趙 巖, 馬新會, 鄭遠(yuǎn)馨, 夏云生, 任冬梅, 郭新聞
(1.渤海大學(xué) 化學(xué)化工學(xué)院,遼寧 錦州 121013;2.大連理工大學(xué) 化工學(xué)院 精細(xì)化工國家重點實驗室,遼寧 大連 116024)
對二甲苯(PX)是重要的有機化工原料,主要用于生產(chǎn)對苯二甲酸(PTA),進而生產(chǎn)滌綸,中國是全球最大的對二甲苯生產(chǎn)國和消費國,每年仍需大量進口對二甲苯。作為目前“原油-對二甲苯-對苯二甲酸-滌綸”全產(chǎn)業(yè)鏈的重要一環(huán),對二甲苯的穩(wěn)定供給對整個聚酯產(chǎn)業(yè)鏈的健康發(fā)展至關(guān)重要。然而,基于中國“多煤少油”的國情,旨在緩解對二甲苯高進口依存度的國家“十三五”規(guī)劃中對二甲苯自給率要求到2020年達到 65%~70%,開發(fā)煤基甲苯(T)-甲醇(M)甲基化增產(chǎn)對二甲苯工藝備受關(guān)注。與甲苯歧化增產(chǎn)對二甲苯工藝相比,甲苯-甲醇甲基化增產(chǎn)對二甲苯工藝具有甲苯消耗少、甲醇轉(zhuǎn)化高、副產(chǎn)苯極少、固定投資少的特點,因此該工藝極具競爭優(yōu)勢。自中孔分子篩ZSM-5發(fā)明以來[1],因具有獨特的孔道結(jié)構(gòu)[2],其在甲苯甲基化的研究歷程中起到了重要的作用,起初小晶粒的H-ZSM-5并未表現(xiàn)出對二甲苯選擇性,而采用大晶粒[3]和經(jīng)磷鎂化物改性的ZSM-5產(chǎn)生了擇形性[4]。甲苯甲基化的初次產(chǎn)物通常被認(rèn)為是鄰二甲苯和對二甲苯,擴散出孔道以后在外表面的酸中心上再異構(gòu)化后產(chǎn)生間二甲苯。如果ZSM-5外表面有數(shù)量足夠多、強度足夠大的酸中心,則傾向于生成熱力學(xué)平衡組成的混合二甲苯。因此,多數(shù)旨在提高對二甲苯選擇性的ZSM-5催化劑設(shè)計策略均圍繞削弱晶粒外表面酸中心的數(shù)量和強度來展開[5-6]。無論是制備成核殼結(jié)構(gòu)的催化劑[7-13],還是堿土金屬氧化物改性的H-ZSM-5 都能大幅提高對位選擇性[14-16],尤其含鎂鹽復(fù)合改性的ZSM-5催化劑表現(xiàn)出很高的對位選擇性[17-28]。然而鎂鹽溶液在浸漬過程中除了覆蓋外表面酸中心,還會充滿全部孔隙,雖然MgO物種可縮窄微孔道,有利于分子動力學(xué)直徑更小的對二甲苯擴散而提高其選擇性,但由于孔內(nèi)活性中心大量被MgO覆蓋,活性損失較大,由此可見,抑制對二甲苯擴散性能可提高其對位選擇性[29-30],但要以犧牲其活性為代價。筆者提出一種新的選擇改性方法——分子占位選擇修飾法,該方法選擇對二甲苯作為占位分子,其具有如下優(yōu)勢:(1)對二甲苯尺寸與微孔孔徑相近;(2)對二甲苯與水不互溶;(3)對二甲苯不會造成催化劑中毒;(4)晶粒外表面吸附的對二甲苯方便除去;(5)易于放大生產(chǎn);(6)對二甲苯便于回收再利用;(7)對二甲苯方便易得,相對安全環(huán)保。另外,采用MgO選擇性修飾ZSM-5晶粒外表面和精調(diào)孔口,可最大限度地保護微孔內(nèi)部的活性中心免于被鎂物種所覆蓋。由于外表面利于對二甲苯異構(gòu)化的酸中心得到充分的修飾,很好地抑制了擴散出來的對二甲苯再次異構(gòu)為間/鄰位異構(gòu)體,從而提高對二甲苯選擇性。
水玻璃,CR,沈陽精奧格助劑有限公司產(chǎn)品;鋁酸鈉,AR,淄博同潔化工有限公司產(chǎn)品;氯化鈉,AR,天津大茂化學(xué)試劑廠產(chǎn)品;硫酸(質(zhì)量分?jǐn)?shù)98%)、正丁胺,AR,中國醫(yī)藥集團上海試劑公司產(chǎn)品;硝酸銨,AR,天津福晨化工試劑廠產(chǎn)品;乙酸鎂、甲醇、對二甲苯,AR,天津市科密歐化學(xué)試劑有限公司產(chǎn)品;甲苯,CR,烏魯木齊石油化工總廠產(chǎn)品;去離子水,自制。
1.2.1 H-ZSM-5的制備
合成原料按配比的加入量分別為:水玻璃(w(SiO2)=26.9%,w(Na2O)=7.5%) 27.65 kg、硫酸鋁1.66 kg、氯化鈉2.62 kg、98%硫酸2.06 kg、正丁胺2.22 kg和去離子水11.65 kg。按專利技術(shù)[31]在100 L高壓反應(yīng)釜中攪拌晶化,80 ℃晶化24 h,170 ℃再晶化48 h。降溫、卸釜、抽濾、120 ℃ 下烘干4 h,540 ℃下焙燒4 h,制得Na-ZSM-5 分子篩,再用0.4 mol/L的硝酸銨水溶液交換3次后,在120 ℃下烘干4 h,540 ℃下焙燒4 h,再在700 ℃下用水蒸氣處理1 h,得到H-ZSM-5 分子篩樣品。
1.2.2 選擇修飾MgO-ZSM-5的制備
以H-ZSM-5為母體,采用對二甲苯分子占位選擇修飾其外表面制備MgO-ZSM-5催化劑,其制備過程遵循圖1所示的流程:第Ⅰ步,取100 g H-ZSM-5(水質(zhì)量分?jǐn)?shù)約為8%)在350 ℃下鼓風(fēng)干燥2 h;第Ⅱ步,將干燥的H-ZSM-5顆粒置入2 L高壓釜抽真空脫氣1 h;第Ⅲ步,注入過量的對二甲苯作為占位劑,使PX剛好浸沒H-ZSM-5顆粒并靜置1 h;第Ⅳ步,待PX吸附飽和后取出PX-H-ZSM-5 顆粒,濾除多余PX,將PX-H-ZSM-5顆粒置入80 ℃的烘箱鼓風(fēng)干燥1 h,用來脫附PX-H-ZSM-5 顆粒外表面吸附的PX,此時微孔和晶間介孔仍保留PX,該步驟十分關(guān)鍵,烘干溫度不可過高;第Ⅴ步,加入乙酸鎂(Mg(CH3COO)2·4H2O)分別為16.08、32.16、48.24 g)水溶液88 mL,使其完全浸潤ZSM-5顆粒,此時ZSM-5微孔內(nèi)充滿PX,乙酸鎂溶液無法進入微孔,1 h后放入150 ℃ 的烘箱鼓風(fēng)干燥2 h制得僅有外表面被Mg修飾的Mg-ZSM-5,此時微孔內(nèi)的PX基本被脫除;第Ⅵ步,在540 ℃下焙燒4 h后制得MgO選擇性修飾ZSM-5外表面的催化劑樣品,命名為ES-wMgO-ZSM-5。所制備3種催化劑樣品的MgO理論負(fù)載量(質(zhì)量分?jǐn)?shù),下同)分別為3%、6%、9%,經(jīng)XRF分析其實際MgO負(fù)載量分別為2.96%、5.92%、8.83%。
(1) PX is adsorbed in mesoporous and microporous;(2) PX is adsorbed in microporous圖1 對二甲苯(PX)占位選擇修飾法制備MgO-ZSM-5的流程圖Fig.1 The preparation process of selective modifiedMgO-ZSM-5 by placeholder of p-xylene (PX)
在經(jīng)歷Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ 3個步驟后,烘干溫度提高到120 ℃(第Ⅵ步,目的是脫附外表面和晶間介孔吸附的PX,暴露出可被MgO修飾的酸中心,該步驟同樣十分關(guān)鍵,烘干溫度不可過高,如超過140 ℃時會脫除全部PX);第Ⅴ步,引入乙酸鎂水溶液(m(Mg(CH3COO)2·4H2O)= 64.32 g,m(H2O)=23.7 g),浸漬1 h后,再經(jīng)過第Ⅸ步制得外表面和晶間介孔均被MgO修飾的催化劑樣品,命名為ESMP-wMgO-ZSM-5,其MgO理論負(fù)載量為12%,經(jīng)XRF分析其實際MgO負(fù)載量為10.62%(實際MgO負(fù)載量低于其理論負(fù)載量較多的原因是由于PX占據(jù)了微孔道所致,且12%已經(jīng)超出常壓下MgO在ZSM-5表面和晶間介孔內(nèi)的負(fù)載閾值(約為10.58%))。
1.2.3 常壓制備非選擇修飾MgO-ZSM-5[31]
以干燥后w(H2O)=0.2%的H-ZSM-5顆粒為母體,區(qū)別于選擇修飾法,在第Ⅰ步鼓風(fēng)烘干后不再真空脫氣,從烘箱取出冷風(fēng)降溫后直接加入乙酸鎂水溶液等體積浸漬H-ZSM-5顆粒,最后再經(jīng)烘干(第Ⅴ步)和焙燒(第Ⅵ步)制得ZSM-5晶??椎纼?nèi)部和外表面均被MgO均勻改性的MgO-ZSM-5催化劑樣品,命名為ATP-wMgO-ZSM-5,其MgO理論負(fù)載量為12%,經(jīng)XRF分析其實際MgO負(fù)載量為11.04%(接近常壓下MgO在ZSM-5全孔隙內(nèi)的負(fù)載閾值(約為11.1%))。
1.2.4 負(fù)壓制備非選擇修飾MgO-ZSM-5
以干燥后w(H2O)=0.2%的H-ZSM-5顆粒為母體,區(qū)別于選擇修飾法,在第Ⅱ步真空脫氣后不加入對二甲苯占位劑,直接加入乙酸鎂水溶液等體積浸漬H-ZSM-5,體系保持負(fù)壓,然后再經(jīng)第Ⅴ和Ⅵ兩步制得孔內(nèi)被MgO深度改性的MgO-ZSM-5催化劑樣品,命名為NP-wMgO-ZSM-5,其MgO理論負(fù)載量為12%。經(jīng)XRF分析其實際MgO負(fù)載量為11.78%(超出常壓下MgO在ZSM-5全孔隙內(nèi)的負(fù)載閾值(約為11.1%))。
采用德國Bruker公司生產(chǎn)的SRS 3400型X射線熒光光譜儀(XRF)測定ZSM-5分子篩上改性劑MgO含量。采用日本理學(xué)D/Max2400 X-射線衍射儀分析催化劑的晶相結(jié)構(gòu),CuKα射線,管電壓20 kV,掃描范圍選取2θ為5°~50°,掃描速率為5 °/min。采用美國Quantachrome公司的AUTOSORB-1型物理吸附儀通過低溫N2靜態(tài)吸附法測定催化劑的BET比表面積和孔體積。采用美國Quantachrome公司生產(chǎn)的CHEMBET 3000型化學(xué)吸附儀進行NH3-TPD測試,N2流率為20 mL/min,升溫速率為10 ℃/min,溫度范圍為100~465 ℃。采用德國Bruker公司生產(chǎn)的EQUINOX55型紅外光譜儀(分辨率為4 cm-1) 進行吡啶吸附的Py-FT-IR光譜分析,待測樣品研磨成粉末后壓成自撐片(質(zhì)量約為8 mg、直徑約為10 mm),放入紅外池中,于460 ℃脫氣3 h左右,然后冷卻至25 ℃,吸附吡啶至飽和,分別于150 ℃和460 ℃脫附后,冷卻至25 ℃ 掃描。
采用連續(xù)流動固定床反應(yīng)器進行MgO-ZSM-5催化劑甲苯甲基化反應(yīng)性能評價實驗,具體工藝條件為:反應(yīng)溫度460 ℃,n(T)/n(M)=2/1(摩爾比),系統(tǒng)壓力p=0.2 MPa(表壓),n(N2)∶n(H2O)∶n(T+M)=2∶2∶1(摩爾比),甲苯和甲醇質(zhì)量空速MHSV=2 h-1。采用安捷倫GC 6890分析油相產(chǎn)物,配INNOWAX色譜柱(60 m×0.32 mm×0.5 μm)、FID檢測器。采用上海天美GC 7890氣相色譜分析尾氣,配GDX-103填充柱(2 m×4 mm),F(xiàn)ID檢測器。甲苯轉(zhuǎn)化率和對二甲苯選擇性計算公式如式(1)和式(2)所示。
x(T)=[1-n(T)/n(A)]×100%
(1)
s(PX)=n(PX)/n(X)×100%
(2)
式中:x(T)為甲苯轉(zhuǎn)化率,%;n(T)為產(chǎn)物中甲苯物質(zhì)的量,mol;n(A)為產(chǎn)物中總芳烴物質(zhì)的量,mol;s(PX)為對二甲苯選擇性,%;n(PX)為產(chǎn)物中對二甲苯物質(zhì)的量,mol;n(X)為產(chǎn)物中總二甲苯物質(zhì)的量,mol。
H-ZSM-5和4種方法改性的MgO-ZSM-5催化劑的甲苯甲基化反應(yīng)性能結(jié)果如圖2所示。從圖2可以看出:小晶粒H-ZSM-5的對二甲苯選擇性僅為26%,與對二甲苯在混合二甲苯中的熱力學(xué)平衡組成(約為24%)相近[32];當(dāng)采用MgO改性后,隨著MgO負(fù)載量的增加,所用4種改性方式制備的MgO-ZSM-5催化劑在甲苯甲基化反應(yīng)中甲苯轉(zhuǎn)化率均降低,對二甲苯選擇性均大幅提高;但對二甲苯選擇性與MgO負(fù)載量并未呈現(xiàn)規(guī)律性的變化,表明不同改性方式對提高對二甲苯選擇性的影響不同。對于MgO選擇修飾ZSM-5外表面制備的催化劑ES-2.96%MgO-ZSM-5、ES-5.92%MgO-ZSM-5和ES-8.83%MgO-ZSM-5,隨MgO負(fù)載量增加,對二甲苯選擇性由49.4%升至92.6%,甲苯轉(zhuǎn)化率從36.3%降至33.6%,盡管ES -8.83%MgO-ZSM-5上MgO負(fù)載量只有8.83%,但對二甲苯選擇性卻是7種催化劑樣品中最高的;而選擇修飾外表面和介孔制備的ESMP-10.62%MgO-ZSM-5上,對二甲苯選擇性為85.2%,甲苯轉(zhuǎn)化率降至30.5%。常壓浸漬法制備的ATP-11.04%MgO-ZSM-5上,對二甲苯選擇性為83.4%,甲苯轉(zhuǎn)化率為28.7%。負(fù)壓浸漬法制備的NP-11.78%MgO-ZSM-5上,對二甲苯選擇性僅有68.3%,甲苯轉(zhuǎn)化率降至24.5%。上述結(jié)果表明,改性方法對MgO-ZSM-5催化甲苯甲基化反應(yīng)產(chǎn)物對二甲苯選擇性和甲苯轉(zhuǎn)化率均有較大影響。
Each experimental data (x(T) or s(PX)) is theaverage value of the 50 h reaction time.(1) H-ZSM-5; (2) ES-2.96%MgO-ZSM-5;(3) ES-5.92%MgO-ZSM-5; (4) ES-8.83%MgO-ZSM-5; (5) ESMP-10.62%MgO-ZSM-5; (6) ATP-11.04%MgO-ZSM-5;(7) NP-11.78%MgO-ZSM-5圖2 不同改性方法制備的MgO-ZSM-5在催化甲苯甲基化中的甲苯轉(zhuǎn)化率(x(T))和對二甲苯選擇性(s(PX))Fig.2 Conversion of toluene (x(T)) or selectivity ofp-xylene (s(PX)) of MgO-ZSM-5 modifiedwith different methods in toluene methylationReaction conditions: T=460 ℃; n(T)/n(M)=2/1;p=0.2 MPa; MHSV=2 h-1;n(H2O)/n(T+M)=n(N2)/n(T+M)=2/1
2.2.1 MgO-ZSM-5的晶相結(jié)構(gòu)對其甲苯甲基化反應(yīng)性能的影響
H-ZSM-5及MgO-ZSM-5分子篩的XRD譜圖如圖3所示。由圖3可以看出:MgO改性前后ZSM-5特征衍射峰半峰寬均較寬,且在衍射角2θ為20°~30°范圍內(nèi)的3個特征峰沒有發(fā)生裂分,說明晶粒都很小,處于納米級,且6個MgO-ZSM-5分子篩仍保持典型的MFI拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。當(dāng)采用對二甲苯占據(jù)ZSM-5粒子微孔和晶間介孔后用MgO修飾ZSM-5外表面時,在MgO負(fù)載量低于8.83%的ES-2.96%MgO-ZSM-5 和ES-5.92%MgO-ZSM-5的譜圖中沒有發(fā)現(xiàn)MgO物種衍射峰,說明MgO粒子高分散在晶粒外表面且粒徑很小,能夠較好地抑制對二甲苯在外表面的異構(gòu)化,從而提高其選擇性;提高MgO負(fù)載量的ES-8.83%MgO-ZSM-5,在2θ為42°~43°處出現(xiàn)MgO晶相的衍射峰,說明此負(fù)載量基本達到閾值,此時ZSM-5粒子外表面酸中心已被MgO粒子充分修飾,很好地抑制了從微孔內(nèi)擴散出來的對二甲苯的異構(gòu)化反應(yīng),從而提高其選擇性。ESMP-10.62%MgO-ZSM-5的MgO負(fù)載量比ES-8.83%MgO-ZSM-5高很多,其對應(yīng)的MgO衍射峰強度也相應(yīng)增強,但其對二甲苯選擇性卻不如ES-8.83%MgO-ZSM-5,說明采用對二甲苯占位微孔道后,引入的MgO有一部分進入晶間介孔,其余的修飾了外表面酸中心并微調(diào)了孔口,可見ESMP-10.62%MgO-ZSM-5外表面的酸中心修飾程度低于ES-8.83%MgO-ZSM-5, 因此對二甲苯選擇性降低。但當(dāng)采用常壓浸漬和負(fù)壓浸漬后,盡管MgO負(fù)載量都有所提高,但MgO對應(yīng)的衍射峰強度卻有所降低,說明大量MgO物種沉積到微孔深處且粒徑較小、分散度較高,外表面酸中心修飾不夠充分,對位選擇性較低。
(1) H-ZSM-5; (2) ES-2.96%MgO-ZSM-5;(3) ES-5.92%MgO-ZSM-5; (4) ES-8.83%MgO-ZSM-5; (5) ESMP-10.62%MgO-ZSM-5; (6) ATP-11.04%MgO-ZSM-5;(7) NP-11.78%MgO-ZSM-5圖3 H-ZSM-5及MgO-ZSM-5分子篩的XRD譜圖Fig.3 XRD patterns of H-ZSM-5 and MgO-ZSM-5 zeolites
2.2.2 MgO-ZSM-5的比表面積和孔體積對其甲苯甲基化反應(yīng)性能的影響
表1為H-ZSM-5及MgO-ZSM-5分子篩的比表面積和孔體積。由表1可以看出,對采用MgO選擇修飾ZSM-5外表面制備的ES -2.96%MgO -ZSM-5、ES-5.92%MgO-ZSM-5、ES -8.83%MgO -ZSM-5,隨著MgO負(fù)載量的增加,外比表面積降幅較大,而微孔表面積和孔體積幾乎沒變,說明鎂物種僅覆蓋在外表面和孔口邊緣,沒有進入到晶間介孔和微孔內(nèi)部,因此微孔比表面積和孔體積幾乎沒有受到影響,高活性得以保持。對采用MgO選擇修飾ZSM-5外表面和晶間介孔制備的ESMP-10.62%MgO-ZSM-5,與ES-8.83%MgO-ZSM-5相比,盡管MgO負(fù)載量更多,但外比表面積和微孔表面積均有所增加,微孔體積小幅下降而總孔體積大幅下降,說明有大量MgO沉積到晶間介孔,覆蓋部分活性中心,同時外表面MgO沉積量低于ES-8.83%MgO-ZSM-5,因此表面異構(gòu)作用比ES-8.83%MgO-ZSM-5強,致使對二甲苯選擇性下降,活性也有所降低。與ES-8.83%MgO-ZSM-5 相比,常壓浸漬法制備的ATP-11.04%MgO-ZSM-5的微孔比表面積大幅降低,而外比表面積大幅升高,說明外表面酸中心裸露更多,因此對二甲苯選擇性降低幅度更大,微孔體積和總孔體積大幅降低,說明MgO大量進入微孔,因此活性降低幅度也更大。對于負(fù)壓浸漬制備的NP-11.78%MgO-ZSM-5,除外比表面積降幅較小外,微孔比表面積和微孔體積在7種催化劑樣品中降幅最大,說明有更多的鎂物種進入到微孔和晶間介孔,因此活性降幅也最大,而其外比表面積在所有樣品中僅比ES-8.83%MgO-ZSM-5略高,然而其對二甲苯選擇性卻最低,說明影響對二甲苯選擇性的因素不僅是外表面的酸性位,擴散的擇形作用也不可忽略。
2.2.3 MgO-ZSM-5的酸性質(zhì)對其甲苯甲基化反應(yīng)性能的影響
H-ZSM-5及不同改性方法制備的MgO-ZSM-5分子篩催化劑的NH3-TPD表征結(jié)果如圖4所示。由圖4可以看出:7種樣品在125~250 ℃和250~400 ℃ 范圍均出現(xiàn)了2個大的脫附峰,分別對應(yīng)催化劑的弱酸中心和強酸中心;而高于400 ℃時沒有出現(xiàn)明顯的脫附峰,表明催化劑沒有更強的酸中心。由圖4還可見,隨著MgO負(fù)載量的增加,強酸量逐漸降低,而弱酸量逐漸增加且強度緩慢降低,這說明在甲苯甲基化反應(yīng)中起催化作用的主要是弱酸中心而非強酸中心。從催化效果來看,催化劑反應(yīng)活性似乎隨著強酸量減少而降低,然而ATP-11.04%MgO-ZSM-5 和NP-11.78%MgO-ZSM-5的強酸量極為接近且很少,而NP-11.78%MgO-ZSM-5的活性更低,說明決定活性的不僅是酸量,還有擴散因素。因為NP-11.78%MgO -ZSM-5 焙燒分解后大量MgO物種沉積到介孔和微孔內(nèi)部,會造成微孔道局部縮窄甚至堵塞,嚴(yán)重影響反應(yīng)物分子的內(nèi)擴散,致使未被MgO覆蓋的活性中心也難以發(fā)揮作用,使得活性降低;而局部阻塞造成的擴散受阻相當(dāng)于縮短了產(chǎn)物分子的擴散路徑,削弱了對二甲苯的動力學(xué)擇形優(yōu)勢,同時外表面酸中心裸露比例更大,這雙重因素疊加的效果使得對二甲苯選擇性大幅降低。
表1 H-ZSM-5及MgO -ZSM-5分子篩的比表面積和孔體積Table 1 Specific surface areas and pore volumes of H-ZSM-5 and MgO -ZSM-5 zeolites
(1) H-ZSM-5; (2) ES-2.96%MgO-ZSM-5;(3) ES-5.92%MgO-ZSM-5; (4) ES-8.83%MgO-ZSM-5; (5) ESMP-10.62%MgO-ZSM-5; (6) ATP-11.04%MgO-ZSM-5;(7) NP-11.78%MgO-ZSM-5圖4 H-ZSM-5及MgO -ZSM-5分子篩的NH3-TPD譜圖Fig.4 NH3-TPD profiles of H-ZSM-5 andMgO -ZSM-5 zeolites
甲苯甲基化是B酸催化苯環(huán)甲基上的鄰/對位親電取代反應(yīng),吡啶吸附FT-IR可以區(qū)分酸類型,其分析結(jié)果如圖5所示。460和150 ℃下的吡啶吸附曲線分別對應(yīng)強酸和弱酸,其中,波數(shù)1540~1554 cm-1處是吡啶離子的特征譜帶,表明B酸的存在,波數(shù)1490 cm-1附近的譜帶是物種同時吸附于L酸位和B酸位上的結(jié)果,波數(shù)1450 cm-1附近的譜帶是物種吸附于L酸點的特征。由圖5可以看出:H-ZSM-5上波數(shù)1452 cm-1附近的吸收峰較弱,說明吡啶聯(lián)合于三配位鋁原子上的量較少,形成的L酸位較少,尤其弱L酸酸量更少,而隨著MgO負(fù)載量的增加,吡啶配位鍵合于Mg2+陽離子形成配合物Mg2+-Py的量越多,進而形成的L酸酸量越多;隨著MgO負(fù)載量增加,在ES -2.96%MgO -ZSM-5、ES-5.92%MgO -ZSM-5、ES -8.83%MgO -ZSM-5上,B酸酸量降幅極小,而L酸酸量增加較快,即B/L酸量比值降幅較大。而ESMP-10.62%MgO -ZSM-5、ATP-11.04%MgO -ZSM-5、NP-11.78%MgO -ZSM-5的B/L酸量比值降幅逐漸增大,對應(yīng)的催化劑活性也迅速下降。說明非選擇性修飾時,MgO大量進入微孔和介孔,大量覆蓋B酸中心,入孔MgO越多,催化活性越低。而MgO入孔越多,外表面裸露的酸中心也會越多,因此對二甲苯選擇性也會越低。綜上所述,不同改性方法制備的MgO-ZSM-5催化性能的顯著差異來自于改性劑對微孔道結(jié)構(gòu)的調(diào)變和表面酸性的調(diào)變,前者改變了分子內(nèi)擴散的動力學(xué)特性,后者改變了表面異構(gòu)化反應(yīng)的速率;而MgO選擇性修飾外表面更好地抑制了對二甲苯的異構(gòu)化,保留了更多的微孔內(nèi)活性中心,從而產(chǎn)生了更高的對二甲苯選擇性和更高的活性。
(1) H-ZSM-5; (2) ES -2.96%MgO -ZSM-5;(3) ES -5.92%MgO -ZSM-5; (4) ES-8.83%MgO -ZSM-5; (5) ESMP-10.62%MgO -ZSM-5; (6) ATP-11.04%MgO -ZSM-5;(7) NP-11.78%MgO -ZSM-5圖5 H-ZSM-5及MgO-ZSM-5分子篩的吡啶吸附紅外光譜圖Fig.5 Pyridine adsorption FT-IR spectra ofH-ZSM-5 and MgO-ZSM-5 zeolites
(1)分別采用對二甲苯占位外表面選擇修飾、外表面+介孔選擇修飾、常壓浸漬和負(fù)壓浸漬4種負(fù)載方式制備了不同MgO負(fù)載量的MgO-ZSM-5催化劑樣品。4種負(fù)載方式均可使MgO很好地分散在ZSM-5納米粒子的外表面或孔道內(nèi),均可不同程度地提高對二甲苯選擇性。
(2)采用對二甲苯占位ZSM-5的微孔和晶間介孔并以MgO選擇修飾ZSM-5晶粒外表面制得的催化劑ES-wMgO-ZSM-5,MgO均勻分散在ZSM-5納米粒子的外表面,抑制了對二甲苯的異構(gòu)化;隨著MgO負(fù)載量的增加,對二甲苯選擇性逐漸提高;在ES-8.83%MgO-ZSM-5上,其對二甲苯選擇性在所考察的7種催化劑樣品中最高,可達92.6%,其甲苯轉(zhuǎn)化率可達33.6%;與H-ZSM-5相比,對二甲苯占位外表面選擇修飾法制備的催化劑活性損失最小。
(3)采用對二甲苯占位ZSM-5的微孔并以MgO選擇修飾ZSM-5晶粒外表面和晶間介孔制得的催化劑樣品ESMP-10.62%MgO-ZSM-5,MgO很好地分散在ZSM-5納米粒子的外表面和晶間介孔,對二甲苯選擇性為85.2%,在所考察的7種催化劑樣品中位居第二;甲苯轉(zhuǎn)化率為30.5%,其活性損失比催化劑ES-wMgO-ZSM-5的大。
(4)采用常壓浸漬法制得的ATP-11.04%MgO-ZSM-5催化劑,其對二甲苯選擇性為83.4%,甲苯轉(zhuǎn)化率為28.7%,與ES-8.83%MgO-ZSM-5相比,其對二甲苯選擇性和甲苯轉(zhuǎn)化率均有大幅降低。
(5)采用負(fù)壓浸漬法制得的NP-11.78%MgO-ZSM-5催化劑,其對二甲苯選擇性為68.3%,甲苯轉(zhuǎn)化率為24.5%,其在4種負(fù)載方式制備的MgO-ZSM-5催化劑中性能最低。
(6)分子占位選擇修飾法可保持微孔道暢通和孔道內(nèi)酸中心不受影響,從而保持催化劑的高活性。在該方法的制備步驟中,占位分子對二甲苯的選擇和脫除溫度的控制最為關(guān)鍵。