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      “新摩爾時代”的新興應用與技術探尋(下)

      2010-07-28 01:30:10
      電子產品世界 2010年7期
      關鍵詞:代工廠時序布局

      王 瑩

      (接上期)

      產業(yè)鏈關鍵詞:28nm、EDA、ODM、制造

      技術和產品的大繁榮,離不開健全的Ic產業(yè)鏈。此篇從與Ic相關的產業(yè)鏈角度報道一些企業(yè)。

      EDA

      ·2009年EDA和半導體業(yè)都下降了10%左右。但在蕭條的嚴冬中,總有一些可敬的頑強生命在成長。一家2001年才成立的小EDA公司,2009年銷售額增長了22%,2008年在功率分析方面的市場份額高達67%!這家公司就是Apache,CEO兼董事長Andrew T,Yang(楊天勝,華裔)博士介紹說,Apache專門提供降低功率和噪聲的EDA工具。可解決現今流行的28/22nm的芯片封裝系統(tǒng)的噪聲閉合,包括功率、速度、EMI和熱噪聲。

      ·模擬和混合信號IC是利潤最高的IC之一,因為設計技巧高。Tanner EDA公司的總裁GregLebsack稱該公司的模擬/混合信號IC和MEMS設計工具可以大大降低設計門檻。

      ·要實現快速混合信號SoC,需要三方面:數字設計(例如Magma公司的Talus工具)、模擬設計(Magma的Titan)和庫特征描述(Magma的SiliconSmart)。Magma的產品市場行銷副總裁Bob Smith說,Titan Up!程序使模擬設計者提高產品率和復用性,Titan ALX(模擬布局加速器)和Titan AVP(模擬虛擬原型機)可提高模擬/混合信號設計的動態(tài)布局設計的產品化率。定制設計業(yè)務部門副總裁Ashutosh Mauskar宣布新近推出SiliconSmart ACE Memory Characterization,通過嵌入Magma超快的FineSim Pro模擬器,并且利用該公司專利的內存電路優(yōu)化技術,可實現精確的時序、功率和噪聲模式描述。

      ·32/28nm制造物理閉合需要解決時序、SI(信號整合)、DFM(可制造設計)和OPC(光學臨近校正)等問題,以保證時序驅動環(huán)境下的物理簽核(Signoff),為DFC/OPC最好準備。Mentor Graphics公司布局&布線事業(yè)部總經理Pravin Madhani說,Calibre InRoute工具的特點是通過內建的Calibre,可以探測到由LEF驅動(庫交換格式驅動)的驗證引起的DRC(設計規(guī)則檢查)的違規(guī)或忽略,可采用Mentor的Olympus-SoC布局器進行自動修復。在布局器內部循環(huán)方面可采用Calibre DRC。Calibre InRoute方案的特點是:集成的設計和驗證平臺,可減少幾天到幾周的設計時間。

      ODM(委托設計)

      ·代工廠的股東權益回報率只有8%左右,而Fabless(設計公司,也稱無芯片加工廠公司)的股東權益回報率(ROE)15%左右。如果“設計公司+代工廠:實際的IDM(集成器件制造商)”,可以使代工廠和Fabless的綜合RoE達到15%。因此,TSMc投資并控股的臺灣創(chuàng)意電子(Global Unichip)誕生了。

      創(chuàng)意電子主要幫助一些有好點子的公司快速實現IC設計,并推薦到TSMC流片。據創(chuàng)意電子市場處處長黃克勤博士介紹,該公司在祖國大陸的業(yè)務一直在成長,黃處長稱贊一些祖國大陸的客戶想法十分超前,甚至需要創(chuàng)意電子公司設計雙核ARM Cortex-A9處理器!目前,從該公司的2009年設計項目看,0.13um設計仍是主流,占44%;65nm占24%;90nm一直沒有發(fā)展起來,只有9%;40nm設計2009年開始露頭,占1%(注:筆者這段消息發(fā)在網上后,網友rram評論道:實際上,設計成本的急劇上升,導致越來越少的廠家愿意采用先進工藝,導致先進工藝的使用越來越少,反過來導致設備的平均售價上升,又推高制程成本!)。

      ·ASIC設計業(yè)也紅火。Open—Silicon總裁兼CEO Naveed Sherwani介紹說。該公司即使在2009年低谷還達到了s%的增長,過去三年年均增長20%,預計今年將達30%!

      ASIC設計的未來應該是:專注在解決方案和質量。Naveedd對ASIC設計師的建議是:只做部分自己的IP,無需內部晶圓廠,盡量使用第三方內存、庫和工具,利用外包的設計中心。

      制造工藝

      設計方案送到代工廠后,還能進一步優(yōu)化。Tele Innovaffons公司與最大的代工廠TSMC進行了合作,專門做制程優(yōu)化。Tela市場行銷副總裁Neal Carney說,AreaTrim工具可減小芯片面積,PowerTrim降低漏電流,據說在40nm時可減少邏輯電路50%漏電流。Tela的商業(yè)模式是提供給TSMC庫,這樣在TSMC流片的廠商可以選擇Tela產品。

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