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    酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制

    2015-12-24 05:20:26楊欣欣張彬荀其寧拓銳胡國(guó)星潘忠泉
    化學(xué)分析計(jì)量 2015年2期
    關(guān)鍵詞:濾光片基片研磨

    楊欣欣,張彬,荀其寧,拓銳,胡國(guó)星,潘忠泉

    (中國(guó)兵器工業(yè)集團(tuán)第五三研究所,濟(jì)南 250031)

    酶聯(lián)免疫吸附試驗(yàn)(ELISA,簡(jiǎn)稱(chēng)“酶免試驗(yàn)”)是現(xiàn)代醫(yī)學(xué)臨床檢驗(yàn)的基本檢測(cè)技術(shù),免疫臨床標(biāo)志物(抗原/抗體)具有無(wú)法替代的臨床意義,操作簡(jiǎn)便,技術(shù)可靠,因而酶免試驗(yàn)成為傳染病血清學(xué)標(biāo)志物、腫瘤標(biāo)志物及內(nèi)分泌等各種臨床免疫指標(biāo)檢測(cè)的主導(dǎo)技術(shù)[1–3]。

    酶標(biāo)分析儀是一種基于酶免試驗(yàn)的專(zhuān)用醫(yī)學(xué)儀器,因具有特異性強(qiáng)、重復(fù)性好、敏感性高、快速安全等優(yōu)點(diǎn),廣泛用于醫(yī)院、血站、防疫站、生物制品生產(chǎn)企業(yè)等部門(mén)。JJG 861–2007[4]規(guī)定分別采用標(biāo)稱(chēng)波長(zhǎng)為405.0,450.0,492.0,620.0 nm的介質(zhì)膜干涉濾光片作為檢定酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)示值誤差及重復(fù)性的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。

    當(dāng)白光入射到干涉濾光片內(nèi)部時(shí),在多層介子膜上會(huì)產(chǎn)生多次反射。濾光片的光學(xué)玻璃基片及其表面所鍍的介子膜具有銳截止特性,使得透射光線變成了單色光[5–6]。目前國(guó)外暫無(wú)酶標(biāo)分析儀相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的報(bào)道。國(guó)內(nèi)在用的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)為吉林省計(jì)量科學(xué)研究院研制的酶標(biāo)分析儀檢定用濾光片標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)(干涉濾光片),波長(zhǎng)范圍為400.0~700.0 nm,波長(zhǎng)不確定度為0.7 nm(k=2)。

    筆者研制的酶標(biāo)分析儀檢定用波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)(以下簡(jiǎn)稱(chēng)波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì))標(biāo)稱(chēng)峰值波長(zhǎng)分別為405.0,450.0,492.0,620.0 nm,峰值波長(zhǎng)不確定度為0.7 nm(k=2),該波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)量值穩(wěn)定、均勻性好,便于攜帶,有效期為1年,可滿足多通道酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)示值誤差及重復(fù)性檢定的需要。

    1 主要儀器設(shè)備

    外圓排鋸切割機(jī):YTH1–A–JB型,北京中西遠(yuǎn)大科技有限公司;

    研磨機(jī):HD2M9B–5L型,宜興晶科光學(xué)儀器有限公司;

    拋光機(jī):JY2M16B–5L型,益陽(yáng)精益機(jī)器制造有限公司;

    真空鍍膜機(jī):DM–450型,北京儀器廠;

    紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì):Lambda900型,美國(guó)PE公司。

    2 設(shè)計(jì)原理

    光學(xué)玻璃具有穩(wěn)定的物理化學(xué)特性,受外界因素影響非常小。波長(zhǎng)標(biāo)定用窄帶濾光片的基本結(jié)構(gòu)是法布里–柏格濾光片,作為波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),要求濾光片滿足穩(wěn)定的中心波長(zhǎng)、窄的帶寬、高透過(guò)率、高的環(huán)境穩(wěn)定性、高的溫度穩(wěn)定性等性能要求,這些要求不是瞬時(shí)的而是永久的。

    根據(jù)光學(xué)薄膜理論,選擇兩種不同折射率的材料組成多層光學(xué)薄膜元件來(lái)制備波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。其中,光學(xué)薄膜的峰值波長(zhǎng)、峰值透射比、半寬度根據(jù)式(1)~(3)確定:

    式中:λ0——峰值波長(zhǎng);

    n——反射膜堆層數(shù);

    d——膜厚;

    m——干涉級(jí)數(shù);

    Tmax——峰值透射比;

    T12——反射膜的透過(guò)率;

    A12——反射膜的吸收損耗;

    2Δλ——半寬度。

    由式(1)~(3)可知,調(diào)整反射膜的膜堆層數(shù)及膜厚可實(shí)現(xiàn)特定的峰值波長(zhǎng);選擇高透過(guò)率的全介質(zhì)膜可以提高膜層的透射比,但會(huì)導(dǎo)致半寬度增大。為兼顧峰值透射比及半寬度,設(shè)計(jì)的膜系具體結(jié)構(gòu)為G(HL)3H(2L)(HL)3H,如圖1所示。

    圖1 酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)膜系結(jié)構(gòu)示意圖

    3 制備工藝

    3.1 鍍膜材料的選擇

    硫化鋅和冰晶石具有良好的光學(xué)性能,而且二者均有穩(wěn)定的結(jié)構(gòu),容易保持制作器件的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。硫化鋅折射率為2.35,透光范圍為400~13 000 nm,具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性,堆積密度高,呈壓應(yīng)力;而冰晶石(Na3AlF6)折射率為1.35,透光區(qū)130~14 000 nm,堆積密度低,呈張應(yīng)力。硫化鋅和冰晶石兩者搭配起來(lái)鍍多層膜應(yīng)力很小,因此選擇硫化鋅和冰晶石作為波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的鍍膜材料。

    作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)基底材料,除了應(yīng)具有良好的光學(xué)穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性之外,更重要的是其力學(xué)性質(zhì)。一方面基底與薄膜材料要有良好的結(jié)合力,確保薄膜不脫落不開(kāi)裂;另一方面需要基底的熱參數(shù)與薄膜膜系匹配??晒┻x擇的基底材料有熔石英、微晶玻璃、K9玻璃等。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),K9玻璃透過(guò)率好、硬度高、膜層附著力優(yōu)良,適合作為波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的基底保護(hù)材料。

    3.2 基片制備

    經(jīng)光學(xué)冷加工即切割、粗磨、精磨、拋光等工藝加工基片材料,再經(jīng)鍍膜工藝將K9玻璃鍍?cè)诨妆砻妗?/p>

    3.2.1 切割

    用外圓排鋸切割機(jī)進(jìn)行光學(xué)切割,燒結(jié)金剛石鋸片基體為45#鋼,厚度為0.3 mm,金剛石粒度為210~255 μm;切割時(shí)控制線速度為20~40 m/s,在鋸片邊緣添加粒度為60~80 μm金剛砂及水,以防止鋸片過(guò)熱并提高切割效率,最終切割成30 mm×10 mm的光學(xué)玻璃基片。

    3.2.2 研磨

    以研磨機(jī)將玻璃基片研磨成精確厚度的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)基片,一般磨除量為0.2~1.0 mm。由于光學(xué)玻璃基片的凹陷深度隨磨料顆粒度的增大而增加,即研磨質(zhì)量隨粒度增大而變壞,因此開(kāi)始研磨時(shí),要用粒度較大的磨料提高玻璃的磨除量,之后再用細(xì)磨料逐級(jí)研磨,使得玻璃表面的凹陷層和裂紋層的深度盡可能減小。根據(jù)拋光表面的質(zhì)量要求,最后一級(jí)研磨的玻璃凹陷層平均深度為3~4 μm,最大裂紋深度為10~15 μm。

    將粘盤(pán)加熱,用石蠟或松香蠟將玻璃基片粘接于粘盤(pán)上,依次采用粒徑為40,25 μm的金剛砂作為磨料,在研磨機(jī)上進(jìn)行研磨,研磨機(jī)的轉(zhuǎn)速設(shè)為70 r/min,直至光學(xué)玻璃表面的毛面變得非常細(xì)致。

    3.2.3 拋光

    經(jīng)過(guò)粗磨和精磨后的的玻璃基片表面有凹陷層,下面有裂紋層,經(jīng)研磨的玻璃基片是不透明的,必須拋去10~15μm的裂紋層,獲得符合理論要求的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)基片。

    拋光過(guò)程在拋光機(jī)上進(jìn)行,調(diào)節(jié)拋光機(jī)轉(zhuǎn)速為35~100 r/min,頂盤(pán)用毛氈粘于細(xì)鐵盤(pán)上,用石膏加水,將基片毛坯粘在底盤(pán)上。粘合前,須先檢查基片表面細(xì)磨程度,避免附有砂孔等缺陷而影響拋光質(zhì)量。粘合后先用粒徑25 μm的金剛砂細(xì)研磨,直到用放大鏡檢查符合要求后,用水沖洗,換用紅粉拋光。研磨時(shí)室內(nèi)溫度必須保持在20℃以上,玻璃表面的溫度保持在約25℃。

    3.2.4 清洗

    為了提高膜層的附著力和光學(xué)性能,采用定向離子清洗技術(shù)有效去除K9玻璃基底的二次污染、增加基底表面結(jié)合能,有效改善基片表面性質(zhì)。

    3.3 鍍膜

    鍍膜機(jī)的鐘罩上安裝有鹵素?zé)?,波長(zhǎng)涵蓋紫外到紅外波段,采用極值法進(jìn)行膜厚度監(jiān)控。光束射入鐘罩,通過(guò)基片從鐘罩射出,經(jīng)單色儀分光后被光電倍增管接收,光電流由放大器檢測(cè),以監(jiān)控膜層厚度。單色儀用于控制波長(zhǎng)。硫化鋅和冰晶石分別放在兩個(gè)鉬片制成的加熱舟內(nèi),鍍膜時(shí)以H層、L層交替加熱進(jìn)行蒸發(fā)。

    為保證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的性能,采取如下措施:

    (1)采用大型修正擋板修正膜層的徑向均勻性,通過(guò)提高夾具的旋轉(zhuǎn)速度,修正角向均勻性,保證同一標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)不同位置的中心波長(zhǎng)在規(guī)定的范圍之內(nèi)。

    (2)由于膜層中包含大量的空隙,薄膜濾光片吸潮后膜層折射率升高,濾光片的中心波長(zhǎng)會(huì)產(chǎn)生明顯的漂移。采用離子束輔助蒸發(fā)的方法得到高堆積密度的薄膜,以減小標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的波長(zhǎng)漂移。

    (3)采用光學(xué)直接監(jiān)控法控制膜層厚度,前一層薄膜產(chǎn)生的厚度誤差可以被后一層薄膜的反向偏差所補(bǔ)償,提高標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的精度和穩(wěn)定性。

    (4)采用膠合強(qiáng)度高、收縮率小、耐高低溫的光學(xué)環(huán)氧樹(shù)脂膠作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)膠合用的光學(xué)粘結(jié)劑,并在膜層上膠合K9平板玻璃,以防止膜層劃傷并提高膜層的穩(wěn)定性。

    4 定值

    按照J(rèn)JG 1034–2008中“7.3.3”條,儀器開(kāi)機(jī)預(yù)熱30 min,校正儀器波長(zhǎng)及透射比量值,對(duì)酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)檢定用濾光片標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)進(jìn)行逐片定值[7]。將標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)置于儀器樣品室,以50 nm/min的掃描速度測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的峰值波長(zhǎng),連續(xù)測(cè)量9次,取9次測(cè)量平均值作為標(biāo)準(zhǔn)值。

    使用紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)對(duì)所制備的系列標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)在300~700 nm范圍內(nèi)進(jìn)行掃描,得到譜圖見(jiàn)圖2。

    圖2 酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜曲線圖

    由圖2可知,所研制的酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)標(biāo)稱(chēng)峰值波長(zhǎng)依次為405.0,450.0,492.0,620.0 nm,峰值透射比大于25%,半寬度小于15.0 nm,滿足規(guī)程要求。

    5 不確定度分析

    測(cè)量不確定度是表征被測(cè)量之值的分散性,并與測(cè)量結(jié)果相聯(lián)系的參數(shù)。測(cè)量不確定度由多個(gè)分量組成,其中一些分量可按統(tǒng)計(jì)分布來(lái)評(píng)定,以實(shí)驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)偏差表征[8]。酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)峰值波長(zhǎng)的測(cè)量不確定度主要由重復(fù)性、均勻性、穩(wěn)定性、定值儀器引入的不確定度確定。

    5.1 重復(fù)性引入的不確定度u1

    用定值裝置分別測(cè)試波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的峰值波長(zhǎng),重復(fù)測(cè)量6次,計(jì)算6次測(cè)量結(jié)果算術(shù)平均值的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差,作為重復(fù)性引入的標(biāo)準(zhǔn)不確定度u1,計(jì)算得u1=0.04 nm。

    5.2 均勻性引入的不確定度u2

    將測(cè)試儀器預(yù)熱、調(diào)節(jié)完畢,根據(jù)JJG 1006–1994及JJG 1034–2008 “7.3.3.3”,分別按照標(biāo)稱(chēng)波長(zhǎng)上下20 nm的掃描范圍及50.0 nm/min的掃描速率測(cè)試5套樣品不同位置(樣品的中心點(diǎn)、中心點(diǎn)上下各5 mm處共3點(diǎn),以上3點(diǎn)左右2 mm處各1點(diǎn))峰值波長(zhǎng)及峰值透射比值,并計(jì)算半寬度,每個(gè)取樣點(diǎn)連續(xù)檢測(cè)3次,對(duì)峰值波長(zhǎng)數(shù)據(jù)采用方差分析法進(jìn)行統(tǒng)計(jì)處理[9–10],方差分析結(jié)果見(jiàn)表1。

    表1 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)均勻性考核結(jié)果

    由表1可知,F(xiàn)

    5.3 穩(wěn)定性引入的不確定度u3

    在規(guī)定的貯存或使用條件下(12個(gè)月),按照先密后疏的原則,定期進(jìn)行特性量值的穩(wěn)定性檢驗(yàn)。根據(jù)直線擬合法評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的穩(wěn)定性。根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果,計(jì)算得斜率β1=-0.003 7,截距β0=491.1577,直線標(biāo)準(zhǔn)偏差s2=0.013 7,斜率的標(biāo)準(zhǔn)偏差s(β1)=0.026 0。

    查表可知t0.95,4=2.78,則t0.95,4·s(β1)=0.072 3,顯然,t0.95,4·s(β1)>β1,表明直線斜率不顯著,標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)在考察期是穩(wěn)定的。

    在穩(wěn)定性考察期12個(gè)月內(nèi)(X=12),標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的穩(wěn)定性引入的不確定度分量u3= s(β1)·X=0.32 nm。

    為了保證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的穩(wěn)定性,采用特制的包裝盒進(jìn)行包裝,非使用狀態(tài)應(yīng)將標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)置于包裝盒內(nèi),與包裝盒一同放入干燥器中,貯存于避光、陰涼、潔凈的環(huán)境中。

    5.4 定值儀器引入的不確定度u4

    定值儀器的波長(zhǎng)擴(kuò)展不確定度為0.07 nm(k=2),由定值儀器引入的標(biāo)準(zhǔn)不確定度u4=0.035 nm。

    將以上不確定度分量合成,得:

    擴(kuò)展不確定度U=kuc=0.66 nm≈0.7 nm (k=2)。

    6 結(jié)語(yǔ)

    經(jīng)均勻性、穩(wěn)定性考核,酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)均勻、穩(wěn)定,量值準(zhǔn)確,符合國(guó)家二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的要求,能滿足酶標(biāo)分析儀波長(zhǎng)示值誤差及重復(fù)性的檢定/校準(zhǔn)需求。

    [1]郭勇.醫(yī)學(xué)計(jì)量[M].北京:中國(guó)計(jì)量出版社,2002: 44.

    [2]葉應(yīng)嫵,王毓三.全國(guó)臨床檢驗(yàn)操作規(guī)程[M]. 2版.南京:東南大學(xué)出版社,1997: 208–209.

    [3]倪星忠.臨床生化酶試劑方法[M] .上海:華東師范大學(xué)出版社,1993: 127–128.

    [4]JJG 861–2007 酶標(biāo)分析儀檢定規(guī)程[S].

    [5]JJG 812–1993 干涉濾光片[S].

    [6]王文光.分光光度計(jì)檢定用高穩(wěn)定度窄帶干涉濾光片的研制[J].計(jì)量與測(cè)試技術(shù),2000(1): 33–34.

    [7]JJG 1034–2008 光譜光度計(jì)標(biāo)準(zhǔn)濾光器[S].

    [8]JJF 1059.1–2012 測(cè)量不確定度的評(píng)定與表示[S].

    [9]JJG 1006–1994 一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)技術(shù)規(guī)范[S].

    [10]JJF 1343–2012 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)定值的通用原則及統(tǒng)計(jì)學(xué)原理[S].

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