陳春梅
(寧波工程學院,寧波 315211)
目前,吸波材料在各個領域中的應用越來越廣泛。尤其在國防領域,軍隊為了加強自身建設,通常將吸波材料涂層應用于戰(zhàn)斗武器表面,以達到“隱身”的目的。吸波材料在軍隊武器裝備力量與電子科技戰(zhàn)爭中占據(jù)重要地位。在國際上,美國對吸波材料作為“隱身材料”的應用已經(jīng)較為成熟,例如,美國將吸波性能良好的碳化硅材料作為涂層涂于軍事武器表面,減弱目標向外散發(fā)的雷達特征與紅外線等,使得敵軍無法檢測到目標,從而在戰(zhàn)爭中占據(jù)優(yōu)勢[1-2]。在海灣戰(zhàn)爭和科索沃戰(zhàn)爭,人們都可以看到有關“隱身材料”的應用經(jīng)驗。因此,吸波材料作為“隱身”技術的應用越來越重要,為增強我國軍事實力,建設國防事業(yè),必須對吸波材料進行深入研究與應用。
較為常見的吸波材料為碳化硅,可以用于一些電子設備、屏蔽設備等,尤其在信息化戰(zhàn)爭中,可以減弱目標的光電特征、紅外信號等[3]。碳化硅作為吸波材料,分為不同的類型,如鐵磁金屬微粉吸波材料、鐵氧體吸波材料、納米吸波材料、多晶鐵纖維吸波材料、陶瓷吸波材料、導電高聚物吸波材料。本文就通過試驗研究碳化硅涂層的吸波性能,以期為國防事業(yè)作出貢獻。
碳化硅的原料有石英砂、石油焦等,又叫金剛砂,化學結(jié)構(gòu)為六方形晶體,通常比重為3.2,硬度較大,平均為3000kg/mm2。碳化硅具有很多優(yōu)點,如導熱系數(shù)高、膨脹系數(shù)小、體積小和強度高等。碳化硅涂層被電磁波影響,從而產(chǎn)生感應電流,感應電流易受電磁場影響改變方向,同時由于材料的高電阻阻礙,電磁波的能量會變?yōu)闊崃可⑹?,即能量消耗,這樣雷達等電子設備的信號大大減弱,這種現(xiàn)象稱為吸波性能。
不同類型的碳化硅材料具有不同的吸波能力。例如,異形截面的碳化硅與邊界規(guī)則的碳化硅截面具有不同的吸波性能,不同碳化硅的表面曲率不同,其電荷聚集的能力也不同,通常曲率較小則容易聚集電荷。另外,不同厚度的涂層對吸波性能也有不同的影響。
2.1.1 試驗設備及試劑準備
試驗用到的設備有電子天平、電子掃描儀、恒溫加熱磁力攪拌器、X射線衍射儀、紅外光譜儀、離心機等。用到的試劑包括碳化硅粉末、鹽酸、乙醇、水玻璃、硝基清漆、丙酮、檸檬酸等。
2.1.2 涂層制備
吸波涂層的制備工藝有多種,最簡單的是刷涂法,即將觸變型流體通過多次刷涂,覆蓋住材料的表面。浸涂法是將材料浸入涂料槽,再刷去多余的涂料即可。另外,還有噴涂法與流涂法,本試驗主要選擇刷涂法。
制備碳化硅涂層要選擇合適的黏結(jié)劑,本試驗選擇水玻璃作為黏結(jié)劑,常見的有鈉水玻璃、鉀水玻璃,可通過加熱成膜,起到黏結(jié)作用,其優(yōu)點是耐高溫高熱,易獲取,不污染環(huán)境且性價比高。在使用時,要注意選擇適當模數(shù)的水玻璃,以免黏結(jié)效果不佳。
將碳化硅粉末與水玻璃按不同比例混合,攪拌并均勻涂于玻璃纖維布上,碳化硅含量與涂層厚度分別形成對照,具體如表1、表2所示。
表1 不同含量的碳化硅涂層
表2 不同厚度的碳化硅涂層
2.1.3 試驗過程
(1)用X射線衍射儀對樣品結(jié)晶度進行檢測,XRD掃描,掃描范圍3°~50°。
(2)用電子掃描顯微鏡觀察樣品結(jié)構(gòu),利用細聚電子束與樣品表面的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生物理作用,發(fā)出相關信號,將采集到的信號放大,轉(zhuǎn)換成調(diào)制信號,再通過顯示屏顯示,掃描電壓為15kV。
(3)用紅外光譜測定碳化硅涂層的結(jié)構(gòu)差異。測定范圍3000cm以內(nèi),波數(shù)精度0.01cm。
(4)計算涂層的吸波性能。利用公式R(n)=20×lg[г(n)],其中,n表示n層材料,г(n)為涂層的反射系數(shù),R(n)為雷達波反射率。
2.2.1 結(jié)果
通過檢測不同厚度的涂層反射率可得,當碳化硅含量為20%時,厚度分別為1.15mm、2.04mm、3.25mm的涂層吸收峰分別為5.84GHz、5.35GHz、4.90GHz,吸波強度均小于20dB。
當涂層厚度一定時,吸收性能根據(jù)碳化硅的含量變化,碳化硅含量20%時,吸收峰的峰位在低頻段,接近5.72GHz,頻寬3.4GHz,吸收強度-20dB。當碳化硅含量為30%時,吸收峰峰值為-25GHz,有效頻高為3.7GHz;碳化硅含量為35%時,吸收強度為22.3GHz,頻寬4.0GHz。碳化硅涂層中,碳化硅含量增加,其吸收強度與相應頻寬也隨之增加,即吸波性能增強,但是當碳化硅含量增加到一定程度時,涂層硬度變大,吸波性能不再繼續(xù)增強。
將6個小組中的涂層置于150℃環(huán)境中,觀察其吸收峰的峰位均向低頻段移動,雷達波反射率幾乎無變化,由此可得出150℃高溫對碳化硅涂層的吸波性能影響較小。但當涂層置于250℃高溫環(huán)境中時,吸收峰明顯向高頻段轉(zhuǎn)移,吸收強度相對減弱。
2.2.2 討論
通過試驗可得,碳化硅涂層越薄,吸波能力越低;涂層中所含碳化硅含量越低,吸波能力越低。當涂層厚度與碳化硅含量達到標準時,涂層可承受250℃高溫。在150℃環(huán)境中,厚度為1mm的碳化硅涂層吸收強度保持在20dB左右。
通過對比分析可知,碳化硅涂層的最適吸波能力為1mm,碳化硅涂層的多波段吸收可以跨越不同厚度的涂層。隨著碳化硅涂層厚度的減小,涂層吸收峰的峰位逐漸轉(zhuǎn)為高頻。
在一定范圍內(nèi),吸收峰的峰位變化與碳化硅含量成正比,碳化硅含量增加,則吸收峰峰位向高頻移動。相反,涂層厚度與吸收峰的峰位成反比,厚度增加,則吸收峰峰位移向低頻段。當涂層厚度1mm時,碳化硅涂層的吸波性能最佳。
本文通過制備碳化硅涂層,對碳化硅涂層的結(jié)構(gòu)、形態(tài)和吸波強度等測定,對比了不同含量的碳化硅涂層以及不同涂層厚度對吸波性能的影響,評估了不同涂層的耐高溫能力,從而較為深入、全面地了解了碳化硅的吸波性能。