陳 云,劉慶東
(云南錫業(yè)股份有限公司,云南 個(gè)舊 661000)
真空冶金是在低于標(biāo)準(zhǔn)大氣壓條件下進(jìn)行的冶金作業(yè)。在真空冶金技術(shù)的作用下能夠?qū)崿F(xiàn)大氣中無法進(jìn)行的冶金過程,防止金屬氧化,分離沸點(diǎn)不同的物質(zhì),除去金屬中的氣體或雜質(zhì),增強(qiáng)金屬中碳的脫氧能力,提高金屬和合金的質(zhì)量[1],是一種清潔、低能、無污染的冶金工藝,能高效地從金屬資源中提取有價(jià)金屬[2],早在1867年,世界上就公布了第一篇真空冶金的專利文獻(xiàn)。1917年建立了第一臺(tái)真空感應(yīng)爐,進(jìn)行小型的試驗(yàn)研究。1923年德國(guó)開始用真空感應(yīng)爐熔煉鎳基合金,1938年德國(guó)博丘姆·維爾恩(Bochum Veren) 鋼廠開始在工業(yè)生產(chǎn)中進(jìn)行液鋼的真空脫氣。到20世紀(jì)50~60年代,真空冶金開始用于有色金屬的還原、有色金屬及其合金的精煉、熔鑄[3],到70年代,昆明理工大學(xué)與云錫公司合作,率先在學(xué)校試驗(yàn)成功內(nèi)熱式多級(jí)連續(xù)蒸餾真空爐處理錫鉛合金,并于80年代推廣到各冶煉廠,真空蒸餾法的推廣,促進(jìn)了真空冶金在有色金屬冶煉領(lǐng)域中的應(yīng)用。
錫與鉛在真空條件下的分離,在實(shí)際生產(chǎn)過程中,錫中含有的待分離元素并不是簡(jiǎn)單的一種,為更好地指導(dǎo)生產(chǎn)工作和研究真空爐處理各種復(fù)雜錫原料技術(shù),對(duì)真空爐分離錫、鉛過程中其它元素的走向進(jìn)行分析就十分必要。
粗錫或焊錫中的錫和所含雜質(zhì)具有不同的沸點(diǎn),控制溫度在錫的沸點(diǎn)以下,在雜質(zhì)的沸點(diǎn)以上,可使雜質(zhì)揮發(fā)除去。各元素的沸點(diǎn)如表1。
表1 標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下各元素的沸點(diǎn)Tab.1 The boiling point of each element under standard atmospheric pressure ℃
從表1可以看出,如果將溫度控制在錫的沸點(diǎn)以下鉛的沸點(diǎn)以上,可使鉛、鉍、砷、銻揮發(fā)除去。采用真空蒸餾法,降低系統(tǒng)壓力,可以在比錫的沸點(diǎn)低得多的溫度下,使鉛、鉍、砷、銻的蒸氣壓力大于系統(tǒng)壓力而揮發(fā)出來。從各元素的沸點(diǎn)可知,由鐵到砷揮發(fā)率越來越大,所以控制適當(dāng)?shù)恼婵斩群蜏囟?,鉛、鉍、砷、銻能以氣態(tài)揮發(fā)出來,而鐵、銅則留在錫液中。
純金屬的蒸氣壓(p,單位Pa) 是真空蒸餾的理論根據(jù),它與溫度(T,單位K)的關(guān)系為:
lgp=AT-1+D
如果蒸發(fā)潛熱L隨溫度而變化時(shí),則可導(dǎo)出蒸氣壓與溫度關(guān)系的另一公式:
lgp=AT-1+BlgT+CT+D
以上兩式就是常用的物質(zhì)蒸氣壓與溫度的重要關(guān)系式。一些手冊(cè)中給出各種物質(zhì)的A、B、C、D值。根據(jù)有關(guān)資料給出的數(shù)據(jù),可以得出錫、鉛、鉍、砷、銻的蒸氣壓與溫度的關(guān)系式:
公式中1 Torr是指“將細(xì)直管內(nèi)的水銀頂高一毫米之壓力”,而標(biāo)準(zhǔn)大氣壓力可以將水銀升高 760 mm,故此將1 Torr定為標(biāo)準(zhǔn)大氣壓力的1/760倍。
錫、鉛、鉍、砷、銻純物質(zhì)的蒸氣壓與溫度(K) 的關(guān)系見表2。
表2 錫、鉛、鉍、砷、銻在不同壓強(qiáng)下的沸點(diǎn)Tab.2 The boiling point of tin,lead,bismuth,arsenic,antimony under the different intensity of pressure
從表2數(shù)據(jù)看出,錫、鉛、鉍、砷、銻在不同壓強(qiáng)下的沸點(diǎn)都相差很大。表明鉛、鉍、砷、銻可以與錫分離。在工業(yè)生產(chǎn)中,為了降低能耗,應(yīng)選擇盡可能低的真空度,但在工業(yè)實(shí)踐中,受真空泵本身能達(dá)到的極限真空度和抽速以及整個(gè)系統(tǒng)泄漏量的影響,通??刂普婵斩仍冢?.33~133) Pa 之間[4-6]。
在大多數(shù)錫冶煉廠真空爐所處理物料主要有兩種:①粗焊錫,其含Sn為65%左右,含Pb為33%左右,系粗錫精煉過程中,結(jié)晶除鉛鉍時(shí)產(chǎn)出;②高銻粗錫,其含Sn為85%左右,含Sb為3%~10%左右,系錫精煉生產(chǎn)過程中,加鋁除銻所產(chǎn)出的鋁渣,經(jīng)過電爐熔煉后產(chǎn)出,其典型的成分情況見表3。
表3 真空爐處理的粗焊錫主要成份Tab.3 Main composition of rough solder treated by vacuum furnace %
高銻粗錫典型的成份情況詳見表4。
表4 真空爐處理的高銻粗錫主要成份Tab.4 Main composition of high antimony crude tin treated by vacuum furnace %
從表4可以看出,在生產(chǎn)實(shí)踐中,真空爐所處理的物料較為復(fù)雜,無論粗焊錫或高銻粗錫的成份均波動(dòng)較大,且投入物料時(shí),為生產(chǎn)穩(wěn)定,各批次物料搭配入爐,為以生產(chǎn)實(shí)際情況相符,數(shù)據(jù)的比較,以平均含量為基礎(chǔ)。
生產(chǎn)中真空蒸餾控制的技術(shù)條件:真空爐真空度:小于30 Pa;爐內(nèi)溫度:處理粗焊錫(800~1 100) ℃,處理高銻粗錫 (900~1 200) ℃。
通過對(duì)真空蒸餾產(chǎn)物的分析、比較,可以直觀地看出經(jīng)過真空蒸餾錫中的各元素的分布情況。在生產(chǎn)實(shí)踐中,一般是通過產(chǎn)出的真空錫來進(jìn)行分析,結(jié)果見見表5、表6。
表5 處理粗焊錫產(chǎn)出真空錫主要化學(xué)成份Tab.5 Main chemical component of vacuum tin generated by rough solder treatment %
表6 處理高銻粗錫產(chǎn)出真空錫主要成份表Tab.6 Main composition of vacuum tin generated by high antimony crude tin treatment %
從表5、表6可以看出,在生產(chǎn)實(shí)踐中,真空爐所處理的物料較為復(fù)雜,真空蒸餾后產(chǎn)出的真空錫成份波動(dòng)較大。
按照工業(yè)實(shí)踐中實(shí)際投入產(chǎn)出計(jì)算得到真空蒸餾各元素的揮發(fā)率以及在真空錫中的富集率,見表7。
表7 各元素在真空蒸餾時(shí)的揮發(fā)率Tab.7 Volatilization rate of each element in process of vacuum distillation %
從表7可以看出,揮發(fā)率在30%以上的元素,依次為Pb、Bi、As、Sb等4個(gè)元素,Zn、Al、Ag的揮發(fā)率也達(dá)到了20%以上,與其他文獻(xiàn)研究真空爐分離這幾種元素時(shí)的揮發(fā)情況對(duì)比,控制條件接近的揮發(fā)情況也接近,控制條件不一樣的揮發(fā)情況也不一樣[7-8]。經(jīng)過真空蒸餾各元素在真空錫中的富集率見表8。
表8 各元素經(jīng)真空蒸餾后在真空錫中的富集率Tab.8 Enrichment ratio of each element in vacuum tin after vacuum distillation %
從表8可以看出,富集率在50%以上的元素,依次為 Fe、Cu、Sn、Ag、Al、Zn、Sb、As等 8 個(gè)元素,占10個(gè)元素中的80%。
為了進(jìn)一步分析高銻粗錫真空分離過程中爐內(nèi)各段情況,停爐時(shí)對(duì)蒸發(fā)盤內(nèi)遺留的物料和收集器內(nèi)物料分別進(jìn)行取樣化驗(yàn)。處理高銻粗錫物料期間,蒸發(fā)盤內(nèi)分別取第10、20、30、40盤各一盤,記錄分別為ZF1、ZF2、ZF3、ZF4化驗(yàn)結(jié)果見表9,并與投入物料進(jìn)行對(duì)比。
表9 處理高銻粗錫蒸發(fā)盤內(nèi)物料主要成分Tab.9 Main composition of materials in evaporating pan of high antimony crude tin treatment %
處理高銻粗錫物料期間,在真空爐收集器內(nèi)從上段和下段分別取樣化驗(yàn),化驗(yàn)結(jié)果見表10。
表10 處理高銻粗錫收集器內(nèi)物料主要成分Tab.10 Main composition of materials in collecting machine of high antimony crude tin treatment %
從表9、表10分析可知:①鉛、砷、鉍在進(jìn)爐不久便開始揮發(fā),到第30個(gè)蒸發(fā)盤已基本揮發(fā)完畢;②在前30個(gè)蒸發(fā)盤Sb揮發(fā)量很少,在最后10個(gè)蒸發(fā)盤才開始大量揮發(fā);③Cu、Fe高熔點(diǎn)的元素,從開始到最后始終停留在真空錫中,幾乎無揮發(fā);④真空爐爐內(nèi)揮發(fā)次序依次為Pb、As、Bi、Sb。從收集器內(nèi)物料成份看在收集器內(nèi)砷含量較高,其中,在上段積聚較多,砷含量達(dá)97.413%;Sb揮發(fā)后少部分積聚于上段,大部分積聚于下段。
通過以上對(duì)真空爐爐內(nèi)物料的分析,可以得到如下結(jié)論:
1) 在處理粗焊錫時(shí),除Pb、Bi以外其余元素大部分富集在真空錫中而沒有通過真空蒸餾與錫分離。而在處理高銻粗錫時(shí),由于控制的溫度較高,As和Sb可以通過真空蒸餾部分分離,但不徹底;
2) 貴金屬Ag在處理粗焊錫時(shí)揮發(fā)率低,處理高銻粗錫時(shí)揮發(fā)率大幅提高,進(jìn)一步提高爐內(nèi)溫度,會(huì)造成Ag進(jìn)入真空鉛,從而降低Ag在真空錫中的富集。