王晨鳳,曹 陽
北京信息科技大學儀器科學與光電工程學院,北京 100192
寬譜光電探測器旨在獲取目標發(fā)射或反射的紫外、可見光、紅外等各個波段的電磁波信息,用以在各種環(huán)境下準確地識別和分析目標,廣泛應用于成像、醫(yī)學診斷、遙感、夜視、環(huán)境監(jiān)測、人工智能等領域。目前的寬譜光電探測器主要是硅光電探測器,但因硅的禁帶寬度為1.12 eV,導致硅探測器對于波長大于1100 nm 的光基本不吸收,無法探測波長大于1100 nm的電磁波,不能實現(xiàn)真正意義上的寬譜光探測。
石墨烯是一種有潛力的寬譜光探測材料,光學性質方面,由于其獨特的零帶隙[1,2]能帶結構,使其具有從紫外至太赫茲的超寬譜光吸收能力,而在電學性質方面,常溫下載流子遷移率高達2.0×105cm2·V-1·s-1,約為硅電子遷移率的140倍[3],使其具有超快的傳導能力。石墨烯優(yōu)異的光學、電學性質使其成為下一代高頻、超快響應、寬光譜光電探測器件的理想材料。還原氧化石墨烯(reduced graphene oxide,RGO)是利用化學的氧化還原方法制備的一種非本征石墨烯,是將石墨先氧化并超聲剝離成氧化石墨烯(graphene oxide,GO),再對GO進行還原得到的產(chǎn)物[4-6]。在性質方面,RGO不僅具有與本征石墨烯相似的光學和電學特性,而且還具有優(yōu)于本征石墨烯的獨特性質,如RGO的能帶結構[7]、半導體類型[8]和功函數(shù)[9]均可以調(diào)控。在制備方面,RGO來自溶液制備,成本低、產(chǎn)量高,而且RGO作為“建筑模塊”可以組裝成二維、三維結構,為制備多種結構的器件提供了可能性。最近,RGO作為光敏材料的紫外、可見光、近紅外、中紅外、太赫茲的室溫探測器均有報道[10-14],證實了RGO室溫下可實現(xiàn)寬譜光探測。但是,已報道的大部分RGO光電探測器都是有襯底的,襯底的表面聲子對RGO產(chǎn)生的光生載流子有明顯的冷卻作用,顯著降低了探測器的響應率,僅為每瓦十幾毫安級別,制約了探測器的實際應用。本研究組報道了基于自支撐RGO薄膜的懸浮型光電探測器,徹底消除了襯底的不利影響,實現(xiàn)了每瓦百余毫安級別的響應率[15],比傳統(tǒng)的有襯底的RGO探測器的響應率提高了1個數(shù)量級。盡管如此,受到RGO自身的光吸收率低、載流子壽命短的影響,探測器的響應率仍未達到實際應用水平,需進一步提高。
作為二維過渡金屬硫族化合物的成員之一的二硫化鉬(MoS2),其具有可調(diào)控的禁帶寬度,表現(xiàn)出高效的寬譜光吸收特性,且具有超薄的層狀結構[16],與之同樣具有二維層狀結構的RGO通過范德華力緊密堆疊,利于MoS2中產(chǎn)生的光生載流子高效轉移到RGO內(nèi),并通過RGO傳輸至電極,形成光電流。
因此,本文將MoS2的高效寬譜光吸收特性與RGO的高效輸運特性相結合,設計并制備了在自支撐RGO薄膜的上表面、下表面分別滴涂MoS2納米片形成的MoS2-RGO-MoS2復合薄膜。這種雙面修飾MoS2納米片的RGO自支撐薄膜屬首創(chuàng),尚未見報道。雙面修飾MoS2納米片的獨特結構不僅可以利用上表面的MoS2吸收入射光,還可以利用下表面的MoS2吸收透射光,實現(xiàn)了對入射光、透射光的兩次光吸收,提高了探測器的響應率。
以石墨(北京市紅星化工廠)為原料,采用改進的Hummers方法[17]制得GO粉末,制備過程參見文獻[18]。MoS2納米片分散液(濃度2 mg/mL),江蘇先豐納米材料科技有限公司產(chǎn)品,使用時用乙醇稀釋為0.2 mg/mL。
使用帶有積分球的UV-Vis-NIR分光光度計(Cary 5000, Agilent, USA),記錄純RGO薄膜和MoS2-RGO-MoS2復合薄膜在波長200~2000 nm范圍內(nèi)的吸收光譜。利用場發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM,HITACHI S-4800,JPN)對RGO薄膜和MoS2-RGO-MoS2復合薄膜進行形貌表征。使用場發(fā)射透射電子顯微鏡(TEM,JEM-2100F,JPN)表征GO和 MoS2的形貌與晶型。利用顯微共焦激光拉曼光譜儀(inVia-Reflex, Renishaw, U.K.),選取波長532 nm激發(fā)光,表征GO薄膜和RGO薄膜的拉曼光譜。
1.2.1MoS2-RGO-MoS2薄膜的制備
首先,將GO粉末分散于乙醇中,通過超聲處理得到濃度為2 mg/mL的GO懸濁液。然后,將GO懸濁液分成幾次滴涂在聚四氟乙烯(PTFE)基底上,每次滴涂前需在60 ℃ 烘箱中干燥1~2 min,再進行下一次滴涂,共滴涂400 μL,滴涂完成后在空氣中干燥24 h,便可從PTFE基底上剝離GO薄膜,獲得自支撐GO薄膜。對GO薄膜進行熱還原,在95%Ar + 5%H2混合氣體下,混合氣體流量為50 SCCM(standard cubic centimeter per minute),溫度為200 ℃,熱處理3 h,經(jīng)此熱還原后得到自支撐RGO薄膜。在RGO薄膜的上表面、下表面,分別滴涂濃度為0.2 mg/mL的MoS2納米片分散液75 μL,制得MoS2-RGO-MoS2復合薄膜。
1.2.2懸浮型光電探測器的制備
采用真空熱蒸鍍的方法,通過掩膜,在MoS2-RGO-MoS2復合薄膜表面沉積Au叉指電極(叉指電極間距為200 μm,指寬為200 μm),再將沉積電極后的薄膜固定于中空的有機玻璃凹槽上,使薄膜處于懸浮狀態(tài),最后用銀膠將叉指電極的兩端與銅線結合以進行電測量。探測器的制備流程如圖 1所示,MoS2-RGO-MoS2復合薄膜的懸浮型光電探測器結構如圖 2所示。
圖1 MoS2-RGO-MoS2復合薄膜的懸浮型光電探測器的制備過程
圖2 MoS2-RGO-MoS2復合薄膜的懸浮型光電探測器結構示意圖
1.2.3光電探測器性能測試方法
所有測試均在室溫空氣中進行。將器件安裝在二維位移臺上,二維位移臺在水平和垂直方向各有一個千分尺,通過沿水平和垂直方向調(diào)整二維位移臺可精確調(diào)控激光光斑照射到器件表面的位置。通過電磁快門(SSH-C2B,OptoSigma)實現(xiàn)照明的開啟和關閉。使用多種中性密度濾光片組合,對激光功率進行不同程度的衰減,實現(xiàn)對照射到器件表面的激光功率的調(diào)控。使用Keithley 2400 Source Meter為器件提供1 V偏壓,同時測量回路中的電流。
2.1.1GO的微觀形貌與微觀結構
單片GO的TEM圖像(圖3)表明,GO厚度很薄,并且由于石墨烯本身很容易折疊,GO表面有褶皺(圖3a),其高分辨圖像進一步表明GO片具有較好的晶格結構,(002)晶面的晶面間距為0.33 nm(圖3b)。
圖3 GO的TEM圖像
2.1.2GO薄膜和RGO薄膜的拉曼光譜
由GO片懸濁液滴涂形成的GO薄膜,經(jīng)熱還原轉變?yōu)镽GO薄膜。GO薄膜和RGO薄膜的拉曼光譜如圖4所示,GO薄膜和RGO薄膜在1348 cm-1和1590 cm-1處均有兩個強烈的特征峰,分別對應于石墨烯的D峰和G峰,經(jīng)熱還原后,D峰和G峰的強度比(ID/IG)明顯增大,意味著熱還原使每個sp2雜化區(qū)域的尺寸減小,但增加了sp2雜化區(qū)域的數(shù)量,利于提高薄膜的導電性[19,20]。
圖4 GO薄膜和RGO薄膜的拉曼光譜
2.1.3MoS2的微觀形貌與微觀結構
MoS2納米片的TEM圖像(圖5)表明,納米片尺寸不均一,從幾十納米至幾百納米(圖5a),其高分辨圖像進一步表明MoS2納米片具有良好的晶格結構,(100)晶面的晶面間距為0.27 nm(圖5b)。
圖5 MoS2納米片的TEM圖像
2.1.4RGO薄膜與MoS2-RGO-MoS2薄膜的形貌
RGO薄膜與MoS2-RGO-MoS2薄膜的形貌如圖6所示。純RGO薄膜表面光潔但有褶皺(圖6a),滴涂MoS2納米片后,納米片均勻地分散在RGO薄膜表面(圖 6b),并且,由于MoS2和RGO都是二維層狀結構,二者通過范德華力緊密貼合,從圖中可以看出MoS2納米片均是平鋪式貼合于RGO表面。MoS2納米片在RGO薄膜表面的密集程度可以通過改變滴涂的次數(shù)來調(diào)整。
圖6 薄膜表面的SEM圖像
2.1.5RGO薄膜和MoS2-RGO-MoS2薄膜的吸收光譜
純RGO薄膜和MoS2-RGO-MoS2復合薄膜的紫外-可見光-近紅外吸收光譜(圖7)表明,從紫外(波長200 nm)至近紅外(波長2000 nm)的全譜段,“MoS2-RGO-MoS2復合薄膜”比“純RGO薄膜”具有更高的光吸收率。其中,200~780 nm的紫外-可見光區(qū)域,光吸收率平均提高2.62%;波長800~2000 nm的近紅外區(qū)域,光吸收率平均提高5.72%,光吸收率提高主要歸因于MoS2納米片的光吸收作用。此外,圖7也表明,MoS2-RGO-MoS2復合薄膜和純RGO薄膜的光吸收率變化趨勢相似,都表現(xiàn)出光吸收率隨著波長的增加而降低,也就是說,兩種薄膜均對高能量的光子的吸收能力強,對低能量的光子的吸收能力弱。
圖7 RGO薄膜和MoS2-RGO-MoS2薄膜的紫外-可見光-近紅外吸收光譜
2.2.1響應率
響應率表示探測器將單位光功率轉換成電信號的大小,它代表了探測器將入射光信號轉換成電信號的能力,是探測器性能的一個重要指標。式(1)為某一波長下的響應率Rλ的計算公式。
(1)
式中,Iph代表光電流,其值為光照時的亮電流(Ilight)和無光照時的暗電流(Idark)之差,即Iph=Ilight-Idark。Pin代表入射光的功率。
由圖8a可以看出,MoS2-RGO-MoS2探測器和RGO探測器的響應率的變化趨勢相似,隨著入射光功率的增大,探測器響應率減小,當光功率達到1 mW以上時,探測器的響應率值變化很小,趨于穩(wěn)定。在各種光功率下,MoS2-RGO-MoS2探測器的響應率均明顯高于RGO探測器的響應率,例如,在功率為0.15 mW的光照下,MoS2-RGO-MoS2探測器和RGO探測器的響應率分別為1006 mA/W和484 mA/W,MoS2-RGO-MoS2探測器的響應率是RGO探測器的響應率的2.1倍,響應率達A/W級別,達到了可實用化的水平。響應率提高主要歸功于“MoS2-RGO-MoS2”的獨特結構不僅可以利用上表面的MoS2吸收入射光,還可以利用下表面的MoS2吸收透射光,實現(xiàn)了對入射光、透射光的兩次光吸收,MoS2兩次吸光后產(chǎn)生的光生載流子均進入RGO薄膜中進行傳導,成為有效光電流,使總光電流比純RGO探測器明顯增大,同時,由于MoS2的導電性遠弱于RGO,使MoS2-RGO-MoS2探測器的暗電流比RGO探測器的暗電流更低。因此,修飾MoS2后可以提高探測器的響應率。
2.2.2響應速度
當入射光照射在探測器表面時,探測器的光生電流不會立即達到最大值,同時,當入射光照停止時,探測器的電流也不會瞬間減小到暗電流值,都需要一個弛豫過程,被稱為光電探測器的光響應暫態(tài)效應。響應速度是描述探測器對入射光信號響應快慢的物理量,是探測器性能的另一個重要指標。響應速度包括上升時間trise和下降時間tdecay,上升時間和下降時間的分別定義為光電流Iph從穩(wěn)態(tài)最大值的10%上升到90%和從穩(wěn)態(tài)最大值的90%下降到10%所用的時間。在測量響應速度時,通過使用電磁快門定時打開和遮擋入射光,實現(xiàn)探測器有光照和無光照兩種狀態(tài)的一定頻率的切換,同時,使用Keithley 2400 Source Meter實時記錄探測器回路中的電流信號,得到探測器的電流-時間曲線,扣除探測器的暗電流后,得到探測器的光電流-時間(Iph-t)曲線,如圖8b所示。從圖8的Iph-t曲線中可知RGO光電探測器的上升時間和下降時間分別為179 ms和142 ms,MoS2-RGO-MoS2光電探測器的上升時間和下降時間分別為147 ms和159 ms,兩者相比,MoS2-RGO-MoS2光電探測器的上升時間更短,比RGO探測器快32 ms,其下降時間比RGO探測器慢17 ms,總體看,在響應速度方面,MoS2-RGO-MoS2光電探測器和RGO光電探測器差別不大。
圖8 RGO探測器和MoS2-RGO-MoS2探測器性能對比
2.2.3寬譜探測
進一步研究MoS2-RGO-MoS2光電探測器的寬譜探測性能。分別選取紫外波段375 nm,可見光波段532 nm、633 nm,近紅外波段808 nm、1064 nm、1550 nm,6種不同波長的激光作為入射光,在相同測試條件下,記錄RGO光電探測器和MoS2-RGO-MoS2光電探測器的光電流-時間曲線,如圖9所示??梢钥闯觯谧贤?、可見光、近紅外波段的各種波長光照下,MoS2-RGO-MoS2探測器的光電流均明顯高于RGO光電探測器,由式(1)可知,MoS2-RGO-MoS2探測器的響應率均高于RGO光電探測器(表1),其中,對波長1064 nm的近紅外的響應率提高最為顯著,達到2.2倍。
圖9 各種波長下RGO光電探測器和MoS2-RGO-MoS2光電探測器的光電流-時間曲線對比
表1 RGO光電探測器和MoS2-RGO-MoS2光電探測器的響應率對比
本文將MoS2的高效寬譜光吸收特性與RGO的高效輸運特性相結合,設計并制備了RGO薄膜的上表面和下表面均修飾MoS2納米片的自支撐MoS2-RGO-MoS2復合薄膜,并基于該薄膜制得懸浮型MoS2-RGO-MoS2光電探測器。MoS2-RGO-MoS2的獨特結構尚未見報道,該結構不僅可以利用上表面的MoS2吸收入射光,還可以利用下表面的MoS2吸收透射光,實現(xiàn)了對入射光、透射光的兩次光吸收,提高了探測器的響應率。通過MoS2-RGO-MoS2光電探測器和RGO光電探測器的性能對比發(fā)現(xiàn),從紫外(375 nm)至近紅外(1550 nm)寬光譜范圍內(nèi),MoS2-RGO-MoS2光電探測器的響應率均明顯高于RGO光電探測器,最高可達1006 mA/W,達到了A/W級別的實用化水平,對探測器的實際應用具有重要意義。