蔣金鴻
(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第五十一研究所,上海 201802)
硫酸鹽鍍銅為簡(jiǎn)單鹽型鍍液,其主要組成為Cu2+、SO24-、H+、Cl-及一些有機(jī)物質(zhì)。
陰極的主要電極反應(yīng)有:
陽極的主要電極反應(yīng)有:
陽極還可能發(fā)生不完全氧化(Cu→Cu++e-),或 與鍍液接觸時(shí)產(chǎn)生歧化反應(yīng)(2Cu+?Cu+Cu2+)。
硫酸鹽鍍銅容易在陽極表面產(chǎn)生“銅粉”,Cu+還易與氧結(jié)合形成Cu2O,Cu 粉與Cu2O 懸浮于溶液中,容易使陰極表面形成粗糙無光的鍍層,所以采用磷銅陽極代替電解銅陽極[1]。Cl-不僅可與鍍液中的Cu+生成不溶于水的CuCl 而消除Cu+的影響,還可降低光亮劑夾雜在銅鍍層中引起的內(nèi)應(yīng)力,有利于提高銅鍍層的延展性能,在酸性鍍銅中扮演著不可或缺的角色。但其含量甚微,一般要求為20~80 mg/L,一般的生產(chǎn)企業(yè)難以做到對(duì)Cl-的定量分析。通常是靠個(gè)人經(jīng)驗(yàn)和通過赫爾槽試驗(yàn)等定性輔助方法加以判別,往往很難對(duì)問題做出正確預(yù)判。
維護(hù)管理不是等出了問題才采取措施,而是在問題出現(xiàn)苗頭時(shí)進(jìn)行預(yù)防。從產(chǎn)品上反映出端倪,多半已是需要解決問題,而非真正的維護(hù)。本文根據(jù)陽極磷膜的情況來維護(hù)硫酸鹽光亮鍍銅中氯離子的含量,可對(duì)硫酸鹽光亮鍍銅液進(jìn)行及時(shí)的維護(hù)。
磷銅陽極表面的正常狀態(tài)為均勻的黑色,且膜層致密。硫酸鹽光亮鍍銅過程中,鍍液氯離子的含量對(duì)陽極表面的成膜有很大影響。本文通過觀察陽極表面的成膜情況來判斷鍍液中氯離子的含量。
1.2.1 基材
陽極為磷銅陽極[w(Cu)> 99.90%,w(P)=0.04%~0.06%],陰極為120 mm × 85 mm 的覆銅板。電鍍前,陽極用由2%(體積分?jǐn)?shù))硫酸和10%(體積分?jǐn)?shù))雙氧水[w(H2O2)=35%]組成的溶液進(jìn)行微蝕處理。
1.2.2 工藝流程
拋刷─除油─水洗─微蝕─水洗─浸10%(體積分?jǐn)?shù))硫酸─電鍍。
1.2.3 配方與工藝
CuSO4·5H2O 80 g/L
H2SO4100 mL/L
光亮劑 5 mL/L
Jk2 A/dm2
θ22 °C
t1 h
赫爾槽試驗(yàn)的鍍液體積為1 L,通過往鍍液中添加一定體積10 mg/mL HCl 標(biāo)準(zhǔn)溶液來引入Cl-。
為模擬氯離子對(duì)陽極磷膜的影響,對(duì)不同Cl-含量的鍍液進(jìn)行赫爾槽試驗(yàn),結(jié)果如表1所示。
表1 不同氯離子質(zhì)量濃度下的赫爾槽試驗(yàn)結(jié)果Table 1 Results of Hull cell test at different mass concentrations of Cl-
從表1可知,氯離子含量接近通常要求的參數(shù)下限時(shí),陽極磷膜有明顯變化,電鍍產(chǎn)品無明顯異常;氯離子含量接近通常要求的參數(shù)上限時(shí),陽極磷膜有白色CuCl 沉淀生成,電鍍產(chǎn)品無明顯異常。陽極磷膜的異常變化均發(fā)生在通常要求的氯離子參數(shù)范圍內(nèi),說明陽極的成膜情況能及早反映問題。因此,通過觀察磷銅陽極的成膜情況,能很好地預(yù)判鍍液中的氯離子含量并及時(shí)進(jìn)行調(diào)節(jié),從而防止產(chǎn)品出現(xiàn)問題,這是電鍍維護(hù)管理的又一新思路。
檢查鍍銅陽極時(shí),應(yīng)取不同位置陽極籃中浸于液面以下的磷銅球或陽極板觀察,并且盡量保證表觀的原貌;正常的磷銅陽極表面為一層細(xì)薄且均勻完整的黑膜。
當(dāng)發(fā)現(xiàn)銅陽極表面黑膜覆蓋不完全時(shí);可初步判斷為Cl-含量較少,若電鍍無明顯質(zhì)量問題,可進(jìn)行赫爾槽試驗(yàn)加以確認(rèn)。當(dāng)兩者判斷結(jié)論相同時(shí),可向鍍液中添加0.03~0.05 mL/L 的30%雙氧水及10 mg/L 的Cl-。因Cl-含量少時(shí)易導(dǎo)致陽極溶解不佳,無法控制Cu+的產(chǎn)生。加入雙氧水可使溶液中形成的Cu+轉(zhuǎn)換成Cu2+,避免形成銅粉積聚而造成銅鍍層粗糙等現(xiàn)象。Cl-的添加應(yīng)遵循多次少量的原則。
若陽極表面隱約出現(xiàn)白色膠狀薄膜,則表明Cl-含量偏多。這是因?yàn)樵陉枠O上已開始有CuCl 沉積,應(yīng)檢查電鍍各環(huán)節(jié),避免繼續(xù)帶入Cl-。此時(shí)多加工小尺寸工件,可使陰極所需的二價(jià)銅離子較少,而陽極上Cl-不斷與Cu+結(jié)合形成CuCl 沉淀而消耗,通過加強(qiáng)過濾以除去CuCl 沉淀。為避免陽極有效表面積減小而容易鈍化,應(yīng)取出形成白色膜的陽極刷洗干凈,除去陽極表面的白色沉淀后重新掛入鍍槽中。通過以上方法即可使得鍍液中的氯離子減少。
當(dāng)陽極表面有細(xì)小顆粒且黑膜較厚時(shí),應(yīng)及時(shí)取出陽極并清洗。因過厚的磷膜孔隙多且易脫落,一方面阻止Cu+進(jìn)入鍍液的能力變差;另一方面,脫落的磷膜造成陽極泥渣,易堵塞陽極袋孔。再則,高的孔隙率使鍍液中Cl-易滲入陽極表面,形成CuCl 不溶膜,促使陽極鈍化[2]。
根據(jù)磷銅陽極表面膜層的情況維護(hù)硫酸鹽光亮酸銅鍍液中的氯離子,是一種有效且便捷的方法;而且能有效避免問題的發(fā)生,在電鍍生產(chǎn)過程中起到了真正的維護(hù)作用。
[1]陳治良.簡(jiǎn)明電鍍手冊(cè)[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2009:220.
[2]袁詩璞.硫酸鹽光亮酸性鍍銅的陽極鈍化[J].電鍍與環(huán)保,2009,29 (5):47-49.