燕維文 胡淑恒
(合肥工業(yè)大學(xué)資源與環(huán)境工程學(xué)院,安徽合肥 230009)
環(huán)境內(nèi)分泌干擾物(Environmental Endocrine Disruptors,EEDs)是指影響內(nèi)分泌系統(tǒng)的外源性物質(zhì),作為一種新型的污染物,其給人類健康和環(huán)境可持續(xù)發(fā)展帶來(lái)了嚴(yán)重的威脅[1]。磺胺甲唑(Sulfamethoxazole,SMX)就是一種典型的內(nèi)分泌干擾物。作為磺胺類抗生素的代表,SMX 因抗菌譜廣、抗菌性強(qiáng)而被廣泛用于動(dòng)物飼料和人類藥物生產(chǎn)[2]。目前,許多國(guó)家的廢水、中水、地表水甚至飲用水中均證明有SMX 的存在[3-7]。SMX 作為一種持久性有機(jī)污染物,常規(guī)的污水處理方法很難將其完全降解,導(dǎo)致其在水環(huán)境中進(jìn)一步富集。經(jīng)檢測(cè)發(fā)現(xiàn),通過(guò)吸附和生物積累,SMX 存在于水體沉積物和水生生物中[5-7],這也導(dǎo)致了抗生素耐藥細(xì)菌和抗生素耐藥基因的產(chǎn)生[7]。
處理SMX 廢水的傳統(tǒng)方法包括生物降解法和吸附去除法,但是SMX 具有較強(qiáng)毒性,對(duì)產(chǎn)酸菌和產(chǎn)甲烷菌均有抑制作用,污水處理廠對(duì)SMX 的去除率低于20%[8],膜生物反應(yīng)器對(duì)SMX 的降解效率雖比傳統(tǒng)活性污泥法高,但其降解效率仍然較低[9]。吸附法去除廢水中的SMX 雖然操作簡(jiǎn)單,但只是將其暫時(shí)去除,并不能完全降解,很可能造成二次污染,而且吸附劑的成本和實(shí)際應(yīng)用中復(fù)雜的水環(huán)境都限制了吸附法對(duì)SMX 的去除[10]。探尋降解SMX 廢水高效、綠色和環(huán)境友好型的方法依然是研究的熱點(diǎn)。
低溫等離子體(Non-Thermal Plasma,NTP)作為一種新型的高級(jí)氧化技術(shù),被認(rèn)為是降解廢水中持久性有機(jī)物很有效的辦法[11]。放電產(chǎn)生的NTP 在液體或者氣液界面發(fā)生各種物化反應(yīng),產(chǎn)生包括OH自由基、H2O2、O3等的活性氧成分(Reactive Oxygen Species,ROS)以及紫外光,這些成分能夠較好地去除廢水中的持久性污染物[12-13]。按照放電反應(yīng)器類型,NTP 常分為介質(zhì)阻擋放電(DBD)、射流放電、滑動(dòng)電弧放電、電暈放電和接觸輝光放電[14-18]。DBD 因反應(yīng)條件簡(jiǎn)單、放電穩(wěn)定性好、處理效率高而得到廣泛應(yīng)用,在去除生物難降解有機(jī)物方面具有很大的潛力[18]。
儀器:高效液相色譜儀(Agilent 1260,Agilent);分光光度計(jì)(PhotoLab 7100,WTW);示波器(DSO-X 2024A,Agilent);等離子體電源(CTP-2000K,南京蘇曼電子有限公司)。
實(shí)驗(yàn)時(shí)用超純水配制濃度20 mg/L 的SMX 溶液200 mL 置于圖1 所示的DBD 等離子體裝置中,主反應(yīng)器是DBD 等離子體發(fā)生的區(qū)域,放電時(shí)氣流通過(guò)放電間隙產(chǎn)生大量的活性物質(zhì),通過(guò)底部小孔以氣泡的形式擴(kuò)散到溶液各處,與溶液中的污染物SMX 反應(yīng)。為了將未溶解的O3進(jìn)一步重復(fù)應(yīng)用,本實(shí)驗(yàn)添加了一個(gè)副反應(yīng)器將未完全利用的O3等氣態(tài)活性物質(zhì)進(jìn)一步利用,一個(gè)蠕動(dòng)泵用于主副反應(yīng)器之間溶液的循環(huán),以達(dá)到活性物質(zhì)與污染物SMX的充分接觸。
圖1 DBD 等離子體裝置
使用示波器測(cè)量放電電流、電壓李薩如圖形,功率計(jì)算公式如下[19]:
式中,Y 為能量效率,mg/(kW·min);C0為初始濃度,mg/L;V 為體積,L;η 為降解效率;P 為放電功率,kW;t 為時(shí)間,min。
DBD 等離子體降解污染物的效率與放電電壓、電流和功率密切相關(guān)。圖2 是DBD 等離子體產(chǎn)生時(shí)測(cè)得的3 個(gè)周期內(nèi)的電流電壓波形圖,峰值電壓、電流分別達(dá)到了15 kV 和0.88 A。
圖2 DBD 等離子體產(chǎn)生時(shí)的電流電壓波形圖
由圖2 可見(jiàn),電壓波形圖的變化比較光滑,而電流波形圖卻出現(xiàn)了許多不規(guī)律的毛刺,這主要是因?yàn)槭┘佑诜烹婇g隙上的電壓是個(gè)恒定值,但間隙之間會(huì)因?yàn)闅饬鞯牧鲃?dòng)以及氣液面的不規(guī)律抖動(dòng),使得放電間隙的電容值不規(guī)律地變化,導(dǎo)致電壓擊穿放電間隙時(shí)產(chǎn)生的電流不規(guī)整。也是這個(gè)原因,轉(zhuǎn)化而來(lái)的李薩如圖形曲線不光滑,但是也能看出李薩如圖形近似一個(gè)平行四邊形(見(jiàn)圖3),由這個(gè)平行四邊形可求出等離子體產(chǎn)生時(shí)的放電功率為38.12 W。
圖3 DBD 等離子體產(chǎn)生時(shí)的李薩如圖
圖4 是DBD 等離子體降解廢水中SMX 的降解效率和能量效率隨時(shí)間的變化規(guī)律。DBD 等離子體處理20 min 后,91.12%的SMX 被降解,隨著處理時(shí)間的延長(zhǎng),到30 min 時(shí),SMX 的降解效率就達(dá)到了98.48%。從DBD 等離子體降解SMX 的能量效率的變化曲線可以看出,能量效率是隨著放電時(shí)間延長(zhǎng)而逐漸減小的,從1 min 的9.20 mg/(kW·min)逐漸減小到30 min 的3.44 mg/(kW·min)。DBD 等離子體降解SMX 的能量效率出現(xiàn)這種變化趨勢(shì)可能是因?yàn)殡S著SMX 的降解,能被DBD 等離子體捕獲的SMX 越來(lái)越少,換言之,SMX 對(duì)DBD 等離子體的競(jìng)爭(zhēng)越來(lái)越弱,所以最終使得能量效率隨著等離子體處理時(shí)間的增加而減小。
圖4 DBD 等離子體降解廢水中SMX 的降解效率和能量效率隨時(shí)間的變化規(guī)律
對(duì)DBD 等離子體降解廢水中SMX 的動(dòng)力學(xué)分析發(fā)現(xiàn),DBD 等離子體降解SMX 的過(guò)程符合準(zhǔn)一級(jí)動(dòng)力學(xué),如圖5 所示,動(dòng)力學(xué)相關(guān)系數(shù)為0.991 72,降解速率常數(shù)k=0.127 min-1,此模型能夠描述DBD 對(duì)SMX 的降解動(dòng)力學(xué)。準(zhǔn)一級(jí)動(dòng)力學(xué)模型為:
圖5 DBD 等離子體降解SMX 的準(zhǔn)一級(jí)動(dòng)力學(xué)
式中,C0為SMX 初始濃度,mg/L;Ct為t 時(shí)刻SMX的濃度,mg/L;t 為時(shí)間,min;k 為降解速率常數(shù),min-1。
等離子體中包含許多活性物質(zhì),這些活性物質(zhì)很可能是等離子體能夠降解污染物的原因,這些活性物質(zhì)產(chǎn)生的反應(yīng)式如下[20-24]:
本研究對(duì)水中的長(zhǎng)壽命活性物質(zhì)O3,H2O2和NO3-進(jìn)行了檢測(cè)。圖6 是DBD 等離子體對(duì)超純水放電時(shí),DBD 等離子體產(chǎn)生并溶于水中的O3和H2O2濃度隨處理時(shí)間的變化情況,很明顯兩者的濃度都是隨時(shí)間的增加而增大,30 min 時(shí)其濃度分別達(dá)到了0.58,4.81 mg/L。
圖6 DBD 等離子體產(chǎn)生并溶于水中的O3 和H2O2 濃度隨處理時(shí)間的變化情況
圖7 是DBD 等離子體在水中產(chǎn)生的NO3-的濃度和溶液pH 隨處理時(shí)間的變化情況。同樣NO3-的濃度隨著DBD 等離子體處理時(shí)間的增加逐漸增大,30 min 時(shí)NO3-的濃度達(dá)到了36.7 mg/L。在DBD 等離子體的處理過(guò)程中,在前5 min 之內(nèi)溶液pH 發(fā)生了驟降,從5.40 降到了3.26,此后隨著DBD 等離子體處理時(shí)間的增加,溶液pH 繼續(xù)減少并慢慢穩(wěn)定在1.83。溶液pH 的降低很有可能是NO3-的產(chǎn)生引起的。
圖7 DBD 等離子體產(chǎn)生并溶于水中的NO3-濃度和溶液pH 隨處理時(shí)間的變化情況
環(huán)境保護(hù)與循環(huán)經(jīng)濟(jì)2022年6期