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    ZnO/CdS復(fù)合光催化劑的制備及降解四環(huán)素類抗生素

    2015-07-24 10:28:18葉林靜安小英姜韻婕閆超關(guān)衛(wèi)省
    化工進(jìn)展 2015年11期
    關(guān)鍵詞:日光復(fù)合物反應(yīng)時(shí)間

    葉林靜,安小英,姜韻婕,閆超,關(guān)衛(wèi)省

    (長(zhǎng)安大學(xué)環(huán)境科學(xué)與工程學(xué)院,陜西 西安 710054)

    抗生素作為一種抗菌性化合物,被廣泛應(yīng)用于農(nóng)業(yè)、醫(yī)藥及人類健康等方面,抗生素的大量使用使人類耐藥性以及在環(huán)境中的殘留量不斷增加,引起了許多研究者對(duì)這類物質(zhì)的關(guān)注[1]。由于抗生素具有新陳代謝效率低且被治療物種吸收率低等特點(diǎn),大部分抗生素又以母體化合物的形式通過生物排泄系統(tǒng)釋放到水體環(huán)境中[2]。近幾年抗生素的過度濫用嚴(yán)重干擾了水生植物的光合作用和生物群落的代謝作用,同時(shí)增強(qiáng)了細(xì)菌的耐藥性,從而對(duì)人類健康和環(huán)境平衡造成嚴(yán)重的影響[3-5]。其中四環(huán)素是一類被廣泛用于種植和養(yǎng)殖領(lǐng)域的抗生素物質(zhì),由于生物降解能力的低效性和傳統(tǒng)水處理技術(shù)的有限性,大量的四環(huán)素類污染物仍存在于地表水、地下水和土壤中,在環(huán)境生態(tài)系統(tǒng)中具有一定的潛在危害性[6-7]。因此,開發(fā)簡(jiǎn)單、有效、經(jīng)濟(jì)和快速去除四環(huán)素的方法是環(huán)境治理中最關(guān)心的問題之一。

    半導(dǎo)體光催化材料因擁有將太陽能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能的巨大潛力,在水處理中可作為有效去除各種有機(jī)污染物的綠色材料,在環(huán)境修復(fù)中備受關(guān)注[8-9]。在多數(shù)光催化材料中,N 型半導(dǎo)體ZnO 催化材料由于其獨(dú)特的性質(zhì)已被大量研究用于處理如亞甲基橙、羅丹明B、苯酚、吖啶橙等污水[10-13]。與其他半導(dǎo)體如TiO2、Fe2O3相比,ZnO 顯示了更高的電子遷移率、激子結(jié)合能、擊穿強(qiáng)度和激子的穩(wěn)定 性[14]。然而,ZnO 受限于可見光的吸收率和利用率,研究表明利用ZnO 和窄帶隙光敏材料的復(fù)合可以提高其光學(xué)性能[15]。窄帶隙能的CdS(Eg=2.37eV)作為一種典型的硫族化合物半導(dǎo)體,是一種常見的可見光響應(yīng)型光催化劑,同時(shí)也是一種光敏劑[16]。CdS 與ZnO 的能帶結(jié)構(gòu)復(fù)合促使光生電子快速從CdS 轉(zhuǎn)移至ZnO,這種異質(zhì)結(jié)構(gòu)中的光生載體壽命與單一組分CdS 和ZnO 相比更長(zhǎng),二者的復(fù)合解決了光催化效率受半導(dǎo)體帶隙寬度的限制[17-19]。迄今,不同結(jié)構(gòu)的CdS-ZnO 顯示了如氣敏、光催化以及光電等一些優(yōu)勢(shì)性能[20-21],已有文獻(xiàn)報(bào)道了不同的CdS-ZnO 體系,如海膽形CdS/ZnO、納米管陣列CdS/ZnO,在ZnO 納米棒表面包覆CdS、CdS/ZnO核殼型納米棒以及CdS 納米顆粒/ZnO 納米線異質(zhì)結(jié)構(gòu)[22-26]。本文利用水熱法在單晶Si 輔助低溫合成了ZnO/CdS 復(fù)合光催化劑,并對(duì)產(chǎn)物的形貌、結(jié)構(gòu)、光學(xué)及復(fù)合作用進(jìn)行分析,在日光燈和紫外光照射下對(duì)鹽酸四環(huán)素(TC)、土霉素(TOC)和強(qiáng)力霉素(DC)3 種四環(huán)素類抗生素進(jìn)行降解,并對(duì)其降解反應(yīng)動(dòng)力學(xué)進(jìn)行分析。

    1 實(shí)驗(yàn)部分

    1.1 實(shí)驗(yàn)試劑

    Cd(Ac)2·2H2O、Zn(NO3)2·6H2O、CS(NH2)2,天津市福晨化學(xué)試劑有限公司;NH3·H2O,四川西隴化工有限公司;KOH,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司;PEG4000,廣東光華化學(xué)廠;N 型單晶硅,浙江立晶硅材料有限公司,晶向(100);以上試劑均為分析純。四環(huán)素、鹽酸土霉素和強(qiáng)力霉素,南京都萊生物有限公司,USP 級(jí);實(shí)驗(yàn)用水為去離子水。

    1.2 實(shí)驗(yàn)儀器

    KH-100E 型超聲波清洗器,昆山禾創(chuàng)超聲儀器有限公司;TG18G 型離心機(jī),湖南凱達(dá)科學(xué)儀器有限公司;BL-GHX-V 型光化學(xué)反應(yīng)儀,西安比朗光學(xué)儀器有限公司;UV-765 型紫外可見分光光度計(jì),上海精密科學(xué)儀器有限公司;D8 ADVANCE 型X射線衍射儀,德國布魯克AXS 公司;場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡S-4800,日本Hitachi 公司;UV-2450 型紫外-可見漫反射光譜儀,日本島津公司。

    1.3 實(shí)驗(yàn)步驟

    分別稱取一定量的Zn(NO3)2·6H2O 以及0.2g 的PEG4000 溶解于150mL 去離子水中,在水浴鍋中電動(dòng)攪拌使其溶解,在室溫下向鋅溶液中逐滴加入1.5mL 氨水,80℃持續(xù)攪拌4h 后,生成白色沉淀的ZnO 前體。經(jīng)室溫冷卻后,分別用水洗和醇洗3 次后室溫保存。另取Cd(Ac)2·2H2O 溶解于40mL 水中,并加入0.2g 表面活性劑PEG4000,將20mL 濃度為0.5mol/L 的KOH 溶液逐滴加入圓底燒瓶中并電動(dòng)攪拌,待溶液變?yōu)榘咨橐簳r(shí)逐滴加入濃度為20mmol/L 的硫脲溶液20mL,體系保持在70℃水浴中持續(xù)攪拌30min 后,橙黃色的CdS 沉淀產(chǎn)生。這時(shí)將經(jīng)過丙酮預(yù)清洗后、大小為30mm×30mm 的單晶硅Si(100)放入容積為100mL 的聚四氟乙烯罐中;將制得的ZnO 前體與80mL CdS 溶液中超聲混合10min 后,轉(zhuǎn)入反應(yīng)釜密封,100℃中反應(yīng)10h后得到的淡黃色沉淀生長(zhǎng)在Si 基表面,去離子水沖洗下來后,分別水洗、醇洗若干次后80℃真空干燥并保存。Zn(NO3)2·6H2O 與Cd(Ac)2·2H2O 反應(yīng)的物質(zhì)的量比分別為3∶1、5∶1、15∶1 和25∶1,反應(yīng)時(shí)間分別為6h、8h、10h 和12h。

    1.4 光催化性能的評(píng)價(jià)

    在光化學(xué)反應(yīng)儀器中使用光源分別為300W 的氙燈和汞燈模擬日光與紫外光輻射對(duì)TC、DC 和TOC 3 種抗生素進(jìn)行降解。在初始濃度為20mg/L的3 種四環(huán)素溶液(體積為50mL)中分別加入0.025g 催化劑,并將其懸濁液在暗處攪拌30min 以達(dá)到吸附平衡,然后打開氙燈進(jìn)行光催化反應(yīng),每隔一段時(shí)間取4mL 樣液進(jìn)行高速離心分離,取上清液分別在3 種抗生素最大吸收波長(zhǎng)處利用UV-765型紫外-可見分光光度計(jì)測(cè)量其吸光度。目標(biāo)物降解率X 的計(jì)算方法如式(1)。

    式中,C0為抗生素的初始濃度;Ct為t 時(shí)刻抗生素濃度。

    2 結(jié)果與分析

    2.1 XRD 分析

    2.1.1 不同物料比ZnO/CdS 的XRD

    對(duì)不同反應(yīng)物料比的ZnO 和CdS 復(fù)合物的晶體組成進(jìn)行分析,圖1 為水熱法制得的ZnO/CdS 納米復(fù)合材料XRD 圖譜,可以清晰區(qū)分出ZnO 和CdS的衍射峰,譜線f 中ZnO 的衍射峰與JCPDS No.79-2205 卡中的標(biāo)準(zhǔn)峰一致,在2θ 為10°~ 80°范圍中,顯示了典型的ZnO 六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)。譜線a 中純CdS 的衍射峰與JCPDS No.80-0006 卡標(biāo)準(zhǔn)圖譜的衍射峰一致,分別在25.4°、26.9°、28.4°、44.3°、52.4°代表了纖鋅礦CdS 的(100)、(002)、(101)、(110)和(112)晶面衍射峰。隨著Cd 離子用量的增加,生成的與ZnO 復(fù)合的CdS 質(zhì)量逐漸增多,從XRD 圖譜b~e 中,顯示了逐漸增強(qiáng)的CdS 晶面衍射峰,由此可以推斷CdS 與ZnO 的納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的形成。同時(shí),在ZnO/CdS 納米復(fù)合物XRD 圖譜中沒有雜質(zhì)峰的出現(xiàn),由此可以推斷所合成產(chǎn)物只有ZnO 和CdS。

    2.1.2 不同反應(yīng)時(shí)間ZnO/CdS 的XRD

    通過XRD 圖譜分析不同反應(yīng)時(shí)間對(duì)ZnO/CdS納米復(fù)合物晶相的影響,利用25∶1 鋅鎘配比水熱反應(yīng)6h、8h、10h 和12h 制備的不同的ZnO/CdS 納米復(fù)合材料的晶相變化,結(jié)果如圖2 所示。由于CdS晶體在ZnO 表面復(fù)合生長(zhǎng)需要一定的時(shí)間,6h 后 在復(fù)合材料中幾乎沒有CdS 晶相的形成;隨著反應(yīng)時(shí)間的延長(zhǎng),可以觀察到CdS 晶相的形成,同時(shí)ZnO 的衍射峰強(qiáng)度逐漸增大;當(dāng)反應(yīng)時(shí)間為10h 和12h 時(shí),在形成的ZnO/CdS 復(fù)合物中均顯示了很高的ZnO 和CdS 晶相。

    圖1 不同鋅源與鎘源摩爾比反應(yīng)10h 制得ZnO/CdS 樣品的XRD 圖

    圖2 在不同反應(yīng)時(shí)間下制得的ZnO/CdS(鋅鎘源摩爾比25∶1)XRD 圖

    2.2 SEM 分析

    利用硅基輔助水熱法反應(yīng)10h,Zn(NO3)2·6H2O與Cd(Ac)2·2H2O 不同的物質(zhì)的量比反應(yīng)所制備的ZnO/CdS 納米復(fù)合物的形貌及元素組成的分析如圖3 所示。在圖3(a)中,ZnO/CdS 形成了棒狀復(fù)合結(jié)構(gòu),由于在水熱反應(yīng)體系中,Si 基襯底表面較易生長(zhǎng)形成棒狀結(jié)構(gòu)ZnO,尺寸在1μm 左右,同時(shí)在強(qiáng)堿條件下易于在(001)晶面發(fā)生刻蝕,這一結(jié)論與放大倍數(shù)下的ZnO/CdS 相符,可在棒狀ZnO 頂部形成刻蝕孔結(jié)構(gòu);從圖3(e)中可以看出,純的CdS 呈幾十納米的小顆粒,當(dāng)鋅鎘摩爾比為25∶1 時(shí),許多CdS 小顆粒黏附于棒狀ZnO 表面,同時(shí),用該配比制備的ZnO/CdS 形貌均一,分散性良好。由于氧原子和硫原子具有相似的化學(xué)性質(zhì),因此在ZnO棒表面形成了氧空位俘獲溶液中S 原子的趨勢(shì);吸收的S 原子為CdS 納米粒子在ZnO 結(jié)構(gòu)表面提供了原始成核點(diǎn),這樣就導(dǎo)致ZnO 和CdS 的復(fù) 合[27-28]。但隨著Cd 源濃度增大,ZnO 濃度降低,形成的棒狀結(jié)構(gòu)及CdS納米顆粒發(fā)生不同程度的團(tuán)聚,在ZnO 表面的CdS 黏附不均勻;繼續(xù)增大Cd濃度,可在圖3(c)中看到有大量CdS 黏附在ZnO 表面,兩種形貌顆粒均發(fā)生團(tuán)聚且現(xiàn)象明顯。當(dāng)鋅鎘摩爾比為3∶1 時(shí),ZnO/CdS 納米復(fù)合物的形貌發(fā)生了較大改變,其中ZnO 棒狀結(jié)構(gòu)消失,形成了尺寸與CdS 大小相近的納米簇,在放大倍數(shù)的電鏡圖中可以看出,單個(gè)ZnO/CdS 形成類似錐形結(jié)構(gòu)。對(duì)形貌最佳的多孔棒狀ZnO 與CdS 復(fù)合結(jié)構(gòu)進(jìn)行能譜分析可知,復(fù)合物的組分中僅含有O、S、Zn 和Cd 元素。

    圖3 不同鋅鎘源摩爾比制得ZnO/CdS 樣品(10h)的SEM 圖

    2.3 漫反射-紫外可見光譜分析

    如圖 4(a)所示,對(duì)不同鋅鎘配比制備的ZnO/CdS 在不同光區(qū)的吸收情況進(jìn)行分析,在紫外光區(qū),4 種配比的ZnO/CdS 復(fù)合物均顯示了很強(qiáng)的吸光度。在可見光區(qū),CdS 的復(fù)合明顯提高了ZnO對(duì)可見光的吸收,ZnO/CdS 能夠?qū)ΣㄩL(zhǎng)200~550nm的光發(fā)生響應(yīng),其中鋅鎘摩爾比為 25∶1 時(shí)ZnO/CdS 對(duì)可將光吸收強(qiáng)度最大,其他配比的ZnO/CdS 吸光強(qiáng)度相近,已知純ZnO 在波長(zhǎng)400nm處出現(xiàn)了吸光強(qiáng)度從1.3 到0 的大幅降低,由此可見,CdS 對(duì)ZnO 的帶隙能有一定的影響。根據(jù)吸收帶利用Tauc 公式計(jì)算了不同鋅鎘配比的ZnO/CdS復(fù)合物的帶隙能。在圖4(b)中,鋅鎘配比分別為25∶1、15∶1、5∶1 和3∶1 的ZnO/CdS 的禁帶能分別為2.87eV、2.79eV、3.03eV、3.06eV,與純ZnO 的帶隙能3.24eV 相比,ZnO/CdS 的能帶變化證實(shí)了少量復(fù)合的CdS 高效提高了復(fù)合物對(duì)可見光的捕獲能力。

    其次,對(duì)鋅鎘配比為25∶1 水熱反應(yīng)不同時(shí)間所得產(chǎn)物進(jìn)行光譜吸收測(cè)試,結(jié)果如圖5 所示。反應(yīng)時(shí)間較短時(shí),ZnO/CdS 對(duì)可見光具有一定的響應(yīng)性,吸收強(qiáng)度相對(duì)于反應(yīng)10h 和12h 的ZnO/CdS 較弱,該現(xiàn)象與XRD 所得的短時(shí)間CdS 結(jié)晶度較低一致。不同反應(yīng)時(shí)間所得4 種ZnO/CdS 復(fù)合物對(duì)波長(zhǎng)在200~500nm 光譜內(nèi)均有較強(qiáng)的光響應(yīng)能力, 其中反應(yīng)12h 制備的ZnO/CdS 帶隙能最低。

    圖4 不同鋅鎘比的ZnO/CdS 復(fù)合物(10h)紫外可見漫反射吸收光譜圖和Tauc 曲線圖

    2.4 催化性能分析

    2.4.1 不同鋅源與鎘源物質(zhì)的量比對(duì)樣品四環(huán)素光催化性能的影響

    采用水熱反應(yīng)10h,不同鋅、鎘物質(zhì)的量比制備的ZnO/CdS 復(fù)合材料、純ZnO 和純CdS 分別在日光照射下對(duì)四環(huán)素進(jìn)行光催化降解,結(jié)果如圖6所示。不同物質(zhì)的量比的ZnO/CdS 復(fù)合物在日光照射下對(duì)四環(huán)素的降解率變化相近,然而純ZnO 對(duì)四環(huán)素的降解率明顯低于含有CdS復(fù)合的催化劑對(duì)四環(huán)素降解率;在持續(xù)2h 的日光輻射下,鋅、鎘物質(zhì)的量比分別為25∶1、15∶1、5∶1、3∶1 的ZnO/CdS復(fù)合材料對(duì)四環(huán)素的降解率分別達(dá)到81.65%、74.25%、72.58%、72.29%,其中配比為25∶1 的復(fù)合材料降解率最高。與純ZnO 相比,ZnO/CdS 復(fù)合 材料對(duì)四環(huán)素的降解率有明顯提高。因?yàn)樵趯拵禯nO表面覆蓋一層窄帶隙CdS納米粒子可以對(duì)其光吸收性質(zhì)進(jìn)行改變。由于在可見光光譜范圍內(nèi),高能光子被吸收后,CdS 粒子內(nèi)產(chǎn)生的光生電子可由CdS 粒子轉(zhuǎn)移到ZnO 表面,CdS 表面產(chǎn)生的空穴將會(huì)留在其價(jià)帶,因此可以增強(qiáng)光催化劑的電荷分離概率,增加載流子的壽命[29]。這表明CdS 修飾ZnO后可以明顯提高其光催化性能。值得注意的是,純CdS 在日光照射下對(duì)四環(huán)素的降解率具有明顯優(yōu)勢(shì),可達(dá)到81.96%,這一數(shù)據(jù)與CdS 的窄帶隙能有直接關(guān)系,證實(shí)了CdS 對(duì)可見光的強(qiáng)響應(yīng)性,相比寬帶隙能的ZnO 的降解率僅達(dá)到67.72%。其中,鋅鎘配比為25∶1、反應(yīng)10h 的ZnO/CdS 復(fù)合材料對(duì)TC 具有最強(qiáng)的降解率,在后續(xù)光催化研究中利用該條件產(chǎn)物進(jìn)行測(cè)試。

    圖5 不同時(shí)間下的ZnO/CdS(25∶1)的紫外可見漫反射 吸收光譜圖和Tauc 曲線圖

    圖6 不同鋅源與鎘源摩爾比制得ZnO/CdS 樣品在日光 照射下對(duì)四環(huán)素的光催化降解圖

    2.4.2 ZnO/CdS 復(fù)合材料對(duì)3 種抗生素的降解分析

    ZnO/CdS 復(fù)合物在日光照射下分別對(duì)TC、OTC和DC 進(jìn)行光降解120min,結(jié)果如圖7 所示。其中對(duì)TC 的光降解率最大,可達(dá)81.65%,這一數(shù)值力證了ZnO/CdS 復(fù)合物對(duì)可見光的高效吸收和高光催化活性;DC 次之,降解率為70.68%,OTC 的降解率為54.61%。利用紫外-可見分光光度計(jì)從波長(zhǎng)200~500nm 對(duì)TC 分子進(jìn)行吸收光譜掃描,光催化降解60min 內(nèi),TC 溶液濃度的變化如圖8 所示,在TC 分子特征吸收峰365nm 處,TC 吸收峰在前20min 內(nèi)的大幅下降,在后40min 吸光度逐漸減小,在反應(yīng)開始階段,溶液中TC 濃度很高,在ZnO/CdS表面的吸附濃度很高,隨著光催化反應(yīng)的進(jìn)行,TC不斷被降解而體相中的TC 濃度降低,吸附速率下降,光催化降解速率也變緩。

    2.4.3 UV輻射下ZnO/CdS復(fù)合物對(duì)四環(huán)素的降解率

    ZnO 的寬帶隙能使其對(duì)紫外光具有明顯的光催化活性,與半導(dǎo)體CdS 復(fù)合不僅改變了復(fù)合物的帶隙能,同時(shí)減弱了光生電子與空穴的復(fù)合率,使得ZnO/CdS 復(fù)合材料在UV 光輻射下的光催化效率大大增加,圖9 中經(jīng)過紫外輻射光催化15min 后,樣品對(duì)TC 的降解率已達(dá)到60%,120min 后4 種物料配比的復(fù)合物催化劑對(duì)四環(huán)素幾乎完全降解,由此可以看出,盡管ZnO/CdS 復(fù)合物的配比不同,但CdS 的復(fù)合確實(shí)減少了電子復(fù)合,有效提高電子分離效率。

    圖7 ZnO/CdS 復(fù)合物在日光照射下對(duì)TC、DC 和OTC 的降解率

    圖8 ZnO/CdS 復(fù)合物在日光照射下降解TC 的吸收光譜圖

    2.4.4 ZnO/CdS 復(fù)合材料對(duì)3 種抗生素的動(dòng)力學(xué) 分析

    對(duì)ZnO/CdS 復(fù)合物降解TC、DC 和OTC 抗生素光催化降解動(dòng)力學(xué)分析可知,在圖10 中3 種抗生素降解反應(yīng)符合一級(jí)動(dòng)力學(xué)方程:- ln( C / C0)= kt ,C0表示TC 的暗反應(yīng)30min 后吸附飽和后的抗生素濃度,C 為t 時(shí)刻的TC 濃度,k 表示反應(yīng)速率常數(shù)。其中 ZnO/CdS 對(duì) TC 的光催化反應(yīng)速率常數(shù)0.01415min-1(R2=0.97566)最大,DC 降解反應(yīng)速率次之,k=0.00945min-1(R2=0.99095),而OTC 的降解反應(yīng)速率最慢,反應(yīng)速率常數(shù)為0.00565min-1(R2=0.9491)。

    圖9 紫外輻射下不同鋅源與鎘源摩爾比制得ZnO/CdS 復(fù)合物對(duì)TC 的降解率

    圖10 在日光照射下ZnO/CdS 復(fù)合物對(duì)3 種四環(huán)素的降解動(dòng)力學(xué)ln (C0/Ct)-t 關(guān)系圖

    3 結(jié) 論

    通過水熱法在單晶 Si 表面低溫合成了ZnO/CdS 復(fù)合光催化劑,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,獲得形貌最佳的ZnO/CdS 復(fù)合物的條件是鋅源與鎘源的物料物質(zhì)的量比為25∶1,反應(yīng)時(shí)間為10h。CdS 的復(fù)合使得ZnO 的帶隙能明顯降低,且具有很高的可見光利用率。當(dāng)反應(yīng)10h、鋅鎘配比為25∶1 制備的ZnO/CdS 復(fù)合物對(duì)鹽酸四環(huán)素、土霉素和強(qiáng)力霉素3 種四環(huán)素類抗生素進(jìn)行降解,在日光照射下反應(yīng)120min,降解率可達(dá)到81.64%、70.68%和54.61%;在紫外照射下,幾乎可以完全降解3 種四環(huán)素。表現(xiàn)了復(fù)合物擁有很強(qiáng)的光催化性能。

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