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    Plasma 3000型和Plasma 2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定工業(yè)硅中雜質(zhì)元素含量

    2019-09-19 02:57:14
    分析化學(xué) 2019年8期
    關(guān)鍵詞:光譜儀等離子體雜質(zhì)

    國(guó)家產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T2881-2014《工業(yè)硅》中規(guī)定,檢測(cè)工業(yè)硅中雜質(zhì)元素采用電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定。本實(shí)驗(yàn)參照標(biāo)準(zhǔn)GB/T14849.4-2014《工業(yè)硅化學(xué)分析方法第四部分:雜質(zhì)元素含量測(cè)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》測(cè)定工業(yè)硅中鋁、鉻、鈣、硼、銅、鐵、鎂、鎳、錳、磷、鈉、鈦的元素含量。對(duì)工業(yè)硅樣品進(jìn)行對(duì)比測(cè)試,檢測(cè)結(jié)果與客戶化學(xué)法基本一致。

    儀器特點(diǎn)

    Plasma3000型和Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司)是使用方便、操作簡(jiǎn)單、測(cè)試快速的全譜ICP-OES分析儀,具有良好的分析精度和穩(wěn)定性。

    Plasma3000

    高效固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;

    大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;

    中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;

    多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀。

    多種進(jìn)樣系統(tǒng),可選擇性好;

    垂直炬管,雙向觀測(cè),檢出限更加理想;

    Plasma2000

    高效固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;

    大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;

    中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;

    多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀;

    多種進(jìn)樣系統(tǒng),可選擇性好;

    垂直炬管水平觀測(cè),耐鹽性更佳。

    使用Plasma3000和Plasma2000能夠很好的解決工業(yè)硅中雜質(zhì)元素分析問(wèn)題,完全滿足國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T2881-2014《工業(yè)硅》和GB/T14849.4-2014《工業(yè)硅化學(xué)分析方法第四部分:雜質(zhì)元素含量測(cè)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》要求。

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