拋光對不同處理方法粘結托槽的瓷表面粗糙度和光澤度的影響

[摘要]目的：探討用不同處理方法在瓷面上粘結的托槽去除后，拋光對瓷表面粗糙度和光澤度的影響。方法：甲乙兩組瓷面上的托槽經剪切去除后，用粗糙度儀和光澤度儀測定瓷面拋光前后及對照組的表面粗糙度值和光澤度值。結果：粗糙度值：拋光前相同方法中甲組比乙組均高(P＜0.05)，甲組各方法間無差異(P＞0.05)，乙組方法A、C間無差異(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)：拋光后相同方法甲組與乙組無差異(P＞0.05)，甲、乙組內各方法之間也無差異(P＞0.05)，甲、乙組各方法都達到了對照組水平(P＞0.05)。光澤度值：拋光前相同方法甲組比乙組均低(P＜0.01)，甲組各方法間無差異(P＞0.05)，乙組方法A、C無差異(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)；拋光后相同方法甲組與乙組無差異(P＞0.05)，甲、乙組各方法之間均無差異(P＞0.05)，甲、乙組中無論哪一種方法都低于對照組(P＜0.05)。結論：機械打磨最能影響瓷表面粗糙度和光澤度，2.5％氫氟酸對其有影響，陶瓷偶聯(lián)劑對其影響較小。光澤度雖隨著粗糙度的降低而升高，但粗糙度值與光澤度值之間并無絕對的對應關系。拋光能使托槽去除后瓷表面粗糙度達到對照組水平，但光澤度稍差。

[關鍵詞]瓷修復體；托槽；粗糙度；光澤度；拋光

正畸結束去除瓷修復體上的托槽后烤瓷冠(橋)能否繼續(xù)使用的一個重要考慮因素就是瓷表面的粗糙度和光澤度。低粗糙光滑的瓷表面能減少口腔細菌粘附，提高美容效果，使患者舒適。適宜的光澤度能使瓷牙逼真，與正常活髓牙協(xié)調一致，不易分辯。本研究采用托槽剪切去除后瓷表面進行拋光，用儀器測量拋光前后的瓷表面粗糙度值和光澤度值，觀察其內在變化，并與未作任何處理的對照組對比，為臨床工作提供理論依據(jù)。

1 材料和方法

1．1 測試標本：本實驗采用美國VB公司的烤瓷合金及Shofu A3瓷粉，將烤瓷片甲組機械打磨，乙組未打磨，兩組均分別用3種方法粘結托槽。方法A：氫氟酸＋陶瓷偶聯(lián)劑＋釉質粘結劑；方法B：陶瓷偶聯(lián)劑＋釉質粘結劑；方法c：氫氟酸＋釉質粘結劑。具體操作步驟參見相關文獻。粘結托槽并經剪切后，去除瓷面上較明顯的粘結劑，從每種方法8個試件中選用4個瓷面完整的作為被測對象，使用Shofu公司拋光綠和氧化錫糊劑和Edenta公司拋光套裝，低速手機依次進行瓷表面的拋光：①深黑色金鋼砂橡皮磨頭4000r／min 3分鐘；②深黃色橡皮磨頭＋拋光綠4000r／min 3分鐘：③小氈輪＋氧化錫糊劑2000r／min 3分鐘。另制作的4個金屬烤瓷片既不粘結托槽也不拋光處理作為對照組。

1．2 表面粗糙度和光澤度的測定：對測試組的拋光前后及對照組的瓷面中心區(qū)分別測定表面粗糙度和光澤度，每個試件變換方向3次，取均值統(tǒng)計分析，SPSS11.0軟件分析結果。用TR240觸針表面粗糙度儀(北京時代集團公司)，取樣長度0.8ma，評定長度4.0mm，運行速度0.1mm／s，測中心線平均粗糙度值Ra。表面光澤度以吸收入射光的百分比表示，采用VGA600型光澤度儀(日本電色公司)，標準黑板校正89％，入射、反射角度均為60°，測表面光澤度值。

2 結果(見表1～2)

統(tǒng)計結果：拋光前相同方法中甲組比乙組高(P＜0.05)，甲組各方法相比較無差異(P＞0.05)．乙組各方法相比較，方法A、C無差異(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)。拋光后相同方法甲組與乙組無差異(P＞0.05)，甲乙組內各方法之間均無差異

統(tǒng)計結果：拋光前相同方法甲組比乙組均低(P＜0.01)，甲組各方法相比較無差異(P＞0.05)，乙組各方法相比較，方法A、c無差異(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)。拋光后相同方法甲組與乙組無差異(P＞0.05)，甲乙組各方法之間均無差異(P＞0.05)，與對照組比較甲乙組中無論哪一種方法都無法達到對照組的光澤度(P＜0.05)。

3 討論

表面粗糙度是物體表面的不規(guī)則狀況，是衡量物體表面平滑程度的量化指標。根據(jù)GBl031－83的要求，表面粗糙度參數(shù)主要是從Ra(中心線平均粗糙度)、Ry(最大高度粗糙度)、Rz(十點高度平均粗糙度)這三個參數(shù)中選取。由于Ra易使用測量精度高且方法簡單的觸針式輪廓儀測量，所以常用于表面粗糙度值。光澤度是根據(jù)物體表面受到光線照射時會產生反射光的原理進行，以吸收入射光的百分比來表示，對入射光反射能力越大，光澤度則越高。

拋光是利用拋光材料反復摩擦修復體表面，使表面凸凹高低相對一致，表面光滑。陶瓷的成分不同，其表面拋光后的結果是不相同的。以白榴石、二硅酸鋰等晶體為增強相的硅酸鹽類陶瓷經拋光表面粗糙度和光澤度變化較大，而以氧化鋁、氧化鋯為主要成分的非硅酸鹽類陶瓷，強度較高，經拋光表面粗糙度和光澤度變化較小。本實驗所用的金屬烤瓷片屬于前一種，一般拋光常用的磨具為硬度不同的金剛砂橡皮輪(或頭)、小氈輪等，磨料為拋光綠、氧化錫等，單純使用一種一般不能達到較好效果。

不同的處理工藝構建成特定的表面微觀結構，拋光前相同方法中甲組比乙組的粗糙度高、光澤度低，說明機械打磨對其影響較大，其原因可能是機械打磨后粘結性能強，殘留的粘結劑較多。在表面未作機械打磨的乙組的粗糙度、光澤度在拋光前方法A與方法C無差異(P＞0.05)，而方法B與方法A、c間有差異(P＜0.05)，說明氫氟酸對其有影響，陶瓷偶聯(lián)劑對其影響較小。有學者關于酸蝕時間與陶瓷表面形態(tài)的研究實驗中，發(fā)現(xiàn)陶瓷表面粗糙度與酸蝕時間成正比例的線性相關，本實驗的酸蝕時間僅60s，其數(shù)值變化不是非常顯著也印證了這一點。

拋光前后比較無論粗糙度和光澤度甲組比乙組變化顯著，說明拋光對粗糙度高，光澤度低的物體是一種行之有效的方法，而對本來粗糙度低，光澤度高的物體則效果較差，甚至會降低其光澤度，從乙組的數(shù)值就可看出，這是因為拋光使瓷表層下微小氣泡暴露，磨痕出現(xiàn)。

拋光后每組的粗糙度能達到或接近對照組的水平，而光澤度仍有一點的差距，說明光澤度雖然隨著粗糙度的降低而升高，但粗糙度值與光澤度值之間并無絕對的對應關系。當表面粗糙度值比較高時，光澤度隨之變化且變化較大；當表面粗糙度值較低時，其粗糙度值的降低對增加光澤度的影響就非常小了。經過拋光解決了粗糙度問題，但光澤度并不能達到原有的水平。影響光澤度的因素較多，除拋光外還與陶瓷的成分、色線、致密性、硬度、排列方向等有關。本實驗是在瓷面干燥的情況下所得的數(shù)值，但在口內有唾液的環(huán)境下拋光后的光澤度肉眼觀是無法發(fā)現(xiàn)較大差別的。

拋光能否達到上釉同樣的光澤度或者說拋光與瓷爐上釉何種方法能達到更光滑的表面(即低粗糙度)目前尚存爭議。Fuzzi等研究發(fā)現(xiàn)陶瓷拋光能達到與上釉相同的光滑效果，而Patterson[6]和Brewer等發(fā)現(xiàn)單獨使用金剛砂拋光不能達到，Raimondo等認為，單純使用拋光套裝拋光瓷表面肉眼觀不能達到，而結合使用拋光膏則能達到甚至優(yōu)于上釉，Scurria等的實驗也與此相同。在本實驗中隨著拋光粒度的逐級精細，瓷表面粗糙度值逐步下降，光澤度值逐步升高，提示在臨床瓷修復體拋光過程中，要按照拋光粒度由粗到細逐級打磨：打磨粒度越細，表面粗糙度值越低，越能獲得更加光滑的表面。但是，當粒度細到一定程度后，表面粗糙度隨拋光輪粒度變細所降低的程度已經不太明顯。

4 結論

機械打磨是最能影響瓷表面粗糙度和光澤度的，氫氟酸對其有影響，陶瓷偶聯(lián)劑對其影響較小。光澤度雖然隨著粗糙度的降低而升高，但粗糙度值與光澤度值之間并無絕對的對應關系。拋光能使托槽去除后，瓷表面粗糙度達到對照組水平，光澤度稍差。提示在對口內有瓷修復體作正畸治療時，應根據(jù)烤瓷所在的前后牙位、正畸力大小及患者對美學要求的高低選用不同表面處理及粘結方法。