唐春華
(泉州市創(chuàng)達(dá)表面處理公司,福建 泉州 362000)
【配方1】[1]甲液:硝酸銀3 g/L,氫氧化鈉2 g/L;乙液:葡萄糖2 g/L,氨水適量,穩(wěn)定劑適量。使用時(shí)甲液、乙液混合,pH = 11,25 °C。適用于滌綸織物化學(xué)鍍銀,鍍層均勻、致密、平整,厚度0.01 mm,抗紫外線和抗靜電性能好。
【配方2】[2]甲液:硝酸銀10 g/L,氨水60 mL/L,乙二胺20 mL/L,氫氧化鉀5 g/L;乙液:葡萄糖10 g/L,酒石酸鉀鈉2.5 g/L,乙醇30 mL/L,聚乙二醇50 mg/L。使用時(shí)甲液、乙液混合,30 °C,時(shí)間視厚度而定(一般80 min)。適用于芳綸纖維化學(xué)鍍銀,鍍層電阻率低(0.3 ~ 0.4 Ω/cm),結(jié)晶緊密。本工藝使用氨水?乙二胺(EN)雙配位劑,鍍液穩(wěn)定性比使用單一配位劑時(shí)好,氨水用量大幅度降低。添加聚乙二醇還能改善均鍍性。由于[Ag(OH)2EN2]的穩(wěn)定性比[Ag(NH3)2]+高,增大乙二胺濃度能促進(jìn)銀離子與乙二胺的配位,提高鍍液的穩(wěn)定性,降低反應(yīng)速率,使更多的銀離子沉積在基體表面,令增重率不斷增加。但乙二胺含量過(guò)高,增重率反而降低。
【配方3】[3]硝酸銀3 ~ 40 g/L,葡萄糖6 ~ 80 g/L(2倍于硝酸銀),乙醇5%,PVP(聚乙烯吡咯烷酮,作為分散劑)少量;pH = 10 ~ 11。適用于鉛球化學(xué)鍍銀,鍍層均勻致密,晶粒圓滑,單質(zhì)銀晶粒直徑為20 μm。必須控制硝酸銀含量不能過(guò)高,否則銀離子有團(tuán)聚現(xiàn)象。操作過(guò)程:(1)在室溫下用pH = 8.5(用Tris–HCl調(diào)節(jié))的2 g/L多巴胺溶液處理,攪拌反應(yīng)24 h,抽濾后洗滌、干燥;(2)將沉積了聚多巴胺的鉛球置于銀氨溶液中,室溫下磁力攪拌30 min,然后逐滴加入葡萄糖溶液,反應(yīng)1 h后用去離子水清洗,抽濾、洗滌、干燥。鉛球表面均勻包覆的聚多巴胺對(duì)銀粒子具有強(qiáng)吸附性,可達(dá)到金屬化的要求,符合操作簡(jiǎn)單、成本低、污染小的生產(chǎn)條件。
【配方4】[4]還原液:葡萄糖16 g,酒石酸鉀鈉0.5 g,乙醇8 mL,聚乙二醇0.15 g,去離子水200 mL。氧化液:(1)將2 g硝酸銀榮譽(yù)50 mL去離子水中,逐滴加氨水,溶液變渾濁,繼續(xù)滴至溶液澄清;(2)將氫氧化鉀1.2 g溶于10 mL去離子水中,倒入(1)液變深棕色后滴加氨水至溶液澄清;(3)加入乙二胺4 mL。使用時(shí),室溫,超聲波振蕩,1.5 h。適用于棉織物化學(xué)鍍銀,鍍銀織物的方阻約為30 mΩ,具有良好的導(dǎo)電性,電磁屏蔽效能為40 ~ 80 dB,耐蝕性好,可作為柔性導(dǎo)電材料或電磁屏蔽材料使用。
【配方5】[5]銀氨溶液:硝酸銀20 g/L,用去離子水60 mL攪拌溶解后,緩慢滴加氨水至沉淀溶解。還原液:葡萄糖35 g/L,聚乙烯吡咯烷酮1.2 g、酒石酸鉀鈉2 g溶于170 mL水中,并加入無(wú)水乙醇(穩(wěn)定劑)20 mL、聚乙二醇20 mL。適用于玻璃纖維化學(xué)鍍銀,可賦予玻璃纖維優(yōu)良的導(dǎo)電性,作為環(huán)氧樹(shù)脂導(dǎo)電填料,制取導(dǎo)電材料。工業(yè)流程:除油(無(wú)水乙醇)→粗化(氟化銨10 g/L,氫氟酸30 mL/L;常溫,10 min)→水洗→真空抽濾(反復(fù)5次)→硅烷處理(50%乙醇溶液中加入KH550 3 mL,直至KH550水解完全,溶液澄清透明)→水洗→真空抽濾(同上)→活化(硝酸銀5 g/L;室溫,10 min)→化學(xué)鍍銀。利用硅烷偶聯(lián)劑水解后生成硅醇,可與粗化后的玻璃纖維表面的羥基發(fā)生反應(yīng),生成穩(wěn)定的Si─O─Si并吸附在玻璃表面,成為后續(xù)的活性中心,即可化學(xué)鍍銀。
【配方6】[6]硝酸銀20 ~ 25 g/L,硫脲(穩(wěn)定劑)100 ~ 180 g/L;pH = 1 ~ 2,130 ~ 180 s (90 ~ 120 s最佳)。適用于黃銅基體無(wú)氰鍍銀前浸銀,鍍層結(jié)合力牢,解決了無(wú)氰鍍銀(如硫代硫酸鈉體系)采用傳統(tǒng)的浸銀工藝(硫脲200 ~ 222 g/L)而引起銀層脫落、鼓泡等質(zhì)量問(wèn)題。
【配方7】[7]硝酸銀0.8 ~ 1.3 g/L,溴化鈉480 ~ 520 g/L,乙二胺0.9 ~ 1.8 g/L,2,2′?聯(lián)吡啶0.01 ~0.02 g/L,硼砂10 g/L;pH = 7 ~ 8,45 ~ 55 °C,10 min。適用于PCB(印制線路板)化學(xué)鍍銀,鍍層呈光亮銀白色,起裝飾性作用。印制線路板基體經(jīng)酸蝕、微蝕等預(yù)處理,利用表面覆銅層與溶液中的銀鹽發(fā)生置換反應(yīng)而獲得銀層。
【配方8】[8]硫酸肼100 mg,銀氨離子1.5 g;室溫,10 min。適用于聚乙烯(PE)膜噴涂銀,先噴涂硫酸肼,再?lài)娡裤y氨溶液,硫酸肼還原速度快。工藝流程:除油(磷酸氫二鈉10 g/L;60 °C,30 min)→膨潤(rùn)(正己烷,30 °C,30 min)→水漂洗3次→堿蝕→水漂洗3次→活化(氯化鈀0.6 g/L,鹽酸0.6 g/L;30 °C,5 min)→噴涂銀。
【配方9】[9]氯化亞錫(SnCl2·2H2O)40 g/L,硫脲20 g/L,酒石酸40 g/L,檸檬酸40 g/L,次磷酸鈉20 g/L,對(duì)苯二酚2 g/L;pH = 0.72,80 °C,30 min。適用于銅基體化學(xué)鍍錫。該工藝的特點(diǎn)是:(1)鍍速明顯大于硫脲單配位體系(高95%)和硫脲?酒石酸雙配位體系(高65.9%),最高3.12 μm/h;(2)檸檬酸作為錫離子的主配位體,與錫離子生成較穩(wěn)定的配離子,抑制錫離子的水解,而酒石酸是錫離子的輔配位體,故鍍液穩(wěn)定;(3)鍍層均勻細(xì)致,潔白光亮,耐蝕性、結(jié)合力、可焊性好。
【配方10】[10]氯化亞錫10 g/L,次磷酸鈉5 g/L,硫脲30 g/L;pH = 2,60 °C,4 min。適用于黃銅化學(xué)鍍錫。基體鍍前化學(xué)拋光,以提高表面平整性,利于施鍍。拋光液中硝酸和鹽酸均為少量,25 °C,3 min。
【配方11】[11]氯化亞錫10 g/L,硫酸5 mL/L,硫脲15 g/L,次磷酸鈉5 g/L,光亮劑1 mL/L;室溫,1 min。適用于黃銅拉鏈化學(xué)鍍錫。工藝流程:化學(xué)拋光(雙氧水250 mL/L,硝酸40 mL/L;室溫,1 min)→流水沖洗→化學(xué)鍍錫→流水沖洗→弱堿蝕(碳酸鈉10%;室溫,10 ~ 20 s)→流水洗→鈍化(苯駢三氮唑2 g/L,鉬酸鈉8 g/L,磷酸鈉11 g/L,醚類(lèi)非離子表面活性劑0.8 mL/L;30 °C,2 min)。該鈍化膜防變色效果較好,鹽霧試驗(yàn)24 h不變色,酶洗(CH–101中性酵素粉1 g/L,40 °C,攪拌1 h)不掉色,高溫烘烤(120 °C,10 min)也不掉色。
【配方12】[12]氯化亞錫5 ~ 30 g/L(最佳10 g/L),硫脲30 ~ 40 g/L(最佳30 g/L),檸檬酸30 ~ 35 g/L,次磷酸鈉1 ~ 20 g/L(最佳5 g/L),穩(wěn)定劑少量;pH = 1 ~ 4(最佳pH = 2),25 ~ 80 °C(最佳60 °C),1 ~15 min (最佳4 min),厚度30 μm。適用于黃銅化學(xué)鍍錫,鍍層呈均勻的銀白色,組織致密,無(wú)結(jié)痂。
【配方13】[13]硫酸亞錫25 g/L,濃硫酸40 mL/L,硫脲100 g/L,次磷酸鈉100 g/L,檸檬酸30 g/L,明膠1.5 g/L,OP?乳化劑10 mL/L,對(duì)苯二酚5 g/L,PPS(丙烷磺酸吡啶鎓鹽光亮劑)10 ~ 40 mg/L,DEP(二乙胺基戊炔二醇光亮劑)30 ~ 50 mg/L;45 °C,30 min。適用于PCB化學(xué)鍍錫,鍍層結(jié)晶細(xì)致平整,結(jié)合力良好,未發(fā)現(xiàn)鍍層中有銅錫化合物,保證了錫層的有效厚度,有利于提高焊接性能,而且抑制了晶須的產(chǎn)生。工藝流程:化學(xué)除油(氫氧化鈉10 g/L,碳酸鈉25 g/L,磷酸三鈉30 g/L,硅酸鈉25 g/L,乳化劑1 mL/L;75 °C)→自來(lái)水洗→蒸餾水洗→活化(稀硫酸)→蒸餾水洗→微蝕(含有硫酸的溶液,30 s)→水洗→預(yù)鍍(除省去化學(xué)鍍錫的添加劑外,其余成分與化學(xué)鍍錫相同;室溫,1 min)→化學(xué)鍍錫→稀酸漂洗→蒸餾水洗→干燥
【配方14】[14]硫酸亞錫20 ~ 28 g/L,濃硫酸10 ~ 43 mL/L,檸檬酸50 ~ 100 g/L,硫脲20 ~ 100 g/L,次磷酸鈉20 ~ 100 g/L,表面活性劑1 ~ 2 g/L;pH = 0.8,45 °C,15 ~ 30 min。適用于紫銅化學(xué)鍍錫。工藝流程:除油→微蝕→化學(xué)鍍錫→熱水洗2道。硫脲提高了銅、錫在鍍液中的電位差,促進(jìn)錫的置換。次磷酸鈉對(duì)錫的自催化還原作用比較弱,因?yàn)殄a基本上沒(méi)有自催化活性。
【配方15】[15]氰化亞金鉀2 g/L,檸檬酸銨50 g/L,氯化銨70 g/L,偏亞硫酸鉀10 g/L,次磷酸鈉10 g/L。使用時(shí)調(diào)整pH至4.6,87 °C水浴,時(shí)間20 min,每隔5 min攪拌一次鍍液。適用于工程塑料化學(xué)鍍金。工藝流程:除油→微蝕→敏化→活化→化學(xué)鍍鎳→化學(xué)鍍金。其中除油分2道:第一道堿性,由1 mol/L氫氧化鈉、1 mol/L碳酸鈉和適量表面活性劑組成,第二道酸性,磷酸與水的體積比1∶4。微蝕溶液由水與濃硫酸按體積比1∶4混合而成,時(shí)間5 min。敏化采用含氯化亞錫5 g/L、鹽酸20 mL/L和金屬錫3 ~ 5粒(防亞錫氧化)組成,恒溫25 °C,時(shí)間5 min?;罨汉然Z0.1 g/L和濃鹽酸60 mL/L,室溫下活化2 ~ 3 min。化學(xué)鍍鎳的甲液含硫酸鎳6 g/L和醋酸鈉10 g/L,乙液為30 g/L次磷酸鈉溶液。使用時(shí),甲液300 mL + 乳酸10 mL,攪拌均勻后加乙液300 mL + 丙酸2 mL、硫脲1 mL,調(diào)整pH至4.6,水浴恒溫87 °C,時(shí)間20 min,每3 ~ 5 min攪拌一次鍍液。
【配方16】[16]亞硫酸金鈉2 g/L,磷酸二氫鉀15 g/L,無(wú)水硫酸鈉13 g/L,添加劑聚乙二醇1.5 g/L或聚丙烯酰胺2 g/L;pH = 7,50 °C,10 min。適用于壓電陶瓷表面化學(xué)鍍金。添加劑(尤其是聚乙二醇)起到提高鍍速,令鍍層細(xì)致,增強(qiáng)鍍層耐蝕性(聚丙烯酰胺更強(qiáng))的作用。工藝流程:除油→粗化→敏化→活化→堿性化學(xué)鍍銅(pH = 9,45 °C,10 min)。
【配方17】[17]亞硫酸金鈉5 mmol/L,亞硫酸鈉0.3 mol/L,三乙醇胺0.1 mol/L,硫代硫酸鈉50 mmol/L,磷酸氫二鈉0.2 mol/L;pH = 6.5,60 °C,10 min,厚度0.05 μm,攪拌速率1 m/min。適用于PCB覆銅板或電子芯片化學(xué)鍍金(化學(xué)鍍鎳打底),用于焊盤(pán)保護(hù)和封裝接觸面。鍍層厚度的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)小于10%,粗糙度為26.8,能滿足工業(yè)應(yīng)用要求??紤]到三乙醇胺會(huì)嚴(yán)重降低鍍速,以硫代硫酸鈉增速。基體經(jīng)除油、微蝕、活化等前處理。
【配方18】[18]氯化鈀0.1 ~ 0.8 g/L,鹽酸20 mL/L;室溫,1 ~ 2 min。適用于鉬銅合金基體復(fù)合鍍覆前的底層。工藝流程:除油→化學(xué)粗化(98%硫酸,陽(yáng)極刻蝕電流密度0.3 ~ 0.5 A/dm2,5 ~ 10 min)→化學(xué)鍍鈀→化學(xué)鍍鎳→化學(xué)鍍金。Pd對(duì)化學(xué)鍍鎳反應(yīng)具有一定的催化活性,改善了化學(xué)鍍鎳的施鍍性。通過(guò)基體粗化,增大了比表面積,最終提高了復(fù)合鍍層的結(jié)合力和鍍金層的焊接性(用X光測(cè)試焊接后的空洞率≤30%),克服了原鉬銅合金比表面在高溫焊接過(guò)程中與鍍金層熱膨脹系數(shù)不匹配而引起的熱應(yīng)力增大,解決了鍍金層起泡、起皮等質(zhì)量問(wèn)題。
【配方19】[19]氯化鈀2.2 g/L,次磷酸鈉13.2 g/L,氨水(防沉淀劑)165 mL/L,氯化銨(緩沖劑)33 g/L;pH = 9.6,55 °C。適用于封裝基板ENEPIG(化學(xué)鎳?鈀?浸金)工藝中的化學(xué)鍍鈀,作為中間鍍層,起到阻擋鎳層與金溶液的接觸,避免浸金過(guò)程中鎳層發(fā)生氧化。本液鍍速可達(dá)48.3 g/(cm2·min)。次磷酸根離子水解脫氫并形成亞磷酸根,同時(shí)析出2個(gè)活化性初生態(tài)氫原子,吸附于鎳層表面使其活化。溶液中的Pd2+在鎳面上迅速還原,在催化鎳表面上沉積金屬鈀;鎳表面上的氫原子催化刺激次磷酸根氧化形成亞磷酸根并生成H2放出。
【配方20】[20]氯化鈀1 g/L,三乙醇胺20 g/L,檸檬酸銨8 g/L;pH = 2,65 °C。Pd2+被三乙醇胺、檸檬酸銨配位。適用于PCB化學(xué)鍍鈀,鍍層呈光亮的銀白色,耐蝕性和可焊性較好,鍍液穩(wěn)定,可取代鍍金。工藝流程:除油→酸蝕→活化→化學(xué)鍍鎳(pH = 4.5,80 °C)→化學(xué)鍍鈀。
【配方21】[21]硫酸亞鐵(FeSO4·7H2O)35 g/L,酒石酸鉀鈉100 g/L,水合肼125 g/L,蔗糖3 g/L,硼酸10 g/L;pH = 12,40 °C,2 h,以鋁(>99%)構(gòu)成金屬偶進(jìn)行施鍍。該工藝以水合肼作為還原劑,雖然在鍍速上不及以硼氫化鉀作為還原劑的工藝,但與以次磷酸鈉作為還原劑的工藝相當(dāng),而且鍍層結(jié)晶尺寸較小,耐蝕性最好,綜合性能較好。
【配方22】[22]硫酸鈷14.1 g/L,次磷酸鈉21.2 g/L,酒石酸鈉141.1 g/L,硼酸31 g/L;pH = 10(用氫氧化鈉調(diào)節(jié)),90 °C,1 h。適用于光纖布拉格光柵(FBG)化學(xué)鍍鈷,用于溫度傳感。鍍層結(jié)合力良好,F(xiàn)BG溫度傳感靈敏度隨鍍層厚度增加而提高,5 μm時(shí)的溫度傳感靈敏系數(shù)為12.21 pm/°C。
【配方23】[23]硫酸鈷0.1 mol/L,硫酸鎳0.1 mol/L,次磷酸鈉0.2 mol/L,酒石酸鈉0.4 mol/L,檸檬酸氫二銨0.4 mol/L,硼酸0.3 mol/L;pH = 11(以氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)),70 °C,30 min,超聲波功率100 W。適用于紫銅化學(xué)鍍鈷/鎳合金。本工藝使用適當(dāng)功率超聲波來(lái)提高鍍速(達(dá)50 mg/h左右),鍍層均勻、細(xì)致,粗糙度低至40 μm左右。