高冠正 房蘭霞
(上海美維科技有限公司,上海 201613)
隨著高頻高速電子產(chǎn)品的快速發(fā)展,印制電路板(printed circuit board,PCB)中信號(hào)傳輸過程更容易出現(xiàn)信號(hào)完整性問題,且頻率越高,傳輸速率越快,信號(hào)損耗越嚴(yán)重。如何降低信號(hào)在傳輸過程中的損耗,保證信號(hào)完整性,成為高頻高速PCB發(fā)展的挑戰(zhàn)。PCB中傳輸線插入損耗(插損)主要包括介質(zhì)損耗和導(dǎo)體損耗2個(gè)部分。介質(zhì)損耗由材料選型控制;對(duì)于導(dǎo)體損耗,隨著信號(hào)高速/高頻化,信號(hào)傳輸越來越集中于導(dǎo)線表層(趨膚效應(yīng)),如圖1和表1所示。
表1 趨膚深度與頻率的對(duì)應(yīng)關(guān)系
圖1 趨膚深度與頻率的關(guān)系
當(dāng)頻率達(dá)1 GHz時(shí),信號(hào)在導(dǎo)線表面的傳輸厚度僅為2.1 μm;當(dāng)信號(hào)頻率提高到10 GHz 時(shí),信號(hào)在導(dǎo)體表面的傳輸厚度為0.7 μm;在毫米波頻率(>30 GHz),趨膚深度進(jìn)一步降低至0.4 μm 以下,信號(hào)傳輸基本上在粗糙度范圍內(nèi)進(jìn)行。信號(hào)在粗糙度范圍傳輸,傳輸信號(hào)的駐波和反射將越來越嚴(yán)重,并導(dǎo)致信號(hào)傳輸路徑變長(zhǎng),損耗增加[1]。由于趨膚效應(yīng)的存在,高速PCB 產(chǎn)品如果繼續(xù)沿用常規(guī)銅箔,會(huì)導(dǎo)致隨著信號(hào)傳輸頻率增加,信號(hào)失真越發(fā)嚴(yán)重[2]。因此,當(dāng)前高速材料中低輪廓度甚至超低輪廓度的銅箔材料應(yīng)用越來越廣泛。
現(xiàn)有PCB 產(chǎn)品線路制作工藝制作過程中,對(duì)內(nèi)層線路的銅面粗化工藝將改變帶狀傳輸線的上表面粗糙度,從而影響帶狀線的信號(hào)傳輸,如內(nèi)層線路制作工藝,內(nèi)層需要經(jīng)過干膜前處理和棕化流程,經(jīng)過這2 個(gè)流程處理后,銅箔表面粗糙度會(huì)有一定程度的增加,所以降低導(dǎo)體損耗不僅要選用超低輪廓度的銅箔材料,還需要降低其加工后的銅面粗糙度。為解決這個(gè)問題,有些藥水廠商推出了低粗糙度層壓前處理藥水來代替常規(guī)棕化。對(duì)于常規(guī)棕化流程,內(nèi)層干膜前處理所造成的銅面粗糙度影響較小,可以忽略不計(jì)[3];但在低粗糙度層壓前處理流程中,內(nèi)層干膜前處理的粗化程度是會(huì)對(duì)插損造成較大影響的。因此,本文研究在選定同一種低粗糙度層壓前處理方式的情況下,中粗化內(nèi)層干膜前處理與超粗化內(nèi)層干膜前處理對(duì)插損的影響。
PCB 制作線路時(shí),通常會(huì)對(duì)銅面進(jìn)行粗化處理,以增加干膜與銅面的結(jié)合力,這道工序即本文中所提到的內(nèi)層干膜前處理工序。壓合前為增加半固化片(prepreg,PP)與銅箔的結(jié)合力,提高PCB 的可靠性,也會(huì)對(duì)銅面進(jìn)行粗化處理,即常規(guī)棕化。按照以往常規(guī)制作流程,壓合前的常規(guī)棕化流程所造成的粗糙度可以覆蓋掉內(nèi)層干膜前處理所造成的粗化效果,如圖2所示。
圖2 常規(guī)棕化銅箔光面粗糙度(中/超粗化流程)
因此,內(nèi)層干膜前處理工序并不被考慮為影響插損的關(guān)鍵因素;但在低粗糙度層壓前處理甚至無(wú)微蝕量層壓前處理代替常規(guī)棕化的發(fā)展趨勢(shì)下,層壓前處理工序?qū)︺~面粗糙度的影響越來越小,內(nèi)層干膜前處理的粗化效果就幾乎決定了信號(hào)線表面最終粗糙度(Sz值),成為影響插損的顯著因素。本文選取了內(nèi)層線路制作常用的2 種干膜前處理方式來研究?jī)?nèi)層干膜前處理對(duì)插損的影響程度。
本項(xiàng)目選擇2 種不同粗化效果的內(nèi)層干膜前處理方式,分別為中粗化和超粗化。2種干膜前處理方案的基礎(chǔ)信息見表2,高速材料選型基礎(chǔ)性能見表3。
表2 內(nèi)層干膜前處理方式
表3 高速材料基礎(chǔ)性能
信號(hào)線設(shè)計(jì)為帶狀線,其芯板厚度為100 μm,PP 厚度為60μm,單端匹配阻抗為(50±5)Ω,差分匹配阻抗(100±10)Ω。信號(hào)線疊構(gòu)設(shè)計(jì)如圖3 所示。
圖3 帶狀線疊構(gòu)設(shè)計(jì)
制作工序除內(nèi)層干膜前處理方式外,其余工序保持一致,制作流程如圖4所示。
圖4 制作流程
對(duì)插損測(cè)試結(jié)果進(jìn)行分析,同時(shí)對(duì)硫酸雙氧水體系的干膜前處理流程(中粗化)與有機(jī)酸體系的干膜前處理流程(超粗化)橫向?qū)Ρ?,研?種不同干膜前處理方式下插損的差異。
制作過程中銅箔光面的粗糙度如圖5和表4所示,插損測(cè)試結(jié)果見表5及圖6。
表4 銅箔光面粗糙度單位:μm
表5 單端/差分設(shè)計(jì)插損測(cè)試結(jié)果
圖5 低微蝕量層壓前處理銅箔光面粗糙度(中/超粗化流程)
圖6 單端/差分設(shè)計(jì)插損測(cè)試結(jié)果對(duì)比
由圖6 可知:在采用低粗糙度層壓前處理的前提下,當(dāng)頻率≥30 GHz 時(shí),采用中粗化內(nèi)層干膜前處理流程的PCB 產(chǎn)品插損性能要優(yōu)于超粗化內(nèi)層干膜前處理流程;在頻率30 GHz 時(shí),與采用
超粗化內(nèi)層干膜前處理相比,采用中粗化內(nèi)層干膜前處理的PCB產(chǎn)品插損性能提升了9%左右。
本文指出在低粗糙度層壓前處理流程中,內(nèi)層干膜前處理的粗化程度對(duì)PCB產(chǎn)品插損有影響,并通過中粗化(硫酸雙氧水體系)、超粗化(有機(jī)酸體系)2 種不同的內(nèi)層干膜前處理方式的PCB產(chǎn)品的插損結(jié)果進(jìn)行橫向比較,研究結(jié)果如下。
(1)基于本項(xiàng)目設(shè)計(jì),當(dāng)頻率為30 GHz 時(shí),中粗化內(nèi)層干膜前處理搭配低粗糙度層壓前處理的PCB 產(chǎn)品的插損相較于超粗化內(nèi)層干膜前處理搭配低粗糙度層壓前處理的PCB 產(chǎn)品插損性能提升了9%;在頻率>30 GHz 時(shí),2 種不同干膜前處理搭配低粗糙度層壓前處理插損的結(jié)果差異更加顯著。相較于超粗化內(nèi)層干膜前處理方式,中粗化內(nèi)層干膜前處理搭配低粗糙度層壓前處理可以更有效地提升產(chǎn)品的信號(hào)完整性。
(2)在層壓前處理的粗糙度越來越低和高頻高速應(yīng)用的大環(huán)境下,內(nèi)層干膜前處理的方式成為了進(jìn)一步提升信號(hào)完整性的主要因素,內(nèi)層干膜前處理所造成的粗糙度越低,對(duì)信號(hào)完整性的提升越大。除常見的中粗化與超粗化內(nèi)層干膜前處理之外,市面上有新開發(fā)出來的無(wú)粗化內(nèi)層干膜前處理藥水,理論上這種無(wú)粗化的內(nèi)層干膜前處理搭配低粗糙度層壓前處理可以更好地提升產(chǎn)品的信號(hào)完整性。