王選擇,鄭 燁,張瑜燦,王浩偉
(1.湖北工業(yè)大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院,湖北武漢 430068;2.中國(guó)特種飛行器研究所,結(jié)構(gòu)腐蝕防護(hù)與控制航天科技重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,湖北荊門(mén) 448035)
在石油、化工、動(dòng)力、食品等工業(yè)中,廣泛使用的設(shè)備在惡劣的環(huán)境下,其主要部件的金屬會(huì)發(fā)生腐蝕現(xiàn)象,金屬溶解釋放出電子,其環(huán)境介質(zhì)如氧氣接受電子,這種腐蝕反應(yīng)會(huì)在金屬的各個(gè)位置同時(shí)發(fā)生[1],最終使得其阻值發(fā)生改變。由于金屬的阻值本身很小,腐蝕條件下產(chǎn)生的阻值變化十分微小,因此獲取腐蝕過(guò)程中金屬阻值反應(yīng)腐蝕狀態(tài)對(duì)設(shè)備的安全運(yùn)作、及時(shí)維修起到重要的作用。采用電阻探針?lè)椒╗2],通過(guò)對(duì)其阻值的測(cè)量來(lái)反應(yīng)設(shè)備某一特定位置腐蝕速率的大小,及時(shí)反饋該位置腐蝕變化的趨勢(shì),比其他方法測(cè)量簡(jiǎn)便迅速,信號(hào)反應(yīng)快且不受腐蝕介質(zhì)的影響。
對(duì)于反應(yīng)金屬腐蝕變化狀況分為直接法與間接法。直接法是通過(guò)失重法[3-4]來(lái)展現(xiàn)腐蝕的效果。間接法是通過(guò)測(cè)量其阻值的變化來(lái)?yè)Q算成金屬腐蝕減薄量[5]。傳統(tǒng)的電阻方法有伏安法[6]、惠斯頓平衡電橋[7]和非平衡電橋法[8]。失重法無(wú)法實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)、自動(dòng)化的測(cè)量要求。傳統(tǒng)的電阻測(cè)量法難以滿(mǎn)足高分辨力測(cè)量要求。
基于伏安法的四端測(cè)量法[9],通過(guò)供給恒定直流電流的方式,加載待測(cè)電阻上,截取電阻兩端電壓進(jìn)行放大后,運(yùn)用歐姆定律直接計(jì)算出待測(cè)電阻阻值,由于該測(cè)量系統(tǒng)使用恒定直流電流驅(qū)動(dòng),無(wú)法克服低頻噪聲的干擾且放大倍數(shù)有限。改進(jìn)的測(cè)量方法加入?yún)⒖茧娮枧c待測(cè)電阻串聯(lián)后形成類(lèi)電橋方式,當(dāng)待測(cè)電阻與參考電阻很接近時(shí),待測(cè)電阻與參考電阻兩端電壓也很接近,此時(shí)差分信號(hào)可以進(jìn)行較大倍數(shù)的放大,但仍難以消除低頻噪聲的影響,并且要求參考電阻接近待測(cè)電阻的局限性。采用ZFCT參考比臂的方式[10],可以克服這種局限性,不要求兩者接近相等。主要是通過(guò)電流互感器[11]與瓦格納電路相結(jié)合,調(diào)整一次、二次繞組的匝數(shù),從而調(diào)節(jié)瓦格納電路使其達(dá)到近似平衡,實(shí)現(xiàn)待測(cè)電阻與參考電阻之間的電壓差值近似為0,保證后續(xù)差分信號(hào)的高倍放大,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)電阻的精確測(cè)量。由于該方法受調(diào)整檔位的限制,很難達(dá)到待測(cè)電阻連續(xù)變化條件下的平衡,且電路調(diào)節(jié)步驟較復(fù)雜,實(shí)時(shí)性差。
為此,本文提出一種雙激勵(lì)交流源驅(qū)動(dòng)與自平衡補(bǔ)償相結(jié)合的高精度阻值測(cè)量方法。該方法采用STM32F407單片機(jī)DAC轉(zhuǎn)換模塊[12],與雙三極管組成的復(fù)合管生成穩(wěn)定高效的可控交流源信號(hào),并通過(guò)差分處理與自平衡補(bǔ)償調(diào)節(jié)方法,一方面克服高低頻噪聲的影響,另一方面完成差動(dòng)信號(hào)高放大倍數(shù),最終實(shí)現(xiàn)高分辨的腐蝕速率實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。
腐蝕檢測(cè)系統(tǒng)采用電阻探針的原理是依據(jù)測(cè)量腐蝕過(guò)程中腐蝕金屬電阻變化從而求出其腐蝕量和腐蝕速率。在任何時(shí)刻,金屬導(dǎo)體的電阻與其長(zhǎng)度和電阻率成正比,與其橫截面積成反比,圖1為圓柱形的金屬絲。
圖1 簡(jiǎn)化金屬絲模型
(1)
式中:L為長(zhǎng)度;ρ為電阻率;S為橫截面積;d為金屬絲的直徑。
由式(1)可知,長(zhǎng)度一定的金屬材料在腐蝕減薄后其截面積會(huì)隨之減小,從而電阻增大。因此只需知金屬在腐蝕環(huán)境中其電阻的變化量,即可計(jì)算出金屬的減薄量,其計(jì)算公式為:
(2)
由此可以推導(dǎo)出t時(shí)刻金屬的腐蝕深度Ht為:
(3)
式中:R0、Rt為金屬絲初始阻值和t時(shí)刻金屬絲的電阻值;d0為金屬絲原始直徑;Ht為t時(shí)刻金屬的腐蝕深度。
對(duì)于2個(gè)時(shí)刻t1、t2之間金屬腐蝕深度的變化,可用公式(4)計(jì)算此期間內(nèi)金屬的腐蝕速率:
(4)
式中:v為金屬腐蝕速率;Ht1、Ht2為t1和t2時(shí)刻對(duì)應(yīng)金屬探針的腐蝕深度。
因此,通過(guò)檢測(cè)金屬絲的阻值變化,應(yīng)用式(3)計(jì)算在直徑方向上的腐蝕深度,則可間接反應(yīng)出金屬在腐蝕環(huán)境中的變化情況。由于金屬絲阻值本身很小,在腐蝕過(guò)程中產(chǎn)生的變化十分微小,故需設(shè)計(jì)微小電阻的測(cè)量系統(tǒng),且該系統(tǒng)還需具備對(duì)金屬阻值的高分辨測(cè)量能力。
針對(duì)ZFCT參考比臂測(cè)量法的不足,本文設(shè)計(jì)如圖2所示的同源雙激勵(lì)法進(jìn)行電阻測(cè)量。使用STM32F407單片機(jī)DAC1、DAC2模塊產(chǎn)生的電壓經(jīng)過(guò)V/R轉(zhuǎn)換電路,生成兩路穩(wěn)定可控的交流源Ii1、Ii2,交流源電流在參考電阻和待測(cè)電阻上形成可分辨的電位Uf、Um,將兩電壓信號(hào)分別引入差分放大電路,然后將差分放大信號(hào)送入STM32單片機(jī)12位A/D轉(zhuǎn)換器進(jìn)行數(shù)模轉(zhuǎn)換,經(jīng)過(guò)單片機(jī)內(nèi)部對(duì)相應(yīng)數(shù)據(jù)的處理,計(jì)算金屬對(duì)應(yīng)電阻值。則有
Uf=Ii2·Rref
(5)
Um=Ii1·Rm
(6)
圖2 雙激勵(lì)測(cè)量電路整體設(shè)計(jì)框圖
假設(shè)差分放大倍數(shù)為k,輸出為Vo,則有:
Vo=k(Uf-Um)=k(Ii2·Rref-Ii1·Rm)
(7)
那么
(8)
根據(jù)式(8)可知,若Ii1,Ii2已知,k為常數(shù),則Rm測(cè)量的誤差來(lái)源于Vo,假設(shè)由Vo引入的隨機(jī)誤差為δ,則對(duì)于Rm測(cè)量時(shí)的誤差為:
(9)
顯然,增大差分放大倍數(shù)k,一方面可以減小測(cè)量時(shí)的誤差,另一方面倍數(shù)大測(cè)量時(shí)的分辨力高。但在實(shí)際測(cè)量過(guò)程中放大倍數(shù)不可能無(wú)限大,因此在放大倍數(shù)k一定的情況下,為了最大程度上消除測(cè)量時(shí)的誤差,采用交流調(diào)制激勵(lì)的方式,可以盡量抑制噪聲與工頻干擾的影響,但在放大過(guò)程中,由于k過(guò)大,輸出較易飽和,為了消除飽和帶來(lái)測(cè)量分辨力不足的影響,采用軟件的方式調(diào)整DAC1或DAC2輸出電壓幅值大小,本設(shè)計(jì)是通過(guò)對(duì)DAC1也就是Ii1進(jìn)行調(diào)整,最終使得電路達(dá)到平衡狀態(tài),實(shí)現(xiàn)差動(dòng)信號(hào)的高放大倍數(shù)。
圖2所示的交流源電路的等效電路如圖3所示。該電路主要是由可控電壓源、待測(cè)電阻或參考電阻和集成運(yùn)算放大器與雙NPN型三極管共同組成的V/R轉(zhuǎn)換電路組成,其輸出電流幅值可以通過(guò)程序進(jìn)行控制。該電流源電路的核心設(shè)計(jì)原理:由單片機(jī)DAC1或DAC2模塊輸出的DDS信號(hào)[13]作為電路的外激電壓源,通過(guò)三極管正常工作下的特性與運(yùn)放負(fù)載電壓反饋,在精密電阻R0上產(chǎn)生壓降,則與該精密電阻相串聯(lián)的支路上就可以得到穩(wěn)定、高精度的可控交流源。
圖3中,VDAC為單片機(jī)DAC轉(zhuǎn)換模塊輸出的可調(diào)電壓源VDAC1或VDAC2;Q是由Q1、Q2組成的復(fù)合管,為了驅(qū)動(dòng)較大的電流,一般采用兩級(jí)的方式,能夠彌補(bǔ)單運(yùn)放驅(qū)動(dòng)大電流能力不足的缺陷;Rm、Rref為待測(cè)電路與參考電阻,其中IC等效為圖2所示的Ii1或Ii2。
根據(jù)NPN三極管、運(yùn)算放大器虛短、虛斷的特性,由圖3可得:
IE=IB+IC
(10)
(11)
(12)
則根據(jù)式(11)與式(12)可得Ii1=VDAC1/R0或Ii2=VDAC2/R0,從而可以得到對(duì)應(yīng)的Um、Uf:
Um=-Ii1·Rm+VCC
(13)
Uf=-Ii2·Rref+VCC
(14)
差分放大電路如圖4所示。將電壓信號(hào)Um、Uf引入至差分電路,通過(guò)運(yùn)算放大器與各電阻之間的數(shù)量關(guān)系,最終將包含金屬阻值的電壓信號(hào)進(jìn)行高倍數(shù)的放大,增強(qiáng)測(cè)試信號(hào)的信噪比。電路中引入的VCC是保證輸出信號(hào)的直流分量為1.65 V。
圖4 差分放大電路
由運(yùn)算放大器虛短、虛斷性質(zhì)可建立公式:
(15)
(16)
(17)
取R1=R3=64R2;R4=R5=R6=R7,則由式(15)~式(17)可以推導(dǎo)出:
Vo=129×(Ii1·Rm-Ii2·Rref)
(18)
那么
(19)
如果Ii1=Ii2,在腐蝕剛開(kāi)始階段,Rm值不改變,加載的2個(gè)交流源是依靠同一參考源的DDS信號(hào)轉(zhuǎn)換而來(lái),其攜帶的電源與各頻段的噪聲理論上是一致的,因此通過(guò)式(18)可以相互抵消。但腐蝕過(guò)程中由于Rm不斷變化,放大倍數(shù)k=129過(guò)大,會(huì)導(dǎo)致輸出Vo飽和。為了滿(mǎn)足高分辨力的要求,通過(guò)調(diào)整DAC1,改變Ii1電流幅值大小,通過(guò)式(18)能夠保證輸出信號(hào)放大不飽和。
理想情況下,輸出Vo應(yīng)滿(mǎn)足如下規(guī)律:當(dāng)Rm
從圖5可知輸出信號(hào)的解算需同時(shí)涉及到信號(hào)的幅值移與相位移。以激勵(lì)VDAC1為參考,輸出與VDAC1相差為0時(shí)設(shè)輸出為正,同理相差為180°時(shí)輸出為負(fù),電路平衡點(diǎn)為相差90°其輸出設(shè)為0,則差分輸出信號(hào)表示為
Vo=Ao·cosφ
(20)
式中:Ao為輸出信號(hào)的幅值;φ為輸出信號(hào)Vo與激勵(lì)VDAC1之間的相差。
自動(dòng)平衡補(bǔ)償流程如圖6所示,程序開(kāi)始運(yùn)行并初始化各功能后,使用STM32單片機(jī)A/D轉(zhuǎn)換模塊對(duì)激勵(lì)VDAC1以及輸出Vo進(jìn)行采集。判斷Vo與VDAC1之間的相位關(guān)系,通過(guò)程序?qū)i1進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)整,直到輸出信號(hào)與激勵(lì)DAC1之間的相差接近90°,實(shí)現(xiàn)電路自平衡補(bǔ)償調(diào)節(jié)。
通過(guò)單片機(jī)DAC模塊產(chǎn)生的正弦交流信號(hào),作為輸入信號(hào)VDAC1、VDAC2,其幅值分別為A1與A2,兩輸入信號(hào)的頻率均設(shè)定為1 kHz。對(duì)輸入信號(hào)VDAC1與輸出信號(hào)Vo通過(guò)同步模數(shù)轉(zhuǎn)換器(ADC)進(jìn)行采樣,并用數(shù)字正弦擬合處理數(shù)據(jù),得到其幅值比Ao/A1與相位差φo-φ1。
假設(shè)輸入信號(hào)的表達(dá)式為:
(21)
則輸出信號(hào)的表達(dá)式為
Vo=Aocos(φo-φ1)
(22)
(a)同相
(c)相差90°圖5 差分輸出與激勵(lì)DAC1相位關(guān)系圖
圖6 自動(dòng)平衡補(bǔ)償流程圖
式中:ω為角頻率;φ1、φ2分別為DAC1和DAC2輸入信號(hào)的初始相位,設(shè)定φ1=φ2;φo為輸出信號(hào)初始相位。
由于DAC2輸出值不變即擬合出的A2為常數(shù),故可令k1=A2·Rref,k2=R0/129,則待測(cè)電阻Rm計(jì)算公式可重新表示為
(23)
本設(shè)計(jì)使用的STM32F407單片機(jī)擁有3個(gè)分辨率為12位的逐次逼近型的ADC轉(zhuǎn)換模塊,采樣頻率能夠達(dá)到1 MHz以上。為對(duì)上述2個(gè)信號(hào)進(jìn)行同步采樣,故該系統(tǒng)采用雙重規(guī)則同步采樣模式,使用TIM更新事件觸發(fā),以及DMA數(shù)據(jù)傳送方式,將ADC轉(zhuǎn)換的數(shù)據(jù)依次傳送到STM32內(nèi)部SRAM。采樣方案如表1所示。為了保證系統(tǒng)良好的實(shí)時(shí)性,程序上采用邊采集邊處理的方式,且數(shù)據(jù)處理的時(shí)間為2 ms,。ADC采樣頻率設(shè)定為100 kHz,采樣周期為10 μs,則每個(gè)周期采樣100點(diǎn),每個(gè)通道采集8個(gè)周期,2個(gè)通道采集數(shù)據(jù)量為1 600點(diǎn),采樣時(shí)長(zhǎng)為8 ms。
表1 雙重AD采集方案
由式(23)可知,待測(cè)電阻阻值的計(jì)算與輸入和輸出之間的幅值比、相位差相關(guān),且為了實(shí)現(xiàn)自平衡的調(diào)整,需要得到信號(hào)的幅值與相位,采用如下的方法對(duì)采集的信號(hào)進(jìn)行正弦擬合,得到其幅值與相位信息。
設(shè)經(jīng)過(guò)AD采樣后的正弦函數(shù)的數(shù)學(xué)模型為:
Xi=Acos(Δi+φ0)+C+εi
(24)
式中:Xi為離散采樣數(shù)據(jù);i為采樣序列,i=0,1,2,3,…,n-1,n為采樣總長(zhǎng)度;A為幅值;Δ=2πfDAC1/fs,fDAC1為輸入信號(hào)的頻率,fs為采樣頻率;φ0為采樣信號(hào)的初始相位;εi為采樣誤差。
令a=A·cosφ0,b=-A·sinφ0,則式(24)可表示為
Xi=acosΔi+bsinΔi+C+εi
(25)
根據(jù)最小二乘線(xiàn)性擬合[14],a與b可表示為:
(26)
于是
(27)
將所求的幅值A(chǔ)與相位φ0帶入式(23),即可計(jì)算出待測(cè)電阻的阻值。
為了測(cè)試系統(tǒng)長(zhǎng)時(shí)間測(cè)量的穩(wěn)定性,對(duì)激勵(lì)與輸出信號(hào)輸出的電壓值進(jìn)行同步ADC采集,通過(guò)程序計(jì)算出兩者的幅值比與相位差,并保存這段時(shí)間的數(shù)據(jù),測(cè)試時(shí)長(zhǎng)為10 min。繪制出幅值比與相位差隨時(shí)間的變化曲線(xiàn),如圖7所示。
圖7 實(shí)測(cè)幅值比與相位差曲線(xiàn)圖
圖7中,在10 min內(nèi)測(cè)量輸出與輸入之間的幅值比與相位差的均值分別為1.172 3和1.004 6°,實(shí)際測(cè)量的幅值比波動(dòng)量小于0.003 8,相位差波動(dòng)量小于0.08°。通過(guò)曲線(xiàn)可以看出長(zhǎng)時(shí)間測(cè)量波形比較穩(wěn)定,無(wú)太多的跳躍變化,測(cè)量系統(tǒng)具有較強(qiáng)的穩(wěn)定性。
實(shí)驗(yàn)采用的金屬絲其相關(guān)參數(shù)為:長(zhǎng)度L= 0.1 m,直徑d=0.5 mm,電阻率ρ=3.49×10-7Ω·m(室溫25 ℃)。通過(guò)式(1)計(jì)算出金屬絲初始阻值為178 mΩ。以該金屬探針離線(xiàn)腐蝕在鹽霧箱內(nèi)的腐蝕測(cè)量數(shù)據(jù)為例,采集數(shù)據(jù)的時(shí)間間隔為24 h,以此反饋該時(shí)刻金屬探針阻值的變化。在7 d內(nèi)金屬探針離線(xiàn)測(cè)量的電阻值隨時(shí)間變化曲線(xiàn)如圖8(a)中Rt所示,從而根據(jù)式(3)推算出對(duì)應(yīng)時(shí)刻的腐蝕減薄量,其隨時(shí)間變化曲線(xiàn)如圖8(a)中Ht所示。從圖(a)中可以看出隨著時(shí)間的延長(zhǎng)腐蝕減薄量的增加近視于線(xiàn)性的關(guān)系。由式(4)可知,金屬的腐蝕速度等于每個(gè)時(shí)間間隔內(nèi)腐蝕深度的直線(xiàn)斜率,從而采用一元線(xiàn)性回歸方法對(duì)減薄量曲線(xiàn)進(jìn)行擬合,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖8(b)所示。擬合方程為H(t)=0.586 7t-0.125 6,則金屬絲的平均腐蝕速度為0.586 7 μm/d。
(a)腐蝕深度曲線(xiàn)
(b)腐蝕深度線(xiàn)性擬合曲線(xiàn)圖8 實(shí)驗(yàn)結(jié)果圖
在均勻腐蝕條件下,以h單位,則在金屬絲直徑方向上的分辨率為Δd=0.024 4 μm,通過(guò)質(zhì)量計(jì)算公式m=ρ′V,其質(zhì)量分辨率可由式(28)計(jì)算得到:
(28)
式中:Δm為金屬質(zhì)量分辨率;ρ′為金屬密度。
為了準(zhǔn)確計(jì)算其分辨力,首先需利用電子天平稱(chēng)重(精度為0.000 1 g),金屬絲的質(zhì)量為155 mg,從而計(jì)算出其密度為7.89 g/cm3,通過(guò)公式(28)可得金屬絲的質(zhì)量分辨率為30.24 μg。金屬探針質(zhì)量的變化最終體現(xiàn)在阻值上的變化,依據(jù)金屬阻值的計(jì)算公式得出該段時(shí)間內(nèi)阻值變化量,從而推算出其阻值的分辨力為17.35 μΩ。
結(jié)合STM32單片機(jī)技術(shù),通過(guò)其DAC轉(zhuǎn)換模塊與三極管相結(jié)合輸出穩(wěn)定可靠的可控交流源,并通過(guò)自平衡補(bǔ)償法消除測(cè)量時(shí)攜帶的干擾信號(hào),較大提升了阻值測(cè)量的分辨力。通過(guò)實(shí)驗(yàn)得到金屬絲腐蝕的速率為0.024 4 μm/h,在均勻腐蝕條件下金屬絲的阻值分辨力為17.35 μΩ,其質(zhì)量分辨率為30.24 μg。該測(cè)試系統(tǒng)電路簡(jiǎn)單,穩(wěn)定性高、具有較高的阻值分辨力,在腐蝕電阻探針?lè)矫婢哂泻芎玫膮⒖純r(jià)值。