尚飛鵬,郭美瀾,夏曉紅,高云
(1.湖北大學(xué)物理學(xué)與電子技術(shù)學(xué)院,湖北 武漢430062;2.湖北大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,湖北 武漢430062)
近年來(lái),煤礦爆炸、家居燃?xì)馐鹿蕰r(shí)有發(fā)生,為了有效控制CH4、CO、H2等危害氣體的排放,人們采用氣體傳感器檢測(cè)這些氣體的含量.當(dāng)今納米技術(shù)的飛速發(fā)展為傳感技術(shù)的進(jìn)步帶來(lái)了廣泛的前景,與傳統(tǒng)的傳感器相比,運(yùn)用納米技術(shù)制備氣敏傳感器,具有常規(guī)傳感器不可替代的優(yōu)點(diǎn):一是納米固體材料具有很大的界面,提供了大量的氣體通道,從而提高了靈敏度;二是工作溫度降低:三是縮小了傳感器的尺寸[1].TiO2作為n型半導(dǎo)體傳感材料,具有成本低、靈敏度高、易操作、易控制、物理化學(xué)性能穩(wěn)定、易與微電子系統(tǒng)兼容等優(yōu)點(diǎn)而日益受到重視[2].
國(guó)內(nèi)外很多研究機(jī)構(gòu)對(duì)基于TiO2的微型化氣敏傳感器材料進(jìn)行了廣泛研究.1988年日本Egashira M等人以TiO2為基質(zhì),借助Ru、In的摻雜制備出燒結(jié)型氣敏傳感器,從此開(kāi)創(chuàng)了微型化氣敏傳感器的研究時(shí)代.此后,裴素華[3]等人研制了In/TiO2∶Nb2O5復(fù)合傳感器;童茂松[4]等人研制了 TiO2/V2O5雙層膜氣體傳感器;近年來(lái),Soumit s mandal[5]等人對(duì)Ag-TiO2微納米線的電化學(xué)傳感性能和光催化進(jìn)行了研究.本課題組已經(jīng)在TiO2納米棒陣列薄膜氣敏特性研究方面做了大量的工作,取得了一定的進(jìn)展,金紅石相薄膜在25℃時(shí)對(duì)氫氣的靈敏度S可達(dá)1.2,但該陣列薄膜的響應(yīng)時(shí)間與恢復(fù)時(shí)間較長(zhǎng),為80s[6].因此,為了進(jìn)一步增強(qiáng)TiO2納米陣列薄膜室溫下的氫氣氣敏靈敏度,縮短響應(yīng)和恢復(fù)時(shí)間,本文中采用貴金屬納米顆粒對(duì)TiO2納米陣列薄膜進(jìn)行表面修飾,制備出18~50nm不同尺寸的納米Ag顆粒,再將納米Ag顆粒修飾在TiO2納米棒陣列薄膜上,常溫下進(jìn)行氫氣氣敏測(cè)試,修飾后的TiO2納米陣列薄膜靈敏度增加,響應(yīng)恢復(fù)時(shí)間也得到明顯的改善.
1.1 TiO2陣列薄膜的制備 以鈦酸丁酯為前驅(qū)體,水熱法在FTO襯底上合成TiO2納米薄膜.采用的主要設(shè)備為高壓釜,所涉及的主要化學(xué)試劑:鈦酸丁酯(C16H36O4Ti)(分析純,成都市科龍化工試劑廠)、濃鹽酸(HCl)(36%~37%,開(kāi)封東大化工有限公司試劑廠)、無(wú)水乙醇(C2H5OH)(分析純,國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司).
首先配制前驅(qū)體溶液,具體步驟如下:將30mL的濃鹽酸(37%)分散至去離子水(15mL)和無(wú)水乙醇(15mL)的混合溶液中,磁力攪拌器勻速攪拌5min;向混合溶液內(nèi)滴加1mL TBOT,繼續(xù)攪拌至溶液清澈透明.配制好前驅(qū)體溶液后,將兩片F(xiàn)TO襯底導(dǎo)電面朝下,并以一定角度斜置于聚四氟乙烯內(nèi)膽中,然后將前驅(qū)體溶液傾倒入高壓釜中,密封好.最后將高壓釜置于150℃下水熱反應(yīng)8h,制備得到TiO2納米陣列薄膜[6].X線衍射(XRD)表征所制備薄膜的晶體結(jié)構(gòu),掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)表征薄膜的表面和截面形貌.
1.2 Ag納米顆粒的制備 化學(xué)原料:AgNO3(國(guó)藥)、抗壞血酸(國(guó)藥)、PVP(k-30,國(guó)藥)、NaCl(國(guó)藥)、NaOH(天津市恒興化學(xué)試劑制造有限公司),所有原料均為分析純.
稱取85mgPVP加入到20mL的純凈水中,磁力攪拌至完全溶解;將85mg的AgNO3加入以上溶液,在黑暗環(huán)境中磁力攪拌至完全溶解;將0.2mL的5mol/L NaCl加入溶液,繼續(xù)在黑暗環(huán)境中快速攪拌,15min后制得新鮮AgCl膠體.在20mL 50mmol/L抗壞血酸溶液中分別滴加體積為2.3mL、2.5mL、2.7mL、3.0mL的0.5mol/L NaOH溶液,待完全溶解后,分別加入2.5mL新鮮的 AgCl膠體,強(qiáng)力攪拌2h后,進(jìn)行4~5次15min離心(3 500r/min)和乙醇清洗,最后得Ag乙醇溶液.以上各成分比例可同比增加重復(fù)試驗(yàn),制備過(guò)程示意圖如圖1所示.SEM能譜表征元素種類(lèi),TEM分析所制備Ag納米顆粒尺寸及分散性、紫外-可見(jiàn)分光光度計(jì)(UV-Vis)表征所制備Ag納米顆粒的共振吸收.
圖1 制備納米Ag顆粒示意圖
1.3 Ag顆粒修飾TiO2薄膜氣敏性能測(cè)試 將所制備的TiO2薄膜基片固定在旋涂?jī)x上,把配制好的Ag乙醇溶液滴加在TiO2基片上,以轉(zhuǎn)速2 500r/min高速旋轉(zhuǎn)20s(旋轉(zhuǎn)涂膜時(shí),低速啟動(dòng)階段旋轉(zhuǎn)400r/min,時(shí)間為5s),使旋涂液均勻鋪展成薄膜,室溫放置使其自然干燥2min,繼續(xù)涂膜,反復(fù)此過(guò)程6次,最后自然干燥2min制得樣品.
采用磁控濺射法,在TiO2薄膜基片和Ag顆粒修飾后的基片上分別鍍上寬度為1mm的叉指鉑電極,磁控濺射功率80W、濺射氣壓1pa、濺射鍍鈦10s,鍍鉑2.5min,所鍍電極厚度約為800nm.圖2為Ag顆粒修飾后鍍鉑電極的氣敏元件.
測(cè)量氣敏的裝置為真空加熱爐體外接測(cè)試臺(tái)和KEITHLEY2400源表,測(cè)量在真空環(huán)境下進(jìn)行,測(cè)量時(shí)用銅針壓在電極表面,測(cè)量導(dǎo)線由爐體上的密封圈引出,爐體內(nèi)真空度由真空計(jì)測(cè)量,真空傳感器位于爐體內(nèi).測(cè)量前先抽真空,分別開(kāi)啟機(jī)械抽氣泵2h和分子擴(kuò)散泵1h,抽真空至10-2Pa,用KEITHLEY2400源表測(cè)量薄膜在通H2(1 000ppm)前后的電阻變化大小和速率.
圖2 Ag顆粒修飾后鍍鉑電極氣敏元件
2.1 TiO2薄膜的表征 圖3為水熱反應(yīng)制備的TiO2薄膜的XRD圖譜.對(duì)比標(biāo)準(zhǔn)PDF卡片可知,衍射峰包括黑色星號(hào)標(biāo)記的FTO的衍射峰和金紅石相TiO2(002)衍射峰.圖4為該薄膜表面形貌圖,右上角的插圖為陣列薄膜截面圖,右下角的插圖為單根納米棒TEM形貌圖.由圖可以看出所制備的樣品為垂直于FTO襯底取向生長(zhǎng)薄膜,與XRD結(jié)果一致.薄膜結(jié)構(gòu)致密、由單晶納米棒組成定向排列而成,厚度為2.5μm.
圖3 TiO2薄膜XRD圖
圖4 TiO2薄膜的形貌圖
2.2 納米Ag顆粒的表征
2.2.1 掃描電鏡/能譜儀元素分析 掃描電鏡/能譜儀(SEM/EDS)可以方便且無(wú)損地對(duì)各種材料進(jìn)行元素的定性分析、半定量分析及定量分析.圖5為Ag納米顆粒的EDS圖譜,從圖中可以看到C、Ag、Cu的峰.其中,C元素的峰值最強(qiáng),約為500,來(lái)源于微柵網(wǎng)上面的C膜;Ag元素的峰值約為250,是目標(biāo)元素;Cu元素的峰值約為50,來(lái)源于Cu微柵網(wǎng).能譜結(jié)果驗(yàn)證了所制備的樣品為純Ag,沒(méi)有其他雜質(zhì)元素出現(xiàn).
圖5 Ag納米顆粒的EDS圖譜
2.2.2 TEM 分析 圖6(a)、圖6(b)、圖6(c)、圖6(d)分別為加入不等量NaOH時(shí)所制備的納米Ag顆粒的TEM照片.從圖中可以看出所制備的Ag納米顆粒尺寸分布非常均勻、分散性好.隨著NaOH的劑量從2.3mL逐漸增加到3.0mL,所制備的納米Ag顆粒的直徑尺寸由50nm逐漸減小到18nm.NaOH濃度與相應(yīng)的平均尺寸對(duì)應(yīng)關(guān)系在每幅圖右下角標(biāo)出.同比等倍放大所有試劑的劑量,也可以得到同樣的結(jié)果.
圖6 不同 NaOH 含量:(a)2.3mL;(b)2.5mL;(c)2.7mL;(d)3.0mL制備的 Ag納米顆粒的 TEM 照片
在Ag納米顆粒的制備過(guò)程中,顆粒的生長(zhǎng)速率、均勻度等受眾多反應(yīng)參數(shù)的影響,包括抗壞血酸濃度、Cl-濃度、PVP濃度和反應(yīng)過(guò)程中溫度等.其中抗壞血酸作為還原劑,其氧化還原電位隨pH值的增大而增大,因此,調(diào)節(jié)NaOH濃度可以控制抗壞血酸的還原能力,從而控制納米Ag顆粒的生長(zhǎng)速率和均勻性[7].當(dāng)NaOH劑量相對(duì)較高時(shí),抗壞血酸還原AgCl的能力較強(qiáng),還原出來(lái)的銀顆粒成核數(shù)量增多,因此生成穩(wěn)定納米銀顆粒的尺寸相應(yīng)減小.
2.2.3 表面等離子體共振(SPR)分析 圖7為不同尺寸納米Ag顆粒表面等離子體共振吸收光譜(SPR).從圖中可以看出,Ag顆粒的共振吸收峰出現(xiàn)在400nm左右,與參考文獻(xiàn)[8]中報(bào)道結(jié)果一致.顆粒尺寸對(duì)吸收峰的峰位有所影響,50nm Ag顆粒共振吸收峰位在423nm處,30nm Ag顆粒的共振吸收峰位在411nm處,22nm銀顆粒的共振吸收峰位在391nm處.隨著Ag顆粒尺寸減小,其共振吸收峰出現(xiàn)藍(lán)移,與前期報(bào)道過(guò)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果一致[9].
圖7 Ag顆粒表面等離子體共振吸收光譜(SPR)
2.3 氣敏性能測(cè)試 圖8為室溫下通體積分?jǐn)?shù)0.1%H2時(shí),TiO2陣列薄膜的氣敏響應(yīng)曲線.未通H2時(shí),薄膜的電阻為13.6kΩ,加入H2后,薄膜電阻開(kāi)始下降,40s后降到6.0kΩ,保持穩(wěn)定.持續(xù)一段時(shí)間后移除H2,薄膜電阻開(kāi)始上升,28s后恢復(fù)至12.6kΩ,與通H2前的阻值存在誤差,其原因主要是由于停止通H2后,真空加熱爐體內(nèi)仍留存少量H2.圖9為Ag顆粒(18nm)修飾TiO2薄膜的室溫氫氣氣敏特性響應(yīng)曲線.Ag顆粒修飾后薄膜的初始電阻減小,為0.87kΩ,通體積分?jǐn)?shù)0.1%H2后,電阻開(kāi)始下降,經(jīng)31s下降到0.30kΩ,保持穩(wěn)定.移除H215s后薄膜的阻值恢復(fù)至0.70kΩ,與通H2前存在誤差,同樣是因?yàn)檎婵占訜釥t體內(nèi)留存有少量H2.由氫氣氣敏靈敏度計(jì)算公式S=(Ro-Rgas)/Rgas可以計(jì)算出TiO2納米陣列薄膜在Ag顆粒修飾前后對(duì)H2的靈敏度分別為1.27和2.00,修飾后薄膜的靈敏度顯著提高,響應(yīng)時(shí)間和恢復(fù)時(shí)間明顯縮短.
圖8 室溫下體積分?jǐn)?shù)0.1%H2時(shí),TiO2陣列薄膜的氣敏特性
圖9 室溫下體積分?jǐn)?shù)0.1%H2時(shí),Ag顆粒(18nm)修飾TiO2薄膜的氣敏特性
TiO2的氫敏特性主要來(lái)源于TiO2表面對(duì)氫氣的吸附與脫附,當(dāng)充入氫氣時(shí)電子從氫傳到TiO2的導(dǎo)帶,使電子在TiO2表面積聚,從而增強(qiáng)了TiO2薄膜的導(dǎo)電性;當(dāng)脫附氫時(shí),電子由TiO2的導(dǎo)帶轉(zhuǎn)移到氫離子,TiO2的電導(dǎo)降低,恢復(fù)原來(lái)的數(shù)值.由于銀的功函數(shù)(qφm)為4.26eV,略低于 TiO2的親和勢(shì)(qX)4.33eV,當(dāng) Ag顆粒修飾TiO2表面時(shí),Ag與TiO2形成金屬-半導(dǎo)體接觸,費(fèi)米能級(jí)對(duì)齊,使TiO2導(dǎo)帶在接觸面發(fā)生彎曲,如圖10所示,電子可以直接從TiO2導(dǎo)帶進(jìn)入Ag顆粒,在Ag顆粒上聚集,相應(yīng)減少了TiO2的表面的電子濃度,促進(jìn)更大量的H吸附,從而提高TiO2的靈敏度.同時(shí),由于納米Ag為金屬,具有良好的導(dǎo)電性,在吸附和脫附氫的過(guò)程中加速了電子的傳輸速率,相應(yīng)提高了響應(yīng)時(shí)間,達(dá)到了同時(shí)提高靈敏度和響應(yīng)時(shí)間的功效.
圖10 Ag與TiO2形成金屬-半導(dǎo)體接觸
本文中制備了18~50nm大小均勻的金屬Ag納米顆粒,隨著NaOH劑量的增加,溶液PH值增加,改變了抗壞血酸氧化還原電位,使納米銀顆粒尺寸減小.隨著納米Ag顆粒尺寸減小,SPR逐漸藍(lán)移,吸收光譜范圍為423~391nm.經(jīng)金屬Ag納米顆粒修飾后的TiO2納米陣列薄膜氣敏特性得到明顯改善,室溫靈敏度由1.2提高到2.0,響應(yīng)時(shí)間和恢復(fù)時(shí)間分別由40s和28s下降到31s和15s.這是因?yàn)锳g與TiO2的接觸導(dǎo)致TiO2導(dǎo)帶向下彎曲,電子流向Ag顆粒,減少了TiO2表面的電子濃度,促進(jìn)了更大量的H吸附,最終達(dá)到新的平衡,提高了靈敏度.
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