楊國(guó)洪 曾召 孔令歆 徐劍 徐莉華 蘭靜
(彩虹顯示器件股份有限公司 咸陽(yáng) 712000)
隨著電子顯示行業(yè)的高速發(fā)展,OLED、microLED、MiniLED等顯示技術(shù)層出不窮,但受技術(shù)難度和成熟度的影響,目前主流顯示技術(shù)依然是TFT-LCD和LTPS,但LTPS目前還不能應(yīng)用于大尺寸顯示面板,TFT-LCD在行業(yè)發(fā)展與技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)中向著超薄、高清、高亮、低耗、低成本的方向邁進(jìn)。
TFT-LCD顯示用基板玻璃占整個(gè)面板成本的15%~20%。為了進(jìn)一步降低面板成本,就需要繼續(xù)降低基板玻璃的成本,常規(guī)手段有玻璃原材料成本降低、制造裝備壽命延長(zhǎng)、良率提高、產(chǎn)能提高等。
B2O3是玻璃網(wǎng)絡(luò)形成體,能提升玻璃的熱穩(wěn)定性,并降低高溫黏度,它還具有助熔作用,可加速玻璃的澄清[1]。本文在TFT-LCD基板玻璃組分配比基礎(chǔ)上,僅改變玻璃組分中B2O3含量,通過(guò)紅外光譜、X射線(xiàn)光電子能譜分析B2O3對(duì)顯示用基板玻璃結(jié)構(gòu)的影響,同時(shí)研究B2O3對(duì)玻璃生產(chǎn)工藝特性的影響,為基板玻璃制造裝備壽命的延長(zhǎng)提供技術(shù)支撐。
依據(jù)基板玻璃化學(xué)組成,設(shè)計(jì)6組玻璃化學(xué)料方配比,分別標(biāo)號(hào)為A0、A1、A2、A3、A4、A5。6組配方以A0作為基礎(chǔ)配方,僅改變B2O3的含量,從A0到A5依次增加,配比見(jiàn)表1。
表1 不同B 2O 3組成的樣品化學(xué)組成(摩爾分?jǐn)?shù)) %
對(duì)A1~A5進(jìn)行歸一化處理后準(zhǔn)確稱(chēng)量玻璃配合料,充分混合后裝入鉑金坩堝,將坩堝置于高溫爐中按照?qǐng)D1的熔制工藝進(jìn)行玻璃熔制。將熔化好的玻璃液快速倒入預(yù)熱的鋼制模具中,待玻璃樣品定型后,立即移入退火爐中退火。
圖1 玻璃樣品熔制及退火工藝
實(shí)驗(yàn)設(shè)備及作用:采用ES-I000E電子天平進(jìn)行玻璃配合料稱(chēng)量,BLMT-1800℃升降高溫爐用于玻璃熔制,BLMT-1400℃馬弗爐用于玻璃試樣退火;利用Orton RSV 1600型高溫黏度計(jì)進(jìn)行黏溫測(cè)試,Orton退火應(yīng)變測(cè)試儀表征試樣退火點(diǎn)與應(yīng)變點(diǎn),Orton軟化點(diǎn)測(cè)試儀表征試樣軟化點(diǎn),Orton GTF MD-16梯溫爐進(jìn)行玻璃析晶測(cè)試,蔡司AxioScope.A1進(jìn)行玻璃析晶顯微觀(guān)察;德國(guó)布魯克(Bruker)VERTEX70型傅里葉變換紅外光譜儀進(jìn)行玻璃紅外光譜表征,AXIS SUPRA型X射線(xiàn)光電子能譜儀進(jìn)行試樣結(jié)構(gòu)分析。
紅外光譜作為分子結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)研究手段可用來(lái)定性分析物質(zhì)的化學(xué)組成。為了準(zhǔn)確分析B2O3對(duì)基板玻璃分子結(jié)構(gòu)的影響,匯總硼鋁硅酸鹽玻璃常見(jiàn)的各個(gè)結(jié)構(gòu)基團(tuán)的紅外吸收特征振動(dòng),見(jiàn)表2[2-4]。
表2 硼鋁硅酸鹽玻璃常見(jiàn)的紅外吸收光譜特征振動(dòng)
圖2為不同含量B2O3玻璃試樣的紅外分析譜圖。
圖2 不同含量B 2O 3玻璃試樣紅外分析譜圖
圖2中反映出7處振動(dòng)吸收峰,其中,3500 cm-1附近的吸收峰是水的吸收特征峰,為測(cè)試過(guò)程中樣品吸潮所致;玻璃主體依然是SiO2。對(duì)照表2可以判斷460 cm-1的 吸收峰就是Si-O-Si彎曲振動(dòng);1416 cm-1位置的吸收峰屬于[BO3]中的B-O鍵伸縮振動(dòng);1085 cm-1為Si-O-Si伸縮振動(dòng)和[BO4]伸縮振動(dòng)峰的合峰,這兩處的吸收峰位置較標(biāo)準(zhǔn)位置有所偏移,主要是因?yàn)樵跓o(wú)堿硼鋁硅酸鹽玻璃中網(wǎng)絡(luò)組成的情況比較復(fù)雜,存在多個(gè)不同類(lèi)型的橋氧,且B四面體之間是相互排斥的,一般由[BO4]鏈接[BO3]三角體[4],隨著B(niǎo)2O3的含量增多,[BO4]的伸縮振動(dòng)峰逐漸減弱,但當(dāng)硼含量增加到10.41%時(shí),[BO4]的伸縮振動(dòng)峰又增至最強(qiáng),之后減弱。
950 cm-1處也有微弱的[BO4]伸縮振動(dòng)峰,790 cm-1位置屬于鋁氧四面體中的Al-O鍵伸縮振動(dòng),隨著B(niǎo)2O3的含量增多,其紅外吸收峰變化不明顯;687 cm-1位置的吸收峰屬于硼氧三角體中的B-O-B鍵彎曲振動(dòng),在鋁硼硅玻璃系統(tǒng)中,存在其他類(lèi)型的橋氧振動(dòng),所以導(dǎo)致峰形發(fā)生寬化,隨著硼含量的增加,687 cm-1峰強(qiáng)逐漸增強(qiáng),說(shuō)明隨著B(niǎo)2O3的 含量增多,[BO3]含量逐漸增加。
圖3是不同含量B2O3樣品O1s的XPS譜圖,6個(gè)樣品的O1s峰形基本一致,A1到A5的O1s峰位電子結(jié)合能從531.78 eV降低至531.58 eV。
圖3 不同含量B 2O 3樣品O1s譜圖
相關(guān)資料表示,無(wú)堿硼鋁硅酸鹽玻璃中的氧以橋氧(BO)和非橋氧(NBO)兩種狀態(tài)存在,因非橋氧的電子云密度較橋氧的高,非橋氧的電核勢(shì)能比橋氧的電核勢(shì)能低,所以非橋氧的O1s電子結(jié)合能比橋氧的要低。據(jù)此,可以判斷6個(gè)試樣隨著B(niǎo)2O3含量的增加,非橋氧數(shù)不斷增多,致使電子結(jié)合能向低的方向移動(dòng)。
圖4是不同含量B2O3樣品B1s的XPS譜圖,6個(gè)樣品的B1s峰形基本一致。
圖4 不同含量B 2 O 3樣品B1s譜圖
由圖4可看出A1到A5的B1s峰位逐漸左移,從192.53 eV降低至192.33 eV,由于四配位的硼電子結(jié)合能高于三配位的硼[5],說(shuō)明隨著B(niǎo)2O3含量升高,[BO3]逐漸增多。
圖5是隨著硼含量增加的Al2p的XPS譜圖,6個(gè)樣品的峰形一致。
圖5 不同含量B 2 O 3樣品Al2p譜圖
在硼鋁硅玻璃中,鋁氧四面體[A1O4]的Al2p結(jié)合能為73.4~74.5 eV,鋁氧八面體[A1O6]的Al2p結(jié)合能為74.1~75.0 eV,即[A1O4]較[A1O6]的電子結(jié)合能低。對(duì)比Al2p結(jié)合能發(fā)現(xiàn),6個(gè)樣品隨著B(niǎo)2O3含量增加,其Al2p電子結(jié)合能數(shù)值由74.08 eV向73.78 eV遞減,可以判斷體系中[A1O4]逐漸增多。
結(jié)合組成配比分析,當(dāng)SiO2/ B2O3>1,網(wǎng)絡(luò)形成體充足,未被結(jié)合的網(wǎng)絡(luò)外體含量減少。隨著B(niǎo)2O3含量逐漸增多,體系中沒(méi)有足夠的游離氧供[BO3]吸收變成[BO4]。所以樣品中[BO3]增加。B1s的電子結(jié)合能向低方向移動(dòng)。
當(dāng)(RO-Al2O3) /B2O3>1時(shí),表示體系中有充足的游離氧,全部的B和Al以[BO4]和[AlO4]形式存在,與[SiO4]強(qiáng)化結(jié)構(gòu)。對(duì)于本體系,0<(RO-Al2O3) /B2O3<1,說(shuō) 明 游 離 氧 相 對(duì) 較少,而Al相對(duì)于B具有較大的核電荷數(shù),會(huì)優(yōu)先與游離氧結(jié)合,以[AlO4]形式進(jìn)入網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)中,部分B與氧結(jié)合,以[BO4]形式進(jìn)入網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)中,而剩余的則以[BO3]形式成為網(wǎng)絡(luò)外體。所以,隨著B(niǎo)2O3含量增加,非橋氧增多,系統(tǒng)中的Al已搶奪氧優(yōu)先于新增的B構(gòu)成[AlO4]參與網(wǎng)絡(luò),[AlO4]增多,而沒(méi)有足夠的游離氧供B形成[BO4],所以[BO3]增多[6]。
不同含量B2O3玻璃試樣的黏溫曲線(xiàn)如圖6所示,試樣的工藝溫度對(duì)比見(jiàn)表3。
圖6 不同含量B 2O 3玻璃試樣黏溫曲線(xiàn)
表3 不同含量B 2O 3玻璃工藝溫度 ℃
由黏溫曲線(xiàn)可以看出,在1150~1600 ℃高溫范圍內(nèi),A0~A5試樣的黏溫曲線(xiàn)基本平行,從A0到A5,隨著B(niǎo)2O3含量的增加,相同溫度下玻璃試樣的黏度依次減小。由表3可以看出,A0到A5在中溫段的工藝溫度也是逐漸下降。這說(shuō)明B2O3含量從8.41%升高至10.91%(摩爾分?jǐn)?shù))對(duì)中高溫區(qū)域的黏溫降低作用明顯,B2O3含量較少時(shí),玻璃中僅有的少量B3+在低溫熔制過(guò)程中形成[BO4],使玻璃結(jié)構(gòu)聚集緊密。隨著B(niǎo)2O3含量的增加,一部分以四配位參與網(wǎng)絡(luò)架構(gòu),其余的B3+將逐漸處于[BO3]狀態(tài),以層狀分布于結(jié)構(gòu)之外,影響結(jié)構(gòu)的對(duì)稱(chēng)性,而使黏度下降。
圖7為A0~A5玻璃樣品在1080~1200 ℃溫度范圍內(nèi)保溫24 h后析出的方石英形貌。表4是不同含量B2O3玻璃的析晶上限溫度及黏度,可以看到A4的析晶溫度最低,析晶黏度最大,更有利于基板玻璃的生產(chǎn)。
圖7 玻璃試樣內(nèi)部析晶顯微圖片(×200)
表4 不同含量B 2O 3玻璃析晶上限溫度及黏度
在顯示用基板玻璃中,B3+以四配位的[BO4]和三配位的[BO3]形式存在,兩種配位的相對(duì)含量取決于系統(tǒng)中的游離氧的含量。本研究中,當(dāng)B2O3含 量較低時(shí),B3+以四配位的[BO4]存在,隨著B(niǎo)2O3含 量升高,滿(mǎn)足[BO4]的形成之外的B3+逐漸以[BO3]的形式存在,[BO3]含量的相對(duì)增多,致使玻璃黏度逐漸下降,生產(chǎn)工藝溫度降低;但析晶溫度只在B2O3含量為10.41%時(shí)最低,析晶黏度最大,最有利于采用溢流下拉法成型。