岳廷峰,高曉紅,劉建文,付 鈺,孟 冰
吉林建筑大學(xué) 電氣與計(jì)算機(jī)學(xué)院,長(zhǎng)春 130118
近年來(lái),ZnO基TFTs由于具有穩(wěn)定性好、遷移率高、制備工藝較為簡(jiǎn)單且可低溫制造的特點(diǎn)[1-2],因此其在高分辨率、大尺寸平板顯示市場(chǎng)有較為廣泛的應(yīng)用.例如用于有源矩陣液晶顯示器(AM-LCD)、射頻識(shí)別標(biāo)簽、大面積傳感器和計(jì)算機(jī)中[3].尤其是在透明顯示方面,展現(xiàn)了卓越的應(yīng)用前景.盡管如此,ZnO基TFT依然存在著不可忽視的問(wèn)題.已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在基于ZnO的TFT中,器件特性包括場(chǎng)效應(yīng)遷移率、開(kāi)關(guān)比、亞閾值擺幅等電學(xué)性能均受到有源層中固有缺陷的影響.例如ZnO薄膜中會(huì)有較多的O空位、Zn間隙等本征缺陷,這些缺陷使得ZnO薄膜內(nèi)部有著較高的載流子濃度以及過(guò)大的關(guān)態(tài)電流,致使器件開(kāi)關(guān)比降低,從而導(dǎo)致器件失去了晶體管的意義,演變成柵壓控制型的電阻器.因此,本文研究的目的是如何通過(guò)合理有效的方式降低ZnO有源層中的載流子濃度[4],從而獲得高質(zhì)量以及高性能的ZnO基TFT器件.
目前一般采用的是摻雜和合金兩種方式實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo),從而獲得高性能且實(shí)用的薄膜晶體管[5-6].常見(jiàn)的摻雜元素包括Ga[7],In[8],Al[9],Mg[10]等等.但從綠色環(huán)保、低成本制備的理念考慮,Mg元素也是首選材料之一.并且依據(jù)文獻(xiàn)調(diào)研,Mg元素的含量豐富,在地殼的含量排第8,易于獲取,市場(chǎng)價(jià)格便宜,可以實(shí)現(xiàn)低成本、規(guī)?;a(chǎn).從離子半徑來(lái)看,兩者的離子半徑的微小差異(Zn2+0.06 ?;Mg2+0.57 ?)使得摻雜不會(huì)造成明顯的晶格畸變[11-12],可以避免因?yàn)榫Ц袷湓斐傻母呙芏热毕?,有利于高質(zhì)量的薄膜生長(zhǎng).
MgZnO薄膜材料常用的制備方法有原子層沉積法(ALD)[13]、金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法(MOCVD)[14]、溶膠凝膠法[15]、脈沖激光沉積法(PLD)[16]以及磁控濺射法[17]等.在本次實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,采用磁控濺射的方法,因?yàn)槠渚哂胁僮鬏^為方便、制膜技術(shù)成熟等優(yōu)點(diǎn).實(shí)驗(yàn)過(guò)程中將摸索Mg摻雜ZnO薄膜材料的生長(zhǎng)條件,進(jìn)一步優(yōu)化工藝流程,制備出高性能、高穩(wěn)定性的MgZnO-TFT.
本次實(shí)驗(yàn)采用的是厚度為100 nm熱氧化SiO2為柵介電層的p-Si襯底,通過(guò)射頻磁控濺射法在SiO2柵介電層上生長(zhǎng)MgZnO薄膜作為器件的溝道層,從而制備出底柵頂接觸型的MgZnO-TFT,器件的結(jié)構(gòu)如圖 1 所示.具體工藝如下:先將硅片沿背面切割成尺寸約為1 cm×1 cm大小的形狀,依次放入丙酮、無(wú)水乙醇、去離子水中超聲清洗10 min左右,隨后取出用氮?dú)獯蹈?采用磁控濺射的方法沉積MgZnO薄膜,磁控設(shè)備使用的是Kurt J.Lesker公司的PVD 75型號(hào),靶材采用的是純度為99.99 %的高純ZnO陶瓷靶及純度為99.99 %的高純金屬M(fèi)g靶,磁控設(shè)備進(jìn)行濺射之前,需將腔室真空度抽至5×10-5mTorr以下.將ZnO靶射頻功率設(shè)置為100 W.一組實(shí)驗(yàn)是由ZnO靶單獨(dú)濺射,另外3組實(shí)驗(yàn)是將Mg靶射頻功率設(shè)置為3 W,7 W,10 W分別進(jìn)行共濺射,沉積過(guò)程在室溫下進(jìn)行.沉積結(jié)束將片子取出進(jìn)行濕法光刻,分為勻膠、前烘、曝光、顯影、堅(jiān)膜、刻蝕和去膠七個(gè)步驟.濕法光刻后用電子束蒸發(fā)設(shè)備鍍50 nm厚的金屬鋁作為源漏電極.器件的溝道長(zhǎng)為10 μm,寬為300 μm.對(duì)制備的器件采用Keysight B 1 500A型號(hào)的半導(dǎo)體參數(shù)儀測(cè)試其電學(xué)性能;采用英國(guó)牛津儀器集團(tuán)的原子力顯微鏡(AFM)對(duì)薄膜的表面形貌進(jìn)行探測(cè);采用JEOL公司的JSM-7610 F型掃描電子顯微鏡(SEM)對(duì)薄膜的表面形貌進(jìn)行研究.
圖1 TFT器件的結(jié)構(gòu)示意圖Fig.1 Schematic diagram of TFT device
圖2 不同摻雜量MgZnO TFTs轉(zhuǎn)移特性曲線Fig.2 Transfer characteristics of MgZnO TFTswith different doping contents
圖2為不同摻雜量的MgZnO TFTs轉(zhuǎn)移特性曲線.該轉(zhuǎn)移特性曲線是在一定的源漏電壓(VDS=15 V)下測(cè)得.隨著VGS從-20 V增大到40 V,TFT逐漸經(jīng)歷從關(guān)態(tài)到開(kāi)態(tài)的過(guò)程.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,鎂摻雜對(duì)TFTs的各項(xiàng)電參數(shù)均有影響.
由圖2可知,在Mg靶材濺射功率為3 W時(shí),MgZnO TFTs的各項(xiàng)電學(xué)參數(shù)總體達(dá)到最佳,電學(xué)性能的改善主要是由于在ZnO中摻入Mg離子降低了氧空位的密度和相應(yīng)的電子陷阱.計(jì)算結(jié)果見(jiàn)表1.
表1 TFT的電學(xué)參數(shù)Table 1 Electrical performance of TFT
當(dāng)濺射功率為3 W時(shí)電流開(kāi)關(guān)比為Ion/Ioff=1.54×107, 電流開(kāi)關(guān)比總體呈現(xiàn)先增高后降低的趨勢(shì).MgZnO TFTs的飽和場(chǎng)效應(yīng)遷移率(1)式確定:
(1)
式中,W為溝道寬度;L溝道長(zhǎng)度,μm;COX為單位面積柵極絕緣層的電容,mF/cm2;Vth為閾值電壓,V;μsat為飽和場(chǎng)效應(yīng)遷移率,cm2·V-1.
根據(jù)(1)式計(jì)算得到Mg靶功率為3 W時(shí),MgZnO TFTs閾值電壓為24 V,飽和場(chǎng)效應(yīng)遷移率為1.98 cm2·V-1,飽和場(chǎng)效應(yīng)遷移率也基本總體呈現(xiàn)先增高后降低的趨勢(shì),閾值電壓總體變化不太明顯.亞閾值擺幅SS是分析缺陷態(tài)密度的一個(gè)重要參數(shù),SS由(2)式確定:
(2)
該公式表示的含義是當(dāng)IDS增加一個(gè)數(shù)量級(jí)時(shí)VGS的增加量,SS數(shù)值越小,則越能說(shuō)明絕緣層與溝道層界面態(tài)陷阱或溝道層中的缺陷態(tài)密度越小.通過(guò)計(jì)算得出,在Mg靶材功率為3 W時(shí),MgZnO TFTs的亞閾值擺幅為1.1 V/decade.
綜上所述,在Mg靶材功率為3 W時(shí),MgZnO TFTs的各項(xiàng)電學(xué)參數(shù)得到改善,改善的主要原因是在有源層引入了更強(qiáng)的Mg-O鍵來(lái)抑制氧空位.界面缺陷態(tài)密度可以通過(guò)公式(3)確定:
(3)
式中,SS為亞閾值擺幅,V/decade;K玻爾茲曼常數(shù),J/K;T絕對(duì)溫度,K.當(dāng)Mg靶濺射功率為3 W時(shí),界面態(tài)密度最低,數(shù)值為3.82×1012cm-2·eV-1.
圖3(a)~(d)為不同濺射功率的MgZnO薄膜的SEM照片.Mg濺射功率為3 W,7 W,10 W時(shí)在MgZnO結(jié)構(gòu)中占的原子百分比(at.%)分別為1.54,3.50和4.67.
(a) 0 W
(b) 3 W
(c) 7 W
(d) 10 W
圖4(a)~(d)為不同濺射功率功率的MgZnO薄膜的AFM圖像.濺射功率為0 W,3 W,7 W,10 W的MgZnO薄膜的均方根粗糙度(RMS)分別為1.816 nm,1.168 nm,1.419 nm,1.482 nm,而ZnO的均方根粗糙度為1.816.與ZnO的均方根粗糙度相比較,MgZnO粗糙度降低較為明顯.原因是一定量的Mg摻雜減少了薄膜的表面空隙數(shù),改善了薄膜的表面粗糙度,使得薄膜質(zhì)量變好.
圖4 不同濺射功率MgZnO薄膜的AFM圖像Fig.4 AFM images of MgZnO films with different sputtering powers
本文在室溫下通過(guò)射頻磁控濺射技術(shù),在100 nm厚的SiO2絕緣層硅襯底上制備了MgZnO薄膜及其晶體管.實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)表明,Mg靶材濺射功率為3 W時(shí),器件電學(xué)性對(duì)薄膜質(zhì)量最好,原因是少量Mg摻雜降低了氧空位的密度和相應(yīng)的電子陷阱,提升了電學(xué)性能以及Mg的摻雜,減少了表面空隙數(shù),降低了薄膜表面粗糙度,改善了薄膜質(zhì)量.