喹嗪并[3，4，5，6-ija]喹啉衍生物的合成及其光解水制氫性能

位春江 徐良軒 劉雪粉 陳 浩 任晨超 王天琦 吳慶安 羅書平＊,

(1浙江工業(yè)大學(xué)，綠色化學(xué)合成技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室培育基地，杭州 310014)

(2杭州師范大學(xué)錢江學(xué)院，杭州 310006)

能源和環(huán)境是當(dāng)今人類面臨的2個(gè)熱點(diǎn)問題。太陽能作為一種清潔且可持續(xù)的能源，越來越受到人們的廣泛關(guān)注[1]。目前人類能夠直接利用太陽能的方法是通過一些半導(dǎo)體材料將光能轉(zhuǎn)換成電能，但該方法的缺點(diǎn)是能量轉(zhuǎn)化效率低。因此，為了更加充分地利用太陽能，將太陽能轉(zhuǎn)換成化學(xué)能的方法逐漸受到關(guān)注。氫氣具有能效高、無污染、零排放等優(yōu)點(diǎn)，有望在未來取代傳統(tǒng)的化石能源[2]。目前使用到的氫氣大部分是從生物質(zhì)、天然氣或煤氣化中產(chǎn)生，在生產(chǎn)過程中會(huì)對(duì)環(huán)境造成一定的污染，而電解水制氫的能耗比較高，因此通過太陽光催化分解水制氫是開發(fā)清潔和可持續(xù)氫能的理想途徑之一[3-6]。

Fujishima和Honda于1972年在TiO2單晶電極上通過光催化實(shí)現(xiàn)了水分解產(chǎn)氫，證明了利用太陽能直接將水分解產(chǎn)生氫氣這一方法的可行性，為光催化產(chǎn)氫的研究開辟了新的道路[7]。這一研究使光催化降解水制氫成為當(dāng)今太陽能利用的研究前沿，在很短的時(shí)間內(nèi)吸引了大量的學(xué)者，并取得了不錯(cuò)的研究成果。截止到目前，太陽光降解水產(chǎn)氫體系主要由光敏劑(PS)、水還原催化劑、電子犧牲劑3部分組成[8]。其中，光敏劑的主要作用是吸收光子然后將自身獲得的能量傳遞給不能吸收光子的水還原催化劑。因此光敏劑是制約光解水產(chǎn)氫體系好壞的關(guān)鍵因素，研發(fā)高效、穩(wěn)定、廉價(jià)、無毒的光敏劑是整個(gè)光解水體系研究的重要任務(wù)。最近幾年，一些金屬配合物由于具有較好的光物理性質(zhì)，被廣泛應(yīng)用于光解水產(chǎn)氫體系中[8-10]，如釕[11]、銠[12]、銥[13]、鉑[14]、銅[15]等金屬配合物。但這些光敏劑存在價(jià)格昂貴、儲(chǔ)量稀少、穩(wěn)定性差、有毒等缺點(diǎn)，這些缺點(diǎn)限制了它們在光解水產(chǎn)氫體系中的應(yīng)用。

有機(jī)染料具有廉價(jià)易得、儲(chǔ)量豐富、無毒或者毒性很小等特點(diǎn)[16-17]。有機(jī)染料最早是作為光敏化劑負(fù)載在一些半導(dǎo)體材料上，如TiO2、CdS以及ZnO等[18]。它可以有效拓展半導(dǎo)體吸收光譜響應(yīng)范圍，提高光解水制氫體系的產(chǎn)氫效率。因此有機(jī)光敏染料可以作為金屬配合物的替代物應(yīng)用于光解水產(chǎn)氫體系中。已經(jīng)有文獻(xiàn)報(bào)道將純有機(jī)染料成功應(yīng)用于光解水產(chǎn)氫體系，如氧雜蒽(熒光素及其衍生物)以及吖啶類[19-24]等。在這些報(bào)道中有機(jī)染料單獨(dú)作為光敏劑，不需要負(fù)載在半導(dǎo)體材料上，吸收光譜響應(yīng)范圍廣，產(chǎn)氫性能也比較好。此外，在2018年，我們課題組以三乙胺為電子犧牲劑，PdCl2+PPh3(1∶2，n/n)為制氫催化劑，以多咔唑取代苯腈的熱活化延遲熒光(TADF)染料作為光敏劑，首次開拓了基于TADF光敏染料的高效光解水催化體系，其催化光解水產(chǎn)氫總轉(zhuǎn)換數(shù)可達(dá)2 023[25]。因此，為了進(jìn)一步研究光敏染料的制氫體系，我們設(shè)計(jì)合成了一系列多環(huán)喹啉類有機(jī)染料，并對(duì)其在可見光光催化降解水產(chǎn)氫體系中的光敏性能進(jìn)行了研究。

1 實(shí)驗(yàn)部分

1.1 儀器與試劑

合成所用試劑均購自商業(yè)公司，所有溶劑都經(jīng)過重蒸除水。紫外光譜分析使用瓦里安公司的CARY100紫外?可見?近紅外分光光度計(jì)；NMR分析使用瑞士Bruker公司的Advance-Ⅲ核磁共振儀；熒光光譜分析使用SHIMADZU公司的RF-6000熒光分析儀；CV分析使用上海辰華的CHI660E電化學(xué)工作站；MS分析使用美國Thermo公司LCQ-advantage質(zhì)譜儀；光催化反應(yīng)所用光源為泊菲萊PLSSXE300UV 氙燈(輻照度：6 mW·m?2；波長：320～1 100 nm；輸出功率：1.5 W)。

1.2 合 成

1.2.1 喹嗪并[3，4，5，6-ija]喹啉及其衍生物的合成

喹嗪并[3，4，5，6-ija]喹啉及其衍生物的合成路線如圖1所示。

圖1 喹嗪并[3,4,5,6-ija]喹啉衍生物的合成路線Fig.1 Synthesis routes of quinazino[3,4,5,6-ija]quinoline derivatives

1.2.2 化合物1和2的合成

原料化合物1(1-芳基吡啶三氟甲磺酸鹽)和2(二芳基乙炔)以及所用催化劑的合成按照參考文獻(xiàn)[26-27]進(jìn)行。

1.2.3 不同取代基衍生物的合成

以3a為例，合成方法如下：氬氣保護(hù)下，將試劑1(0.152 g，0.5 mmol)、2(0.196 g，1.1 mmol)、催化劑[Cp*RhCl2]2(0.015 g，0.025 mmol)和醋酸銅(0.399 g，2 mmol)加入史萊克管中，最后加入乙腈5 mL，將油浴鍋溫度設(shè)置為130℃，攪拌12 h。反應(yīng)結(jié)束后將反應(yīng)液冷卻至室溫，過濾，所得粗品經(jīng)硅膠柱層析(V二氯甲烷∶V乙酸乙酯=5∶1)提純。其余衍生物的合成均參照3a進(jìn)行。

3a：淺黃色固體，收率70%。1H NMR(500 MHz，CDCl3)：δ8.23(t，J=8.2 Hz，1H)，8.05(d，J=8.2 Hz，2H)，7.97(s，3H)，7.41～7.34(m，16H)，7.32～7.28(m，4H)。13C NMR(125 MHz，CDCl3)：δ146.10，135.16，135.02，134.74,130.65,129.47,129.00,128.75，128.59，127.40，124.12。ESI-MS：[M?OTf]+m/z=508。

3b：黃色固體，收率69%。1H NMR(500 MHz，DMSO-d6)：δ8.56(s，1H)，8.06(d，J=8.3 Hz，2H)，7.90(d，J=20.5 Hz，2H)，7.63(s，1H)，7.50(t，J=7.4 Hz，4H)，7.47～7.42(m，4H)，7.40(dd，J=10.2，3.4 Hz，4H)，7.34(d，J=7.5 Hz，4H)，7.31(d，J=8.7 Hz，3H)。13C NMR(125 MHz,DMSO-d6)：δ162.91,160.95,145.20，141.91，141.80,135.13,133.92,132.64,131.41，130.29，129.14，127.65，126.68，124.97，124.16，116.01。ESI-MS：[M?OTf]+m/z=544。

3c：黃色固體，收率 71%。1H NMR(500 MHz，DMSO-d6)：δ8.60(s，1H)，8.53(s，2H)，8.25(s，2H)，7.92～7.91(m，4H)，7.84(dd，J=4.5，3.4 Hz，4H)，7.65(s，1H)，7.51(s，4H)，7.50(s，4H)，7.41(s，2H)。13C NMR(125 MHz，DMSO-d6)：δ152.87,145.03,143.22,141.19，139.88,138.03,133.41,132.80,130.26，129.13，127.47，126.68，125.56，124.40，124.21，118.33，111.58。ESIMS:[M?OTf]+m/z=558。

3d：棕黃色固體，收率75%。1H NMR(500 MHz，CDCl3)：δ9.19(s，1H)，8.61(s，1H)，8.23(s，2H)，7.68～7.68(m，1H)，7.55(s，4H)，7.52～7.52(m，4H)，7.45(s，2H)，7.33～7.32(m，8H)，2.33～2.33(m，6H)。13C NMR(125MHz，CDCl3)：δ159.20，146.30，142.45，140.72，136.06,132.36,132.32,131.81,129.43，129.24，128.76，127.47,127.42,126.24，125.22，124.93，124.13，21.29。ESI-MS：[M?OTf]+m/z=536。

3e：黃色固體，收率 70%。1H NMR(500 MHz，DMSO-d6)：δ8.56(s，1H)，8.52(s，2H)，8.22(d，J=2.0 Hz，2H)，7.86(s，1H)，7.84(s，4H)，7.51(s，4H)，7.50(s，5H)，7.01～7.01(m，4H)，3.35(s，6H)。13C NMR(125 MHz，DMSO-d6)：δ159.07，159.05，144.96，142.27，141.87,137.41,134.58,129.74,129.17，128.79，127.67，126.77，126.50，126.43，124.01，114.16，55.12。ESIMS：[M?OTf]+m/z=568。

3f：棕黃色固體，收率75%。1H NMR(500 MHz，CDCl3)：δ8.23(t，J=8.2 Hz，1H)，8.07(d，J=8.2 Hz，2H)，8.01(d，J=6.7 Hz，2H)，7.25(s，1H)，7.25～7.13(m，8H)，6.91(dd，J=8.4，3.8 Hz，8H)，3.82(s，12H)。13C NMR(125 MHz，CDCl3)：δ159.61，159.55，146.30，142.80，139.54,136.02,129.29,128.59,127.37，126.83，124.96，123.95，114.56，55.28。ESI-MS：[M?OTf]+m/z=628。

4a：棕色固體，收率 60%。1H NMR(500 MHz，DMSO-d6)：δ10.53(s，1H)，9.27(s，1H)，8.55(s，1H)，8.31(s，1H)，8.24(s，1H)，8.02(s，1H)，7.22(dd，J=26.4，8.6 Hz，4H)，6.99(dd，J=8.6，6.5 Hz，4H)，3.37(s，6H)。13C NMR(125 MHz,DMSO-d6):δ159.01,158.97,146.35,143.95,141.08,140.77,134.87,132.49，130.64，128.89，127.29,126.90,126.46,123.99,121.95，118.41，114.12，55.12。ESI-MS：[M?OTf]+m/z=392。

1.3 光解水產(chǎn)氫實(shí)驗(yàn)

以3a為例，實(shí)驗(yàn)過程如下：光催化制氫體系先進(jìn)行3次抽換氣，排除體系里面含有的空氣，使整個(gè)體系處于氬氣保護(hù)。將3a(1.8 mg，3.5μmol)和二氯化鈀(8.9 mg，5μmol)加入光反應(yīng)瓶中，加入10 mL溶劑(VTHF∶VTEA∶VH2O=4∶3∶1；THF為四氫呋喃，TEA為三乙胺)，用循環(huán)恒溫槽將體系穩(wěn)定在25℃，開啟攪拌，反應(yīng)體系由無色逐漸變?yōu)辄S色。開啟氙燈(不加濾光片)照射光反應(yīng)瓶，并使用U型管收集體系產(chǎn)生的氫氣，等到整個(gè)反應(yīng)體系不再產(chǎn)生氣體時(shí)，停止攪拌，關(guān)閉光源。同時(shí)每0.5 h觀察記錄一次產(chǎn)生的氣體體積，并用氣相色譜檢測收集的氣體。

1.4 光譜測試

取光敏劑3.5μmol，用四氫呋喃溶解后稀釋至50 mL容量瓶中，在室溫下進(jìn)行光物理化學(xué)測試。

1.5 循環(huán)伏安測試

配制0.1 mol·L?1四丁基六氟磷酸銨的四氫呋喃電解質(zhì)溶液，加入3.5μmol 3a，稀釋到100 mL容量瓶中，使用三電極進(jìn)行循環(huán)伏安電化學(xué)測試。循環(huán)伏安實(shí)驗(yàn)條件：工作電極為玻碳電極(d=2 mm)，對(duì)電極為鉑電極，參比電極為Ag/AgNO3電極(0.799 5 V vs NHE)，室溫，電解質(zhì)是已經(jīng)配好的 0.1 mol·L?1的四丁基六氟磷酸銨的四氫呋喃溶液，掃描速度100 mV·s?1，階躍電位2.5 mV，調(diào)制時(shí)間0.05 s，間隔時(shí)間0.5 s，最高電位1.9 V(vs Ag/AgNO3)，最低電位?2.0 V(vs Ag/AgNO3)。

2 結(jié)果與討論

2.1 光解水制氫性能研究

為研究這類喹嗪并[3，4，5，6-ija]喹啉衍生物(簡稱喹嗪并喹啉)的光敏化性能，選擇均相光解水產(chǎn)氫體系為測試平臺(tái)，以3a為模板光敏劑，對(duì)體系的催化劑、溶劑等影響因素進(jìn)行系統(tǒng)研究。

制氫催化劑是整個(gè)光催化制氫體系的重要組成部分，負(fù)責(zé)接收光敏劑的激發(fā)態(tài)能量然后催化分解水制氫，所以選擇合適的催化劑對(duì)整個(gè)光解水產(chǎn)氫體系就顯得尤為重要。以3a為光敏劑，分別對(duì)不同種類的催化劑進(jìn)行了篩選。由表1可知，常用的非貴金屬制氫催化劑如十二羰基三鐵、聯(lián)吡啶鈷和鎳等催化制氫性能較差；而貴金屬鈀具有較好的催化性能，其催化產(chǎn)氫的制氫總轉(zhuǎn)換數(shù)(TON)可達(dá)142。其原因可能是喹嗪并喹啉光敏劑的激發(fā)態(tài)能量更加容易轉(zhuǎn)移至鈀催化劑，但我們沒有觀察到鈀和光敏劑的配位作用?？瞻讓?duì)照實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，當(dāng)不使用任何催化劑時(shí)，光催化產(chǎn)氫體系幾乎不會(huì)有氣體產(chǎn)生。此外對(duì)催化劑二氯化鈀的用量進(jìn)行了優(yōu)化，當(dāng)催化劑用量為5μmol時(shí)TON值最高。由表1可知增加催化劑的用量并不能大幅度增強(qiáng)體系產(chǎn)氫性能?？赡艿脑蚴沁^量的二氯化鈀催化劑干擾光敏劑發(fā)生還原淬滅過程，進(jìn)而使整個(gè)體系的產(chǎn)氫性能下降，該現(xiàn)象和熒光淬滅實(shí)驗(yàn)結(jié)果一致。

此外，還研究了不同種類的溶劑對(duì)體系光催化制氫活性的影響，并對(duì)光敏劑3a在不同溶劑中的熒光強(qiáng)度進(jìn)行了測試。結(jié)果如表2和圖2所示，在光敏劑、催化劑、溫度和光源都一致的情況下，僅改變體系的溶劑種類，其催化制氫效果發(fā)生明顯變化。當(dāng)溶劑為THF、TEA、水時(shí)，制氫效果最好，體系的產(chǎn)氫量為5.6 mL(TON=142)；而當(dāng)溶劑為乙醇、TEA、水時(shí)，體系的產(chǎn)氫量降為4.3 mL(TON=109)，故改變?nèi)軇?duì)光催化降解水產(chǎn)氫體系的催化活性有明顯的影響，這在已有的文獻(xiàn)中有類似的報(bào)道[28-29]。根據(jù)相關(guān)文獻(xiàn)，活性變化的原因是溶劑種類的改變使得溶劑的光物理性質(zhì)發(fā)生了改變，故而對(duì)光敏劑和催化劑的光物理性質(zhì)也有一定的影響[30]；同時(shí)，溶劑也會(huì)影響光催化過程中產(chǎn)生的中間體穩(wěn)定性，進(jìn)而影響體系的電子轉(zhuǎn)移速率以及效率[31]，最終對(duì)體系的制氫活性產(chǎn)生影響。溶劑種類的熒光測試所得結(jié)論和產(chǎn)氫情況基本一致。

表1 光解水制氫中催化劑的性能Table 1 Performance of the catalysts in photolysis of water to produce hydrogen

表2 光解水制氫中溶劑的影響Table 2 Effect of the solvents in photolysis of water to produce hydrogen

圖2 光敏劑3a在不同溶劑中的熒光發(fā)射圖Fig.2 Fluorescence emission spectra of photosensitizer 3a in different solvents

以3a為光敏劑，研究其在單波長照射下制氫體系的產(chǎn)氫效率。分別用380、400、450 nm三種不同的波長進(jìn)行照射，結(jié)果如圖3所示，在380、400和450 nm波長下體系的產(chǎn)氫量最高分別為4.2、3.2和2.6 mL。

圖3 光敏劑3a在不同波長的光照下的產(chǎn)氫量Fig.3 Hydrogen production of photosensitizer 3a under different wavelengths of light

根據(jù)優(yōu)化的催化條件，著重研究了光敏劑的取代基效應(yīng)。從制氫實(shí)驗(yàn)結(jié)果(表3)可以看出，不添加光敏劑的體系基本沒有氫氣產(chǎn)生，說明在這個(gè)光解水體系中，只有喹嗪并喹啉具有吸收光的光敏作用。當(dāng)取代基為甲氧基時(shí)，光敏劑表現(xiàn)出很好的光敏活性，其中3e的光敏活性最好，制氫TON可達(dá)341。然而當(dāng)取代基為氟或氰基時(shí)，喹嗪并喹啉光敏劑制氫性能大大下降，TON僅為51和61?？赡艿脑蚴俏娮踊鶊F(tuán)的存在使得喹嗪并喹啉母核的電子云密度下降，不利于激發(fā)態(tài)電子轉(zhuǎn)移。而給電子基團(tuán)取代基則相反，根據(jù)相關(guān)文獻(xiàn)報(bào)道，給電子基團(tuán)的存在有利于電子從取代基轉(zhuǎn)移到喹嗪并喹啉母核，提高母核的電子云密度，因此激發(fā)態(tài)的光敏劑可以很好地將電子轉(zhuǎn)移給催化劑，實(shí)現(xiàn)催化質(zhì)子還原產(chǎn)氫[32-33]。但是當(dāng)甲氧基數(shù)量增加時(shí)，光敏劑的光敏活性有所下降，可能的原因是甲氧基數(shù)量的增加，使得3f的吸收光光譜發(fā)生紅移，同時(shí)也使得光敏劑的熒光量子效率下降。

表3 光敏劑取代基對(duì)光解水制氫的影響Table 3 Substitute effect of the photosensitizer for photolysis of water to produce hydrogen

2.2 光譜表征

2.2.1 紫外和熒光表征

由圖4和表4可知，四芳基取代喹嗪并喹啉3a～3f的可見光區(qū)的最大吸收峰主要位于420～460 nm之間，同時(shí)在400～425 nm附近有一個(gè)肩峰，可以歸屬于分子共軛體系的π→π*躍遷。二芳基取代吡啶并喹啉4a的最大吸收峰位于380 nm，在可見光區(qū)吸收較弱。表明隨取代基增加和母核的增大，3a～3f具有更大的共軛π環(huán)，促使其吸收峰發(fā)生了明顯紅移。芳基上的取代基對(duì)化合物的吸光性能也有明顯的影響，當(dāng)取代基為吸電子的氟(3b)或氰基(3c)時(shí)，與沒有取代基的3a相比，最大吸收峰幾乎沒有變動(dòng)，但摩爾吸光系數(shù)明顯下降。當(dāng)取代基為強(qiáng)供電子甲氧基時(shí)，3a～3f的摩爾吸光系數(shù)幾乎沒有變動(dòng)，但有明顯紅移。

圖4 光敏劑3a～3f和4a的紫外吸收光譜圖Fig.4 UV absorption spectra of photosensitizer 3a～3f and 4a

從圖5和表4可知，所測光敏劑3a～3f的最大熒光發(fā)射波長位于450～550 nm之間。它們的熒光量子產(chǎn)率在0.27～0.48之間。吸電子取代基可提高喹嗪并喹啉化合物的光致發(fā)光效率，同時(shí)熒光發(fā)射峰不會(huì)位移；而供電子取代基可進(jìn)一步提高熒光量子產(chǎn)率，同時(shí)熒光發(fā)射峰明顯紅移(最高可達(dá)26 nm)，其中含2個(gè)甲氧基的3e熒光量子產(chǎn)率最高，Φ3e=0.48。4a的熒光強(qiáng)度最低，熒光量子產(chǎn)率也小，原因是4a的苯環(huán)數(shù)量較少，空間位阻效應(yīng)較低，導(dǎo)致其不足以從結(jié)構(gòu)上抑制熒光濃度淬滅不利因素的影響[35]。

圖5 3a～3f和4a的熒光光譜圖Fig.5 Fluorescence emission spectra of 3a～3f and 4a

綜合光譜表征分析和光解水產(chǎn)氫結(jié)果，光敏劑3e不僅在可見光區(qū)有很好的吸收峰，且在450～550 nm之間也有良好的熒光發(fā)射峰。光敏劑3e所表現(xiàn)出的良好的光敏活性主要?dú)w結(jié)于取代基的電子效應(yīng)，甲氧基可以提高光敏劑在光催化體系中的光敏活性。但是從光敏劑的紫外吸收光譜圖可以看出，隨著甲氧基取代基數(shù)量增加，光敏劑的紫外吸收會(huì)發(fā)生明顯紅移，導(dǎo)致其光能利用效率降低，從而降低了制氫效果。

表4 光敏劑3a～3f和4a的光物理性質(zhì)Table 4 Photophysical of photosensitizer 3a～3f and 4a

2.2.2 熒光淬滅

為了更好地研究光催化產(chǎn)氫體系中電子的轉(zhuǎn)移過程，我們以光敏劑3e為例進(jìn)行了熒光淬滅實(shí)驗(yàn)。將3e(3.5μmol)加入四氫呋喃中，然后分別使用不同濃度三乙胺以及催化劑二氯化鈀作為淬滅劑，對(duì)3e的熒光進(jìn)行研究。以I0/I對(duì)CQ作圖，根據(jù)Sterm-Volmer方程(I0/I=1+KsvCQ)進(jìn)行線性擬合，即可求出淬滅常數(shù)Ksv。方程中I0為未加任何淬滅劑時(shí)3e的熒光強(qiáng)度；I為加淬滅劑后3e的熒光強(qiáng)度；CQ為淬滅劑濃度。從圖6和圖7可以看出，當(dāng)淬滅劑是三乙胺時(shí)，熒光淬滅效果非常明顯，說明光敏劑3e在三乙胺存在下發(fā)生了還原淬滅，Ksv=23 L·mol?1(圖 8)；當(dāng)淬滅劑是二氯化鈀時(shí)，隨著二氯化鈀濃度的增加，光敏染料也發(fā)生了熒光淬滅，但淬滅效果不是十分明顯。另外三乙胺用量遠(yuǎn)大于二氯化鈀，故光敏劑3e在光解水產(chǎn)氫體系中主要的淬滅方式是還原淬滅。

圖6 三乙胺對(duì)3e的熒光淬滅Fig.6 Fluorescence quenching of 3e by TEA

圖7 二氯化鈀對(duì)3e的熒光淬滅圖Fig.7 Fluorescence quenching of 3e by PdCl2

圖8 不同猝滅劑對(duì)光敏劑3e熒光淬滅的Sterm-Volmer圖Fig.8 Sterm-Volmer plots of quenching PS 3e fluorescence with different quenchers

2.3 電化學(xué)表征

圖9和圖10分別為光敏劑3a～3f以及4a的循環(huán)伏安氧化電位以及還原電位圖，光敏劑3a～3f的氧化還原電位相似，但取代基的影響仍然存在。氟取代基對(duì)還原電位影響較小，而氰基由于容易被還原，其還原電位明顯下降。在氧化電位中，氟取代基能小幅度提高光敏劑的氧化電位，而其他取代基都是降低了氧化電位，以甲氧基取代基最為明顯，與光敏劑的吸收峰檢測結(jié)果相符。

圖9 光敏劑3a～3g和4a的循環(huán)伏安圖(相對(duì)于Ag/AgNO3的氧化電位)Fig.9 Cyclic voltammograms of 3a～3g and 4a(Oxidation potential vs Ag/AgNO3)

圖10 3a～3g和4a的循環(huán)伏安圖(相對(duì)于Ag/AgNO3的還原電位)Fig.10 Cyclic voltammograms of 3a～3g and 4a(Reduction potential vs Ag/AgNO3)

3 結(jié) 論

設(shè)計(jì)并合成了一系列喹嗪并[3，4，5，6-ija]喹啉衍生物，這些衍生物在均相光解水制氫中表現(xiàn)出良好的光敏活性，制氫TON最高可達(dá)341。經(jīng)過吸收光譜以及熒光光譜和電化學(xué)研究，明確了喹嗪并[3，4，5，6-ija]喹啉衍生物的取代基效應(yīng)，發(fā)現(xiàn)強(qiáng)供電子的甲氧取代基能明顯提高喹嗪并[3，4，5，6-ija]喹啉衍生物的熒光量子效率(0.48)，并合理解釋了其光解水制氫活性好的原因。同時(shí)熒光淬滅實(shí)驗(yàn)表明，在均相光解水產(chǎn)氫體系中，光敏劑的主要淬滅途徑是還原淬滅。