③彈塑性變形. 當(dāng)接觸面呈彈性變形時(shí),由Hertz彈性變形公式得: a= -1 式中,F(xiàn)為正向壓力;μ1,μ2為兩觸點(diǎn)導(dǎo)體A、B的泊松比;E1,E2為兩觸點(diǎn)導(dǎo)體A、B的楊氏彈性模量;?酌1,?酌2為兩接觸球面的曲率半徑.假設(shè)兩觸點(diǎn)導(dǎo)體A、B的材料相同,則E1=E2=E, μ1=μ2=μ;假設(shè)兩接觸球面的曲率半徑也相等,則?酌1=?酌2=?酌;代入上式可得:a=0.91 ,其單點(diǎn)接觸電阻為:RS=0.54?籽 . 2. 接觸電阻的一般模型 前面在分析接觸電阻時(shí)均是對(duì)各接觸點(diǎn)單獨(dú)考慮,而未將接觸點(diǎn)相互之間的影響考慮進(jìn)去.而實(shí)際上,在接觸面上的接觸點(diǎn)是非常密集的,通過接觸點(diǎn)的電流對(duì)周圍其他的接觸點(diǎn)是有影響的,因此從真實(shí)情況出發(fā)必須考慮接觸點(diǎn)相互之間的彼此影響所增加的電阻值. 由霍姆(Holm)接觸理論可知,接觸面的總電阻RT等于所有實(shí)際接觸點(diǎn)電阻的并聯(lián)值(自身電阻RS)和相互之間影響的電阻值(相互電阻Ri)的串聯(lián). RT=RS+Ri= + = + 其中,?琢為相互電阻Ri的霍姆(Holm)半徑;格林伍德(Greenwood)從電荷相互影響的角度推算出了相互電阻Ri的計(jì)算公式:Ri≈ ,其中,Sij為i點(diǎn)圓中心到j(luò)點(diǎn)圓中心的距離;鐵木申科(Timoshenko)對(duì)某一密集點(diǎn)群作了繁冗估算得Ri= ,而 =0.5404≈ ,結(jié)果與霍姆公式基本相同,因此,霍姆半徑?琢也可以用下式來表示?琢=( - )-1. 當(dāng)點(diǎn)數(shù)n極少時(shí),電流通過各個(gè)接觸點(diǎn)圓,各點(diǎn)之間沒有相互影響,此時(shí)的α很大,Ri很小,RT=RS+Ri≈RS; 隨著接觸點(diǎn)數(shù)n的逐漸增加,通過各個(gè)接觸點(diǎn)圓的電流對(duì)各接觸點(diǎn)有相互影響,則Ri和RS均起作用,RT=Ri+RS; 當(dāng)點(diǎn)數(shù)n很大時(shí),RS與Ri相比可以忽略,則RT=Ri+RS. 3. 含膜層的接觸電阻 實(shí)際上,在前面的分析過程中,我們均有一個(gè)前提,即電器觸點(diǎn)的接觸環(huán)境應(yīng)處于真空之中,金屬導(dǎo)體的接觸面應(yīng)是純金屬接觸.當(dāng)電器觸點(diǎn)處于大氣環(huán)境中時(shí),觸點(diǎn)表面很快會(huì)產(chǎn)生一層金屬氧化膜.如果氧化膜層足夠厚時(shí),則會(huì)造成觸點(diǎn)之間的絕緣;如果氧化膜層較薄時(shí),若對(duì)觸點(diǎn)對(duì)施以一定的電壓,則觸點(diǎn)之間有電流流過,氧化膜層呈現(xiàn)一定的電阻——膜層電阻Rb.若外界的壓力一定,且無其他外界因素影響,Rb的阻值基本上恒定. 根據(jù)霍姆(Holm)理論,流過這種非金屬膜層的電流是通過隧道效應(yīng)完成的.從半導(dǎo)體理論可知,當(dāng)膜層的厚度在5 ~100 范圍內(nèi)時(shí),膜層電場(chǎng)強(qiáng)度低于108~109V/m,隧道電流強(qiáng)度為J=A’Ee-B’d=A’ ·e-B’d,式中,E為電場(chǎng)強(qiáng)度,d為膜層厚度,V為接觸對(duì)電壓,A’,B’為常數(shù),則可得 = ·e-B’d=?籽l .式中,?籽l為單位面積隧道電阻率,則膜層電阻為Rb= = ,式中S為接觸面積. 當(dāng)膜層厚度小于20 時(shí),膜層電阻隨膜層厚度增加,但增加較小,在10 mΩ的范圍內(nèi);當(dāng)膜層厚度大于20 時(shí),膜層電阻增加很快,直至絕緣.由于膜層介于接觸界面之間,因此總接觸電阻RC應(yīng)等于膜層電阻Rb和收縮電阻RS及相互電阻Ri串聯(lián),即 RC=Rb+RS+Ri= + · + 責(zé)任編輯 羅 峰