左洋,魏晗,左禹,張寒露,唐聿明,趙旭輝
(1.北京化工大學 碳纖維及功能高分子教育部重點實驗室,北京 100029; 2.中國人民解放軍92228 部隊,北京 100072)
AZ91D 鎂合金具有高的比強度和良好的加工性能、減震性能及導電導熱性能等,在航空、汽車工業(yè)等領域具有廣闊的應用前景[1]。但是鎂合金電位很負,很容易發(fā)生腐蝕,必須使用合適的表面處理技術對其進行保護。有機涂層是最常用的腐蝕防護手段之一,通過在涂層中摻雜不同的顏填料,可以使涂層的屏蔽性能進一步提高,或者加入活潑性更高的金屬顆粒利用陰極保護作用保護基體金屬,例如廣泛用于碳鋼防腐的富鋅涂層[2]以及用于鋁合金防腐的富鎂涂層[3]。純鎂相對于鎂合金腐蝕電位更負,Y. ZUO 課題組前期[4-5]采用純鎂粉作為活性顏料加入環(huán)氧涂層,研究發(fā)現(xiàn)鎂粉作為犧牲陽極顏料能夠?qū)Z91D 鎂合金基體提供陰極保護,同時其腐蝕產(chǎn)物(MgO 和Mg(OH)2)較穩(wěn)定,也可增強涂層的屏蔽作用,使涂層對鎂合金的保護作用顯著加強。但與富鋅涂層中的鋅粉腐蝕產(chǎn)物不同,Mg(OH)2微溶于水,并且由于鎂的電化學活性很強,當電解質(zhì)溶液滲透到涂層內(nèi)部與鎂粉發(fā)生反應后,容易形成孔隙,從而降低涂層屏蔽性能[6-7]。因此,適當減少鎂粉含量的同時保證其導電連接,有利于降低涂層孔隙率,進一步提高富鎂涂層的陰極保護作用和屏蔽性能。
石墨烯具有優(yōu)良的導電性能,并且存在雙極性電場效應,電子遷移率可達2×105cm2/(V·s)[8]。前人的研究發(fā)現(xiàn),將石墨烯加入環(huán)氧樹脂中,可以有效提高涂層的屏蔽性能、耐強酸性、耐強堿性以及涂層附著力[9-10];同時,石墨烯的密度小,在有機涂層中不易沉積[11]。Krishnamurthy 等[12]發(fā)現(xiàn),涂層中添加石墨烯也可以阻礙微生物的附著,避免發(fā)生微生物腐蝕。近年來,有研究發(fā)現(xiàn)利用石墨烯替代部分鋅粉可以提高環(huán)氧富鋅涂層的防護性能,這是因為石墨烯片層結(jié)構具有很好的阻隔性能,并且其良好的導電性能可以使得涂層中的鋅顆粒均勻活化,延長富鋅涂層的陰極保護時間[13-14]。盡管文獻表明在環(huán)氧富鋅涂層中加入石墨烯可以提高其防腐蝕性能,但是對于石墨烯改性環(huán)氧富鎂涂層對鎂合金防護性能的改善研究目前少有報道。
本文通過在富鎂涂層中加入石墨烯替代等質(zhì)量的鎂粉,探究不同含量石墨烯對富鎂涂層陰極保護性能和屏蔽性能的影響,目的是在保證涂層陰極保護效果的同時,降低涂層中鎂粉含量與涂層活性,進一步提高富鎂涂層對鎂合金的保護作用。
實驗所用基材為AZ91D 鎂合金,其主要成分(以質(zhì)量分數(shù)計)為:9.4%Al,0.23%Mn,0.82%Zn,0.005%Fe,0.01%Si,0.002%Ni,0.02%Cu,Mg 余量。將鎂合金切割成為50 mm×50 mm×2 mm 的試板,依次用120#、240#、600#砂紙打磨表面去除污漬與氧化層,再用去離子水沖洗和丙酮擦拭,然后晾干。實驗所用鎂粉(Mg)純度為99%(秦皇島太極環(huán)有限公司生產(chǎn)),平均粒徑為30 μm。石墨烯(Gr)純度為99.5%(上海晶純生化科技有限公司生產(chǎn)),厚度為4~20 nm,微片大小約為5 μm,層數(shù)約為10 層。
將石墨烯加入到稀釋劑、水楊酸、乙醇和鈦酸酯偶聯(lián)劑的混合溶液中進行分散。然后,用丙酮和去離子水對混合溶液抽濾清洗,獲得的粉體與鎂粉按所需制備的配比(鎂粉與石墨烯的質(zhì)量比分別為50∶0、49∶1、48∶2、46∶4,顏填料總質(zhì)量約占涂層干膜質(zhì)量的50%)加入瑪瑙球磨罐中,同時加入環(huán)氧樹脂、BYK-A530 消泡劑及其他助劑,封口球磨2 h,并超聲分散后加入H53-33 配套固化劑(環(huán)氧樹脂與固化劑的質(zhì)量比為5:2)攪拌30 min[6],最后在45 ℃環(huán)境中靜置0.5 h 除泡,制得石墨烯改性環(huán)氧富鎂涂料。使用手工涂刷的方法在鎂合金試板上制備涂層,晾一周后,用TT 230 非磁性測厚儀測量涂層干膜厚度,厚度分別為(150±5) μm(用于阻抗等測試)和(50±5) μm(用于極化曲線測試)。
Machu 測試與劃叉浸泡測試:用石蠟涂封涂層/鎂合金試樣的邊緣,用美工刀在涂層中央垂直刻畫兩條長度為3 cm 的直線,刻痕達基體。將一部分試樣浸泡于Machu 溶液(50 g/L NaCl+5 mL/L H2O2,溫度(37±1) ℃)中。24 h 后向溶液中補充5 mL/L H2O2溶液,48 h 后取出試樣,觀察劃痕處金屬的腐蝕情況,評定涂層的防護性能。將另外一部分試樣浸泡于中性3.5% NaCl 溶液,進行劃叉浸泡試驗,每隔48 h 更新溶液,最后將涂層剝離后觀察鎂合金表面的腐蝕形貌,評價涂層的防護性能。
涂層附著力測試:根據(jù)ISO 4624—2002 標準,使用拉開法測試涂層與AZ91D 鎂合金的附著力。用快干膠將半徑為10 mm 的錠子粘接在涂層表面。待快干膠固化后,通過HCTC-10C 附著力測試儀將錠子拔下,測得涂層與鎂合金剝離時所需拉力。每種涂層設置3 個平行樣,結(jié)果取平均值。
電化學交流阻抗測試(EIS):使用PARSTAT2273測試系統(tǒng)對涂層/鎂合金試樣在3.5% NaCl 溶液中進 行EIS 測試。測試頻率為100 kHz~0.01 Hz,正弦波振幅為10 mV。涂層的暴露面積為10 cm2。
開路電位測試與極化曲線測試:使用CS300 電化學工作站(武漢科斯特公司)對涂層/鎂合金試樣在中性3.5%NaCl 溶液中進行開路電位與動電位極化曲線測試。極化曲線測試的涂層中央用小刀刻出兩條長為200 mm 中心垂直相交的線段,深達基底,在溶液中浸泡約10 min,待開路電位穩(wěn)定后,測試極化曲線,掃描速率為0.5 mV/s。作為參照,對裸鎂合金也進行極化曲線測試,試樣測試面積為10 cm2。電化學測試均采用三電極體系,試樣為工作電極,鉑電極為輔助電極,飽和甘汞電極(SCE)為參比電極。皆在室溫條件下進行。
掃描電鏡觀察:采用 S4700 掃描電子顯微鏡(TESCAN 公司)對涂層試樣截面進行形貌觀察。測試前對試樣進行噴金處理。
圖1 含不同質(zhì)量分數(shù)石墨烯的環(huán)氧富鎂涂層經(jīng)過Machu 試驗后鎂合金基體的表面照片 Fig.1 Surface morphologies of Mg alloy substrate under the epoxy Mg-rich coating with different mass fractions of graphene: (a) 0%, (b) 1%, (c) 2%, (d) 4% after Machu test
含不同質(zhì)量分數(shù)石墨烯的富鎂涂層經(jīng)過Machu試驗48 h 后,將表面涂層剝離,觀察基體的表面形貌,結(jié)果如圖1 所示??梢钥闯觯刺砑邮┖吞砑?% 石墨烯的富鎂涂層下方的基體表面出現(xiàn)了較大范圍的深色腐蝕區(qū)域,部分區(qū)域有小蝕坑。加入少量(1%和2%)石墨烯替代等質(zhì)量鎂粉后,基體表面的腐蝕程度明顯下降。可見,適量石墨烯等質(zhì)量替代鎂粉后,涂層對鎂合金基體的保護效果明顯增強,但石墨烯含量過多會導致涂層防護性能下降。這可能是由于,石墨烯為納米層狀結(jié)構,在富鎂涂層中可以阻擋水的擴散,延長電解質(zhì)的擴散通道[14-15],一定程度上可能堵塞樹脂中的空隙,而過多的石墨烯可能會引起團聚、涂層附著力下降等問題[15-16]。
石墨烯改性富鎂涂層試樣進行劃叉浸泡實驗10 d后,將表面涂層去除,鎂合金基體的腐蝕情況如圖2所示。可以看出,少量石墨烯替代鎂粉后,涂層的緩蝕效果增強,鎂合金表面沒有出現(xiàn)大面積腐蝕區(qū)域。其中,石墨烯添加量為1%時,鎂合金表面腐蝕程度最低;石墨烯添加量為2%時,腐蝕程度與添加1%石墨烯時較接近。而當石墨烯添加量為4%時,鎂合金表面出現(xiàn)較多的黑色腐蝕產(chǎn)物,并有點蝕坑。此結(jié)果與Machu 測試結(jié)果相符合。
圖2 含不同質(zhì)量分數(shù)石墨烯的富鎂涂層在劃叉浸泡10 d 后的基體表面形貌 Fig.2 Surface morphologies of Mg alloy substrate under the Mg-rich coating with different mass fractions of graphene: (a) 0%, (b) 1%, (c) 2%, (d) 4% after scratch test for 10 d
表1 為添加石墨烯對環(huán)氧富鎂涂層與鎂合金之間表面附著力的影響。為了表達方便,鎂粉與石墨烯的質(zhì)量比為50:0、49:1、48:2、46:4 的四種條件依次表示為50%Mg-0%Gr、49%Mg-1%Gr、48%Mg-2%Gr和46%Mg-4%Gr。由表1 可知,在富鎂涂層(MgRC)中加入適量石墨烯使涂層附著力略有上升。這可能是由于石墨烯在涂層中與環(huán)氧高分子鏈發(fā)生柔性纏繞,增大了涂層與鎂合金的接觸面積[17],并且石墨烯的含氧官能團能與合金表面形成共價鍵[15],從而使涂層附著力提高。而加入過量(4%)石墨烯后,涂層附著力有所下降,這可能是由于過多石墨烯會導致環(huán)氧樹脂被分割的單位數(shù)增多,從而使環(huán)氧樹脂分子間作用力以及與基材的作用力降低[18]。
表1 石墨烯含量對環(huán)氧富鎂涂層附著力的影響 Tab.1 Effect of graphene content on the adhesive strength of Mg-rich coating
圖3 為石墨烯改性富鎂涂層試樣的開路電位隨時間的變化曲線。在中性3.5%NaCl 溶液中,當試樣的開路電位降至-1.5 V(vs. SCE)以下時,認為涂層對鎂合金基體具有陰極保護效果[19]。由圖3 可知,隨著時間的延長,4 種涂層的開路電位均是先下降然后又上升。浸泡初期,涂層被溶液逐漸滲透,鎂顆粒開始活化,開路電位快速下降,大約35 h 后,46%Mg-4%Gr涂層試樣的開路電位最先降至-1.5 V(vs. SCE)以下。隨著浸泡時間進一步延長,開路電位逐漸回升,這是因為非導電的鎂粉腐蝕產(chǎn)物包裹在鎂顆粒周圍,降低了鎂顆粒的電化學活性[20]。與其他涂層相比,48%Mg-2%Gr 涂層的開路電位保持在-1.5 V(vs. SCE)以下的時間最長(145 h),表明該比例下石墨烯對鎂粉的電連接效果最好,涂層中鎂粉的利用率最高。當石墨烯添加量為4%(46%Mg-4%Gr 涂層)時,開路電位處于-1.5 V(vs. SCE)以下的時間明顯縮短。有文獻[21]指出,在涂層中加入過多的石墨烯可能會與基體發(fā)生電接觸,導致合金發(fā)生電偶腐蝕。因此,在使用石墨烯改善富鎂涂層的防腐蝕性能時,需要注意石墨烯的添加量。
圖3 含不同質(zhì)量分數(shù)石墨烯的富鎂涂層試樣的開路電位變化 Fig.3 Variation of OCP for Mg-rich coating with different mass fractions of graphene
圖4 為極化曲線測試結(jié)果,可見純富鎂涂層的腐蝕電位相比AZ91D 鎂合金負約20 mV,說明鎂粉加入到環(huán)氧涂層中對鎂合金基體可提供一定的陰極保護作用[20];石墨烯替代部分鎂粉后,涂層的腐蝕電位相對純富鎂涂層發(fā)生正移,且石墨烯含量增大,電位正移的幅度更大。這可能與石墨烯電位較正有關,加入涂層中可以提高涂層的自腐蝕電位[22]。利用Tafel外推法可以從極化曲線上得到試樣的腐蝕電流密度(見表2),隨著富鎂涂層中石墨烯的添加,腐蝕電流密度明顯降低,說明鎂合金基體腐蝕速率明顯降低。這表明在富鎂涂層中添加少量石墨烯進行改性,可以有效改善富鎂涂層對鎂合金基體的保護作用。
圖4 含不同質(zhì)量分數(shù)石墨烯的富鎂涂層試樣及AZ91D 鎂合金的極化曲線 Fig.4 Polarization curves of Mg-rich coating samples with different mass fractions of graphene and AZ91D Mg alloy sample
表2 含不同質(zhì)量分數(shù)石墨烯的富鎂涂層試樣及AZ91D 鎂合金試樣的極化曲線擬合參數(shù) Tab.2 Fitted parameters of polarization curves for Mg-rich coating samples with different mass fractions of graphene and AZ91D Mg alloy sample
電化學交流阻抗法是檢測和評價涂層失效和屏蔽性能的最常用方法,通過等效電路的擬合和分析,可以獲得有關涂層、顏填料以及基體金屬的電化學信息[23]。圖5—8 為4 種不同石墨烯/鎂粉質(zhì)量比的涂層試樣在3.5%NaCl 溶液中浸泡不同時間的阻抗譜。從圖5 中的純環(huán)氧富鎂涂層試樣的譜圖中可以看出,浸泡初期(1 h),Nyquist 圖表現(xiàn)為半徑很大的圓弧,Bode 圖中的低頻阻抗值(|Z|0.01Hz)約為3×1010Ω·cm2,說明富鎂涂層對腐蝕性介質(zhì)的屏蔽作用很好。隨著浸泡時間的延長,低頻阻抗值下降,24 h 時|Z|0.01Hz值降至1×108Ω·cm2,這是由于滲入涂層中的溶液將鎂顆粒浸潤并發(fā)生反應,致使鎂粉活化[4,19]。在240~480 h的浸泡過程中,|Z|0.01Hz值變化不大而略有上升,這是由于隨著溶液滲入涂層內(nèi)部導致越來越多的鎂顆粒發(fā)生反應,生成的腐蝕產(chǎn)物(MgO 和Mg(OH)2)阻塞涂層中的部分孔隙,從而使涂層屏蔽性能發(fā)生一定程度的提高。隨著浸泡時間進一步延長,可能由于涂層中的醚鍵發(fā)生斷裂[24]以及涂層中的堵塞被疏通等原因,低頻阻抗值會再次下降。浸泡至2160 h 時,低頻阻抗模值降至1×107Ω·cm2,基材表面出現(xiàn)銹點。
圖5 不含石墨烯的環(huán)氧富鎂涂層在3.5%NaCl 溶液中浸泡不同時間的阻抗譜 Fig.5 EIS spectra of 50%Mg-0%Gr coating in 3.5%NaCl solution
圖6 為49%Mg-1%Gr 石墨烯改性富鎂涂層試樣的EIS 譜圖,浸泡1 h 后,低頻阻抗值為4×1010Ω·cm2,說明涂層對溶液的屏蔽作用很好。隨著浸泡時間的延長,溶液逐漸滲入涂層中,總體上試樣的|Z|0.01Hz模值呈現(xiàn)持續(xù)下降的趨勢。2160 h 時,低頻阻抗值降至1×107Ω·cm2,涂層表面無明顯的劣化現(xiàn)象。
圖7 為48%Mg-2%Gr 石墨烯改性富鎂涂層試樣的EIS 譜圖。浸泡 1 h,試樣的低頻阻抗值為6×1010Ω·cm2。隨著溶液的滲透,阻抗模值下降,但是下降速率相對于前兩種涂層較緩,2160 h 時為1×109Ω·cm2,此時涂層表面未出現(xiàn)明顯的腐蝕現(xiàn)象,說明2%Gr 石墨烯改性富鎂涂層對基體的保護作用最好。這可能是因為 石墨烯在涂層中能夠形成迷宮結(jié)構,延長電解質(zhì)的擴散通道,并且石墨烯可以填充涂層中的微孔[14],使得改性涂層優(yōu)異的屏蔽性能保持更長時間。
圖6 含有1%石墨烯的富鎂涂層試樣的電化學阻抗譜 Fig.6 EIS plots of 49%Mg-1%Gr coating sample
圖8 為46%Mg-4%Gr 石墨烯改性富鎂涂層的EIS 譜圖。浸泡1 h 后,Nyquist 圖中出現(xiàn)第二個容抗弧,這可能是由于石墨烯團聚使涂層內(nèi)部成分不均引起的,此時,低頻阻抗值為3×109Ω·cm2,比前三種涂層均低。浸泡過程中,試樣低頻阻抗值的下降幅度很大,2160 h 時降至1×106Ω·cm2以下。這可能是因為涂層中過多的石墨烯因其強大的范德華力而發(fā)生團聚,可導致涂層孔隙率上升,屏蔽性能下降[16]。
圖8 含有4%石墨烯的富鎂涂層試樣的電化學阻抗譜 Fig.8 EIS plots of 46%Mg-4%Gr coating sample
圖9 為含不同質(zhì)量石墨烯的富鎂涂層的|Z|0.01Hz隨時間的變化對比。浸泡初始,49%Mg-2%Gr 涂層和49%Mg-1%Gr 涂層試樣的低頻阻抗值都比純富鎂涂層試樣的高,而46%Mg-4%Gr 涂層的低頻阻抗值則遠低于純富鎂涂層試樣的阻抗模值。隨著試驗的進行,4 種試樣的|Z|0.01Hz隨時間的變化均是先快速下降然后又較緩慢下降的趨勢。但是,總體上,添加2%Gr富鎂涂層的阻抗值始終最高,添加1%Gr 富鎂涂層的阻抗值次之,說明少量石墨烯的加入對環(huán)氧富鎂涂層的屏蔽性能有積極作用。
圖9 含不同質(zhì)量分數(shù)石墨烯的涂層在3.5%NaCl 溶液中的低頻阻抗值隨時間的變化 Fig.9 Variation of |Z|0.01 Hz of Mg-rich coating with different contents of graphene in 3.5%NaCl solution with time
采用圖10 中的等效電路對上述4 種富鎂涂層試樣的EIS 數(shù)據(jù)進行擬合[19]。浸泡初期,選用模型A,Rc表示涂層電阻,涂層的單位面積孔隙率越低,Rc值越高;Qc表示涂層電容,反映涂層中溶液滲入的程度。隨著浸泡時間的延長,涂層中的鎂粉被滲入涂層的溶液活化,此階段采用模型B 進行擬合,Qdl和Rct分別為鎂顆粒/溶液界面的反應電阻和雙電層電容。隨著鎂粉不斷被腐蝕,模型C 可以很好地擬合阻抗數(shù)據(jù),其中由Rdiff和Qdiff并聯(lián)組成的Zdiff與鎂顆粒腐蝕產(chǎn)物引起的擴散過程有關[19-20]。浸泡后期,電解質(zhì)滲透至涂層/鎂合金界面,基體開始發(fā)生電化學反應,Qst與Rst分別為涂層/鎂合金界面處的雙電層電容和電荷轉(zhuǎn)移電阻,如模型D 所示。表3 為各涂層在浸泡不同時間時采用的等效電路模型。
根據(jù)公式(1)和(2)[25-26]可求出涂層孔隙率P和吸水率φ。其中,A代表電極的測試面積(cm2),k為3.5% NaCl 溶液電導率(0.01 S/m),d為涂層厚度(μm),Ct和C0分別是浸泡t時間之后的涂層電容和初始涂層電容。
圖11 為石墨烯改性富鎂涂層EIS 數(shù)據(jù)擬合參數(shù)隨時間的變化。比較涂層孔隙率P可以看出,浸泡初期,各組涂層試樣的P值持續(xù)增大,這與起初溶液迅速進入涂層疏通了涂層的溶液通道有關,之后P值逐漸趨于穩(wěn)定,這可能是由于涂層中的鎂粉逐漸溶解消耗,鎂粉反應產(chǎn)物堵塞溶液通道,涂層為合金提供屏蔽保護[18]。49%Mg-1%Gr 涂層和48%Mg-2%Gr 涂層的孔隙率均比純富鎂涂層的低,說明少量石墨烯對富鎂涂層的孔隙率有改善作用。其中,48%Mg-2%Gr石墨烯改性富鎂涂層始終保持著最低的孔隙率且后期很穩(wěn)定,說明2%石墨烯對涂層孔隙率的改善作用 最好。而46%Mg-4%Gr 涂層孔隙率始終最高,反而起到負面的影響。涂層吸水率的結(jié)果與孔隙率相一致,添加2%石墨烯時,涂層吸水率φ始終最低,而添加4%石墨烯后,涂層φ值的上升速度加快,并且比不添加石墨烯的純富鎂涂層的吸水率更高。
圖10 富鎂涂層試樣在3.5%NaCl 溶液浸泡過程中的等效電路 Fig.10 Equivalent circuits for Mg-rich primer samples in different periods
表3 不同浸泡階段的涂層試樣的電路模型 Tab.3 Circuit models of coating samples at different immersion stages
圖11 4 種富鎂涂層試樣的交流阻抗擬合參數(shù)隨時間的變化 Fig.11 Variation of fitting parameters for the four types of Mg-rich coating with time
Rct表示涂層中鎂粉的反應電阻,Rct值越低,鎂粉的腐蝕速度越快[5]。浸泡 48 h 后,純富鎂涂層(50%Mg-0%Gr)中的鎂粉開始發(fā)生反應,Rct出現(xiàn)并迅速下降,168 h 后趨于穩(wěn)定。而用1%和2%石墨烯替換鎂粉后,涂層Rct的出現(xiàn)時間明顯延遲,并且數(shù)值均比50%Mg-0%Gr 涂層高,說明石墨烯有效降低了富鎂涂層中鎂粉的腐蝕速率,其中添加2%石墨烯的效果最好。而46%Mg-4%Gr 涂層的Rct值不僅明顯低于其他三種涂層,而且Rct出現(xiàn)的時間最早(24 h),這與過量石墨烯可能發(fā)生團聚致使涂層孔隙和吸水率增大有關,溶液最容易進入涂層引發(fā)鎂粉活化。Qdl可表示涂層中鎂粉的表面活性面積,Qdl值越小說明反應活化面積越小[20]??梢钥闯?,隨浸泡時間的延長,由于溶液的滲入,各組試樣的Qdl值均呈上升趨勢,表明涂層中的鎂粉逐漸被活化。當涂層中的溶液飽和后,Qdl值逐漸穩(wěn)定。相比較而言,48%Mg-2%Gr涂層的Qdl值最低且最穩(wěn)定,說明加入2%石墨烯可以很好地降低涂層中鎂粉的活化反應。
EIS 測試結(jié)果表明,適量石墨烯替代鎂粉可以使富鎂涂層的屏蔽性能得到提高,當石墨烯添加量為2%、鎂粉含量為48%時,涂層的屏蔽效果最好,可能是由于石墨烯獨有的二維結(jié)構[14]在涂層中形成迷宮效應延長了溶液滲入涂層的路徑長度,同時降低了涂層孔隙率,從而達到更好的屏蔽效果。石墨烯的導電性好,比表面積大,加入涂層后使得鎂粉的連通率上升,可提高鎂粉利用率,延長涂層的陰極保護時間[13-14,16]。不過需要指出的是,這與極化曲線測試結(jié)果(含4%石墨烯的富鎂涂層試樣腐蝕速率最?。┞杂胁煌?,可能是由于極化曲線測試是劃叉試樣的瞬時腐蝕速率,含石墨烯量比較高的富鎂涂層,初期的開路電位比較負(從開路電位監(jiān)測結(jié)果來看),富鎂涂層對基體的陰極保護作用比較早,極化曲線測試的腐蝕速率較小。但二者結(jié)果都說明,石墨烯改性可以有效提高富鎂涂層對鎂合金基體的腐蝕防護效果。
對純富鎂涂層和48%Mg-2%Gr 改性富鎂涂層的截面形貌進行掃描電子顯微鏡觀察,結(jié)果見圖12??梢钥闯觯兏绘V涂層中具有較多的微觀孔隙(圖12a)。添加2% 石墨烯后(圖12b),涂層中的微觀缺陷明顯減少,涂層更加致密,說明石墨烯對涂層的致密性提高有積極的作用。這與EIS 解析結(jié)果相吻合,也與文獻中的報道相一致,石墨烯的二維片層結(jié)構使其在涂層中反復堆疊,填補了涂層中的空隙[14]。
圖12 純富鎂涂層和含2%石墨烯的富鎂涂層的SEM 圖 Fig.12 SEM images of pure Mg-rich coating and Mg-rich coating with 2% graphene
1)采用石墨烯代替等質(zhì)量的鎂粉對含50%鎂粉的環(huán)氧富鎂涂層進行改性,結(jié)果表明,少量石墨烯(1%和2%)替代鎂粉,能夠降低涂層的孔隙率,增強富鎂涂層對基體的腐蝕防護性能,其中含2%石墨烯的環(huán)氧富鎂涂層對鎂合金基體的保護效果最好。但添加4%石墨烯時,涂層的屏蔽性能反而減弱。
2)少量石墨烯代替鎂粉,可明顯延長富鎂涂層對鎂合金的陰極保護時間。而石墨烯添加量為4%時,富鎂涂層的陰極保護時間明顯縮短,且使涂層孔隙增多,與鎂合金基體的附著力下降。