降宏瑜,姜曉峰,王志國(guó),孫鳳舉,魏 浩,樓 成,邱愛(ài)慈
(1. 強(qiáng)脈沖輻射環(huán)境模擬與效應(yīng)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安 710024; 2. 西安交通大學(xué) 電力設(shè)備與電氣絕緣國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安 710049)
為滿(mǎn)足Z箍縮慣性約束聚變點(diǎn)火及X射線(xiàn)強(qiáng)脈沖輻射環(huán)境模擬等研究的需要,迫切需建設(shè)電流數(shù)十兆安培、前沿百納秒、功率數(shù)百太瓦的脈沖功率驅(qū)動(dòng)源??熘本€(xiàn)變壓器驅(qū)動(dòng)源(linear transformer driver, LTD)被公認(rèn)為下一代大型脈沖功率源最有前景的新技術(shù)之一[1-9],得到了世界上多個(gè)國(guó)家的廣泛關(guān)注,研究人員開(kāi)展了大量關(guān)鍵技術(shù)研究[1-10]。LTD可直接從直流充電電容器只經(jīng)一級(jí)開(kāi)關(guān)產(chǎn)生高功率快脈沖;采用模塊化設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,參數(shù)調(diào)整靈活;電容器充放電均為并聯(lián)運(yùn)行,電壓疊加在次級(jí)實(shí)現(xiàn),初級(jí)絕緣要求低,能提高脈沖驅(qū)動(dòng)源的整體壽命與可靠性,具備重頻運(yùn)行潛力[2-4]。但大型LTD裝置包含數(shù)萬(wàn)至十幾萬(wàn)只氣體開(kāi)關(guān),對(duì)氣體開(kāi)關(guān)提出了低自放電概率、低觸發(fā)閾值、低抖動(dòng)、低電感、高可靠及長(zhǎng)壽命等要求[10]。其中,開(kāi)關(guān)低自放電概率是裝置穩(wěn)定運(yùn)行的前提,已成為 LTD 技術(shù)發(fā)展和工程應(yīng)用的瓶頸。
近年來(lái),國(guó)內(nèi)外研究人員對(duì)于LTD氣體開(kāi)關(guān)技術(shù)開(kāi)展了廣泛研究,在氣體開(kāi)關(guān)工作機(jī)制、擊穿特性、優(yōu)化設(shè)計(jì)等方面形成了系列研究成果。關(guān)于氣體開(kāi)關(guān)自放電,研究了結(jié)構(gòu)參數(shù)[11-13]、電極材料[14]、懸浮微粒[15-16]及表面形貌[17]等對(duì)開(kāi)關(guān)自擊穿特性的影響;通過(guò)開(kāi)關(guān)間隙電場(chǎng)優(yōu)化[18-19]、電極材料優(yōu)選[20]及絕緣支撐優(yōu)化設(shè)計(jì)[21]等提升開(kāi)關(guān)特性;提出了一系列輔助措施降低氣體開(kāi)關(guān)自放率,如通過(guò)等離子體噴射觸發(fā)實(shí)現(xiàn)開(kāi)關(guān)低工作系數(shù)下觸發(fā)導(dǎo)通[22],采用電阻均壓或電暈均壓實(shí)現(xiàn)多間隙氣體開(kāi)關(guān)間隙電壓均勻分配[23-25]等。
本文基于3維電磁仿真軟件,采用有限元計(jì)算方法,仿真研究了環(huán)形電極倒角半徑、截面參數(shù)和電極高度對(duì)氣體開(kāi)關(guān)間隙電場(chǎng)分布的影響,確定了優(yōu)化的環(huán)形電極結(jié)構(gòu)參數(shù),并設(shè)計(jì)了4間隙串聯(lián)氣體開(kāi)關(guān)。加工裝配了3只樣品氣體開(kāi)關(guān),實(shí)驗(yàn)研究了單只氣體開(kāi)關(guān)擊穿特性,并開(kāi)展了萬(wàn)發(fā)次觸發(fā)考核獲得了開(kāi)關(guān)自放率。批量試制了23只氣體開(kāi)關(guān),分別測(cè)試了自擊穿特性。將該批量開(kāi)關(guān)應(yīng)用于單級(jí)LTD模塊,連續(xù)運(yùn)行303發(fā)次,測(cè)試獲得了模塊自放率。
多間隙氣體開(kāi)關(guān),是在正負(fù)極兩端加電的高壓電極之間,設(shè)置多個(gè)中間電極,將主間隙分隔為多個(gè)短間隙串聯(lián),電場(chǎng)分布比長(zhǎng)單間隙電場(chǎng)分布更加均勻,可提升自擊穿特性;單個(gè)間隙距離減小,且只有觸發(fā)間隙工作在外觸發(fā)狀態(tài),其他間隙在過(guò)電壓下逐個(gè)擊穿,可降低觸發(fā)閾值[26]。此外,電極采用環(huán)形電極結(jié)構(gòu),利用觸發(fā)間隙首先放電產(chǎn)生的紫外光,通過(guò)觸發(fā)電極的中空通孔照射自擊穿間隙產(chǎn)生初始電子,減小擊穿抖動(dòng)[27]。
本文在低電感3電極氣體開(kāi)關(guān)[28]基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn),采用4間隙串聯(lián)結(jié)構(gòu),以降低開(kāi)關(guān)自放率。開(kāi)關(guān)間隙距離為6 mm,絕緣外殼外徑為89 mm,內(nèi)徑為54 mm。環(huán)形電極外徑為36 mm,其余結(jié)構(gòu)參數(shù),如內(nèi)徑、截面參數(shù)及電極高度等,根據(jù)電場(chǎng)仿真計(jì)算結(jié)果確定。
根據(jù)氣體擊穿理論,氣體間隙中的電場(chǎng)分布是氣體間隙擊穿特性的主要影響因素。開(kāi)關(guān)放電間隙的電場(chǎng)分布對(duì)開(kāi)關(guān)的自擊穿穩(wěn)定性、觸發(fā)閉合時(shí)延及抖動(dòng)等性能都有決定性的影響[18]。在開(kāi)關(guān)放電間隙結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,一般將電場(chǎng)不均勻系數(shù)f作為主要參數(shù),表示為[29]
(1)
其中:Emax為間隙最大電場(chǎng)強(qiáng)度;Eav為間隙平均電場(chǎng)強(qiáng)度,是間隙壓降U與間隙距離d之比[13]。氣體開(kāi)關(guān)間隙一般采用稍不均勻的電場(chǎng),如電場(chǎng)不均勻系數(shù)過(guò)大,擊穿點(diǎn)過(guò)于集中,將會(huì)加劇電極局部區(qū)域的燒蝕程度,不利于延長(zhǎng)開(kāi)關(guān)的壽命,同時(shí)擊穿電壓偏低,需增加間隙距離來(lái)提高開(kāi)關(guān)工作電壓,使開(kāi)關(guān)高度增加,電感增大;如電場(chǎng)不均勻系數(shù)過(guò)小,電場(chǎng)分布過(guò)于均勻,將降低間隙擊穿電壓穩(wěn)定性[30]。因此電場(chǎng)不均勻系數(shù)f的選取,需在二者之間平衡,既能保證開(kāi)關(guān)靜態(tài)擊穿電壓的穩(wěn)定性,又可延長(zhǎng)開(kāi)關(guān)的放電壽命。
利用3維電磁仿真軟件,建立環(huán)形電極計(jì)算模型。利用有限元計(jì)算方法,對(duì)不同倒角半徑r的環(huán)形電極進(jìn)行了靜電場(chǎng)仿真分析,確定最佳倒角半徑。設(shè)定環(huán)形電極內(nèi)徑為12 mm,倒角半徑r分別為1,2,3,4,5,6 mm,其中,r=6 mm時(shí),電極截面弧線(xiàn)部分為半圓形。上下兩電極電位分別設(shè)置為40 kV和0。倒角半徑不同時(shí)的環(huán)形電極間隙截面電場(chǎng)分布,如圖1所示。
圖1 倒角半徑不同時(shí)的環(huán)形電極間隙截面電場(chǎng)分布Fig.1 Electric field distribution under different bend radius of ring electrode
其中,以下電極右半截面與間隙的分界線(xiàn)中點(diǎn)為0點(diǎn),該分界線(xiàn)上與0點(diǎn)之間的長(zhǎng)度為x,讀取電極表面電場(chǎng)強(qiáng)度,分界線(xiàn)的終點(diǎn)為弧線(xiàn)部分做切線(xiàn)垂直于0點(diǎn)法向的點(diǎn)。
圖2為倒角半徑不同時(shí)間隙截面電場(chǎng)仿真計(jì)算結(jié)果。由圖2(a)可見(jiàn):受電極環(huán)形結(jié)構(gòu)影響,0點(diǎn)左右兩側(cè)表面電場(chǎng)強(qiáng)度并不對(duì)稱(chēng),電場(chǎng)強(qiáng)度最大處在0點(diǎn)右側(cè);隨著倒角半徑r的增大,電場(chǎng)強(qiáng)度最大處由倒角邊緣逐漸向0點(diǎn)移動(dòng)。
為定量描述電極表面電場(chǎng)集中的程度,定義電場(chǎng)集中系數(shù)c為
(2)
其中:lh為電極截面電場(chǎng)強(qiáng)度高于間隙平均電場(chǎng)強(qiáng)度的長(zhǎng)度;lt為電極截面分界線(xiàn)兩端終點(diǎn)之間的距離。c可一定程度上反映電極表面易放電的面積占比,作為選取間隙電場(chǎng)結(jié)構(gòu)參數(shù)的參考。
圖2(b)為電場(chǎng)不均勻系數(shù)f和電場(chǎng)集中系數(shù)c隨倒角半徑r的變化關(guān)系。由圖2(b)可見(jiàn),f逐漸由1.62降低至1.16,c由0.9降低至0.25。r為5,6 mm時(shí),f的值基本相等,但r為6 mm時(shí),c值更小,有利于放電集中,降低放電分散性,故環(huán)形電極倒角半徑r選為6 mm,即半圓截面。
(a) Electric field strength on surface
(b) f and c vs.r圖2 倒角半徑不同時(shí)間隙截面電場(chǎng)仿真計(jì)算結(jié)果Fig.2 Simulation results of gap electric field under the different bend radius
環(huán)形電極選用半圓截面,對(duì)不同內(nèi)徑下間隙截面電場(chǎng)強(qiáng)度進(jìn)行了計(jì)算。半圓截面半徑R分別取4,5,6,7 mm,此時(shí)環(huán)形電極內(nèi)徑依次為20,16,12,8 mm,不同半圓截面半徑時(shí)的環(huán)形電極間隙截面電場(chǎng)強(qiáng)度分布,如圖3所示。
圖3 不同半圓截面半徑時(shí)的環(huán)形電極間隙截面電場(chǎng)強(qiáng)度分布Fig.3 Electric field strength distribution under differenthalf-circle section radius of ring electrode
讀取電極表面電場(chǎng)強(qiáng)度,計(jì)算了電場(chǎng)不均勻系數(shù)f和電場(chǎng)集中系數(shù)c。圖4為不同半圓截面半徑時(shí)的環(huán)形電極間隙截面電場(chǎng)仿真計(jì)算結(jié)果。由圖4(a)可見(jiàn),隨著R的增大,f和c均減小,但R=7 mm時(shí),環(huán)形電極中心通孔過(guò)小,不利于觸發(fā)間隙產(chǎn)生的紫外光透射到自擊穿間隙,故R值選定為6 mm,即環(huán)形電極內(nèi)徑為12 mm。
(a) Electric field strength on surface
(b) f and c vs.R圖4 環(huán)形電極不同半圓截面半徑下間隙截面電場(chǎng)仿真計(jì)算結(jié)果Fig.4 Simulation results of gap electric field under the different half-circle section radius of ring electrode
在確定環(huán)形電極內(nèi)徑的基礎(chǔ)上,將半圓截面改為橢圓截面,進(jìn)一步改善電場(chǎng)分布。橢圓截面長(zhǎng)半徑a為6 mm保持不變,短半徑b為2~6 mm時(shí),進(jìn)行電場(chǎng)仿真,其中b為6 mm時(shí)為半圓截面。短半徑不同時(shí)環(huán)形電極橢圓截面的間隙截面電場(chǎng)分布,如圖5所示。短半徑不同時(shí)環(huán)形電極橢圓截面的間隙電場(chǎng)仿真計(jì)算結(jié)果,如圖6所示。計(jì)算f與c時(shí),b的間隔取0.2 mm。由圖6(a)可見(jiàn),短半徑b為2 mm時(shí),電場(chǎng)強(qiáng)度最大處在截面邊緣。由圖6(b)可見(jiàn),隨著短半徑b的增大,f由1.06逐漸增大至1.16,c由0.44逐漸降低至0.25。截面參數(shù)的選取,需平衡f與c的值,故選定短半徑b為3.8 mm,此時(shí)f為1.11,c為0.34。
圖5 短半徑不同時(shí)環(huán)形電極橢圓截面的間隙截面電場(chǎng)分布Fig.5 Electric field distribution under different elliptic section short radius of ring electrode
(a) Electric field strength on surface
(b) f and c vs.b圖6 短半徑不同時(shí)環(huán)形電極橢圓截面的間隙電場(chǎng)仿真計(jì)算結(jié)果Fig.6 Simulation results of gap electric field under the different elliptic section short radius of ring electrode
在開(kāi)關(guān)整體高度不變,間隙距離確定的情況下,電極高度將影響開(kāi)關(guān)各間隙的電壓分配,因此,需根據(jù)開(kāi)關(guān)整體結(jié)構(gòu)的電場(chǎng)仿真結(jié)果選取。建立4間隙氣體開(kāi)關(guān)3維電磁模型,上下高壓電極電位設(shè)定為±80 kV,觸發(fā)電極設(shè)定為地電位,兩個(gè)中間電極電位懸浮,電極高度h分別為21,23,25,27,29 mm,進(jìn)行電場(chǎng)仿真。其中,h=23 mm時(shí)開(kāi)關(guān)截面電場(chǎng)分布如圖7所示。電極高度不同時(shí),開(kāi)關(guān)間隙截面電場(chǎng)強(qiáng)度如圖8所示。
圖7 h=23 mm時(shí)開(kāi)關(guān)截面電場(chǎng)分布Fig.7 Electric field strength distribution of switch at h=23 mm
圖8 電極高度不同時(shí),開(kāi)關(guān)間隙截面電場(chǎng)強(qiáng)度Fig.8 Electric field strength of switch gap under different h
為定量描述開(kāi)關(guān)各間隙截面電場(chǎng)強(qiáng)度分布的差異,定義電場(chǎng)強(qiáng)度差異系數(shù)δ為
(3)
電極高度h分別為21,23,25,27,29 mm時(shí),計(jì)算得到電場(chǎng)的差異系數(shù)δ分別為0.039,0.005,0.034,0.076,0.122。由此可見(jiàn),電極高度h為23 mm時(shí),間隙電壓均勻分配,利于提升開(kāi)關(guān)自擊穿特性。
依據(jù)電場(chǎng)仿真結(jié)果,確定環(huán)形電極的外徑為36 mm,內(nèi)徑為12 mm,高度為23 mm,橢圓截面短半徑為3.8 mm,設(shè)計(jì)了4間隙氣體開(kāi)關(guān),圖9為開(kāi)關(guān)剖面圖。開(kāi)關(guān)整體為圓柱形,外徑為89 mm,高度為152 mm。絕緣外殼為圓筒形,中平面開(kāi)有1個(gè)觸發(fā)連接孔和1個(gè)充放氣孔。位于中平面的觸發(fā)電極和2個(gè)中間電極通過(guò)3個(gè)絕緣柱,頂在外殼內(nèi)壁的圓弧坑里。上下高壓電極分別通過(guò)8個(gè)螺釘和2個(gè)卡環(huán)配合緊固在絕緣外筒兩端,主電極與絕緣外殼之間裝有密封圈。箍環(huán)將開(kāi)關(guān)固定在放電支路電容器上。觸發(fā)電極通過(guò)觸發(fā)桿與觸發(fā)電纜連接。電極采用不銹鋼,箍環(huán)材料采用鋁合金,絕緣外殼采用有機(jī)玻璃,其余絕緣件材料為尼龍。
1- insulation shell;2-high-voltage electrodes;3-snap ring;4-intermediate electrode;5-trigger electrode;6-trigger rod;7-trigger connector;8-insulating post;9-hoop圖9 4間隙氣體開(kāi)關(guān)剖面圖Fig.9 Cutaway view of the four-gap gas switch
單只開(kāi)關(guān)的擊穿特性實(shí)驗(yàn)在高功率氣體開(kāi)關(guān)特性實(shí)驗(yàn)平臺(tái)[20,28]開(kāi)展,采用功率為5.8 GW的放電支路,包含2只±100 kV/100 nF電容器和1個(gè)低電感水電阻負(fù)載,模擬氣體開(kāi)關(guān)在模塊中的實(shí)際工況,氣體采用0級(jí)空氣。在充電電壓為±80 kV時(shí),開(kāi)關(guān)觸發(fā)電壓和放電電流波形如圖10所示。由圖10可見(jiàn),觸發(fā)波形峰值為160 kV,前沿為15 ns,支路放電電流峰值為48 kA。延時(shí)tdelay定義為觸發(fā)電壓起始時(shí)刻與放電電流起始時(shí)刻之差,抖動(dòng)tjitter定義為50發(fā)觸發(fā)實(shí)驗(yàn)延時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)偏差[20]。
圖10 當(dāng)充電電壓為±80 kV時(shí)開(kāi)關(guān)典型觸發(fā)電壓與放電電流波形Fig.10 Typical waveforms of the discharge current and the trigger voltage when the charging voltage is ±80 kV
加工裝配了3只樣品開(kāi)關(guān),均在氣壓p為0.3 MPa下老練500發(fā),該氣壓下開(kāi)關(guān)自擊穿電壓Ub約為±90 kV。測(cè)試了開(kāi)關(guān)在氣壓為0.17,0.21,0.26,0.29 MPa下的自擊穿特性,如圖11所示。其中自擊穿電壓Ub為50發(fā)的平均值。由圖11可見(jiàn),3只氣體開(kāi)關(guān)自擊穿特性一致性較好,自擊穿電壓Ub隨氣壓p的增加保持線(xiàn)性增加關(guān)系,由擬合曲線(xiàn)可得開(kāi)關(guān)自擊穿電壓Ub與充氣氣壓p的關(guān)系為
Ub=37.86+495.7p
(4)
式(4)中,當(dāng)p為0.26,0.29 MPa時(shí),3只開(kāi)關(guān)自擊穿電壓Ub為170 ,180 kV,標(biāo)準(zhǔn)偏差均小于4 kV,分散性(標(biāo)準(zhǔn)偏差與自擊穿電壓之比)小于3%。
圖11 不同氣壓下開(kāi)關(guān)的自擊穿特性Fig.11 Self-breakdown characteristics of switches under different air pressures
開(kāi)關(guān)在工作電壓為±80 kV時(shí),進(jìn)行了觸發(fā)電壓為160 kV,工作系數(shù)分別為0.65,0.70,0.75,0.80時(shí)的觸發(fā)實(shí)驗(yàn),開(kāi)關(guān)工作系數(shù)定義為
(5)
其中,U為氣體開(kāi)關(guān)的工作電壓。因此當(dāng)開(kāi)關(guān)工作系數(shù)確定時(shí),對(duì)應(yīng)的氣壓p可由式(4)與式(5)計(jì)算得到。圖12為開(kāi)關(guān)延時(shí)及抖動(dòng)隨工作系數(shù)的變化關(guān)系。由圖12可見(jiàn),開(kāi)關(guān)的抖動(dòng)小于3 ns。
(a) tdelay vs. k
(b) tjittervs. k圖12 開(kāi)關(guān)延時(shí)及抖動(dòng)隨工作系數(shù)的變化關(guān)系Fig.12 Switching delay and jetter vs. working coefficient
開(kāi)展氣體開(kāi)關(guān)10 000次觸發(fā)考核測(cè)試其自放率。在工作系數(shù)為0.70時(shí),觸發(fā)10 321,9 906,10 027發(fā),得到開(kāi)關(guān)觸發(fā)考核延時(shí)如圖 13所示。由圖13可見(jiàn),3只開(kāi)關(guān)的延時(shí)分別為42.6,37.1,37.5 ns,抖動(dòng)分別為2.08,1.77,1.75 ns,發(fā)生自放的次數(shù)分別為0,2,3次,開(kāi)關(guān)自放率小于0.03%。
(a) FGGS-1
(b) FGGS-2
(c) FGGS-3圖13 開(kāi)關(guān)觸發(fā)考核延時(shí)Fig.13 Delay time vs. shot number during triggering test
批量試制了23只開(kāi)關(guān),與前述自擊穿特性測(cè)試步驟相同,分別進(jìn)行老練500發(fā)后,測(cè)試不同氣壓下的自擊穿特性。批量開(kāi)關(guān)在氣壓為0.26 MPa時(shí)自擊穿電壓及分散性,如圖14所示。
(a) Ub
(b) Dispersion圖14 批量開(kāi)關(guān)在氣壓為0.26 MPa時(shí)自擊穿電壓及分散性Fig.14 Self-breakdown voltage and dispersion of batch switch at p=0.26 MPa
由圖14可見(jiàn),23只開(kāi)關(guān)自擊穿電壓Ub并不完全一致,這由于批量加工裝配具有固有偏差,Ub最大值為176.8 kV,最小值為160.6 kV,平均值為168.7 kV,標(biāo)準(zhǔn)偏差為4.3 kV。每只開(kāi)關(guān)的自擊穿電壓分散性均小于3%。
將經(jīng)過(guò)老練和測(cè)試的23只開(kāi)關(guān)安裝于兆安量級(jí)氣體絕緣單級(jí)LTD模塊[8],分別與2只100 nF塑殼電容器組成主放電支路。圖15為兆安量級(jí)氣體絕緣單級(jí)LTD模塊示意圖。模塊直徑d為2 290 mm,高度為346 mm,初級(jí)腔體采用SF6氣體絕緣。24個(gè)放電支路沿圓周輪輻狀布置,其中23個(gè)支路為主放電支路,1個(gè)支路為觸發(fā)支路。圖16為4間隙氣體開(kāi)關(guān)安裝于LTD模塊中的實(shí)物圖。主放電支路開(kāi)關(guān)從1#到23#編號(hào)。
圖15 兆安量級(jí)氣體絕緣單級(jí)LTD模塊示意圖Fig.15 Gas-insulated mega-ampere-class LTD module
圖16 4間隙氣體開(kāi)關(guān)安裝于LTD模塊實(shí)物圖Fig.16 Four-gap gas switch installed in LTD module
模塊充電電壓為±80 kV,工作系數(shù)為0.65,充電完成耐壓3 s后觸發(fā),每發(fā)更換氣體,每3發(fā)去磁,連續(xù)運(yùn)行303發(fā),每發(fā)放電負(fù)載電流峰值如圖17所示。
圖17 模塊連續(xù)運(yùn)行303發(fā)負(fù)載電流峰值Fig.17 Peak load current during continuous operation of 303 shots
模塊工作狀態(tài)共7種,分別是:(1)去磁后正常觸發(fā)100發(fā);(2)去磁后第2發(fā)正常觸發(fā)99發(fā);(3)去磁后第3發(fā)正常觸發(fā)100發(fā);(4)主支路氣體開(kāi)關(guān)充電過(guò)程中自放1發(fā);(5)觸發(fā)支路氣體開(kāi)關(guān)自放0發(fā);(6)主支路氣體開(kāi)關(guān)充電完成耐壓過(guò)程中自放3發(fā);(7)其他異常0發(fā)。其中,前3種狀態(tài)是模塊正常發(fā)次,共299發(fā)。模塊第107發(fā)在升壓過(guò)程中自放,自放開(kāi)關(guān)為18#,第177,197,226發(fā)耐壓1 s以上自放后正常觸發(fā),自放開(kāi)關(guān)分別為12#,4#,23#,可見(jiàn)4次開(kāi)關(guān)自放電是隨機(jī)出現(xiàn)的,測(cè)試得到模塊自放率為1.32%。
如模塊中氣體開(kāi)關(guān)發(fā)生自放電是獨(dú)立事件,則模塊的自放電概率PLTD表示為
PLTD=1-(1-Pswitch)n
(6)
其中,Pswitch為開(kāi)關(guān)自放電概率;n為模塊中開(kāi)關(guān)個(gè)數(shù),對(duì)于本模塊n=23。若Pswitch等于開(kāi)關(guān)萬(wàn)發(fā)次考核的自放率0.03%,則計(jì)算得到模塊在工作系數(shù)為0.7時(shí),自放電概率PLTD=0.69%。工作系數(shù)為0.65時(shí),自放電概率理論上應(yīng)比0.69%更小,但實(shí)測(cè)為1.32%。模塊自放率實(shí)測(cè)值比計(jì)算值偏大,一方面可能的原因是模塊中開(kāi)關(guān)自放電為非獨(dú)立事件,存在相互耦合的因素,另一方面也可能由于開(kāi)關(guān)在充電完成后的耐壓時(shí)間較長(zhǎng),導(dǎo)致開(kāi)關(guān)自放率升高。
本文開(kāi)展了氣體開(kāi)關(guān)間隙電場(chǎng)仿真研究,分析了環(huán)形電極倒角半徑、電極內(nèi)徑、橢圓截面短半徑及電極高度對(duì)間隙電場(chǎng)分布的影響,通過(guò)讀取電極表面電場(chǎng)強(qiáng)度,計(jì)算出電場(chǎng)不均勻系數(shù)和電場(chǎng)集中系數(shù),平衡二者的值。降低電場(chǎng)差異系數(shù),確立了優(yōu)化的環(huán)形電極結(jié)構(gòu)參數(shù)。
研制了4間隙氣體開(kāi)關(guān),工作電壓為±80 kV,工作系數(shù)為0.70時(shí),單只開(kāi)關(guān)自放率小于0.03%;自擊穿電壓為±80 kV時(shí),批量23只氣體開(kāi)關(guān)分散性均小于3%;充電電壓為±80 kV,工作系數(shù)為0.65時(shí),LTD模塊連續(xù)運(yùn)行303發(fā)次,模塊自放率為1.32%。
下一步計(jì)劃對(duì)LTD模塊進(jìn)行更多發(fā)次的測(cè)試考核,給出更多發(fā)次實(shí)驗(yàn)下的自放率,同時(shí)開(kāi)展批量開(kāi)關(guān)擊穿特性一致性研究,用于制定氣體開(kāi)關(guān)篩選標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范,為L(zhǎng)TD大批量氣體開(kāi)關(guān)的應(yīng)用奠定基礎(chǔ)。