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    二維電場分布對JBS二極管阻斷特性影響的仿真分析

    2019-12-26 11:57:44廉宇盟關(guān)艷霞
    微處理機(jī) 2019年6期
    關(guān)鍵詞:肖特基二極管電場

    廉宇盟,關(guān)艷霞

    (沈陽工業(yè)大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院, 沈陽110870)

    1 引 言

    現(xiàn)代電力電子技術(shù)已經(jīng)進(jìn)入了高頻化、集成化和智能化時(shí)代[1]。開關(guān)器件作為現(xiàn)代電力電子的核心器件,仍在不斷地向前發(fā)展,對二極管提出了更高的要求[2]。為了使二極管器件能夠應(yīng)用于更多不同場合,要求其具有工作頻率高、開關(guān)速度快、耐壓高等特點(diǎn),一種名為結(jié)勢壘控制肖特基二極管(JBS 二極管)的結(jié)構(gòu)被提出[3-4]。該結(jié)構(gòu)是在肖特基接觸周圍設(shè)置高摻雜的P+區(qū)來實(shí)現(xiàn)的,相較于肖特基二極管,可以更有效地提高反向阻斷電壓且保留快速開關(guān)的特點(diǎn)[5]。但P+結(jié)的出現(xiàn)也犧牲了一部分肖特基接觸面積,使正向?qū)娏髅芏仍黾恿薣6]。P+區(qū)的引入,使器件的電場呈現(xiàn)二維分布,此時(shí)可通過P+區(qū)寬度和結(jié)深的改變來改變[7]?;诖?,從二維電場分布入手,針對P+區(qū)寬度和結(jié)深對JBS 二極管反向阻斷特性的影響來展開討論。

    2 JBS 二極管工作原理

    JBS 二極管結(jié)構(gòu)示意圖如圖1 所示。當(dāng)施加正向電壓時(shí),肖特基結(jié)和PN 結(jié)均為正偏,當(dāng)正向電壓小于PN 結(jié)的開啟電壓、大于肖特基結(jié)的開啟電壓,JBS 將呈現(xiàn)肖特基二極管的單極型特性[8]。因?yàn)镻N結(jié)的存在,增加了肖特基接觸處的電流密度。電流流過肖特接觸后,通過P+區(qū)之間的未耗盡間隙,再到達(dá)漂移區(qū)的其他部分,最后擴(kuò)散到N+襯底。

    圖1 JBS 結(jié)構(gòu)示意圖

    當(dāng)施加反向電壓時(shí),PN 結(jié)和肖特基結(jié)均反偏,器件處于阻斷狀態(tài)。純肖特基的反向阻斷特性較差,是因?yàn)殡S著反向電壓的增加,其表面電場強(qiáng)度增大,肖特基結(jié)的鏡像勢壘降低效應(yīng)和隧穿效應(yīng)使得阻斷漏電流顯著增加。PN 結(jié)的引入在肖特基的半導(dǎo)體表面形成二維電場分布,由垂直PN 結(jié)所產(chǎn)生的橫向電場能夠降低肖特基表面的電場,使肖特基鏡像勢壘降低效應(yīng)和隧穿效應(yīng)減弱,阻斷特性得到改善。仿真可通過改變肖特基臺(tái)面尺寸和PN 結(jié)的結(jié)深來分析二維電場分布對JBS 阻斷特性的改善效果。

    3 SBD 二極管和JBS 二極管仿真

    3.1 SBD 二極管仿真

    用Silvaco TCAD 仿真軟件來模擬仿真SBD 二極管結(jié)構(gòu)及其橫向和縱向電場。仿真前,確定元胞間距為1.25μm,反向電壓為50V。根據(jù)如下公式:

    計(jì)算出N-漂移區(qū)的濃度為8×1015cm-3,然后確定襯底的濃度為1×1020cm-3。利用仿真軟件中的atlas 模塊進(jìn)行器件結(jié)構(gòu)仿真,仿真結(jié)果如圖2 所示。其后,選用遷移率受雜質(zhì)濃度影響的模型、遷移率受電場影響的模型、SRH 復(fù)合模型、俄歇復(fù)合模型和能帶變窄模型進(jìn)行反向阻斷特性仿真,再使用工具欄中的cutline 工具確定橫縱向電場,仿真結(jié)果如圖3 所示。

    圖2 仿真得到的SBD 二極管結(jié)構(gòu)

    圖3 仿真得到的SBD 二極管電場分布

    由圖中可以看出,SBD 二極管結(jié)構(gòu)的漂移區(qū)和金屬電極完全接觸,橫向電場均勻地分布在肖特基接觸的表面且保持恒定,最大電場強(qiáng)度發(fā)生在肖特基接觸表面且等于橫向電場,縱向電場從肖特基表面處的最大電場逐步減小。

    3.2 JBS 二極管仿真

    用Silvaco TCAD 仿真軟件來模擬仿真JBS 二極管結(jié)構(gòu)以及其橫向和縱向電場。確定元胞間距為1.25μm,漂移區(qū)濃度為8×1015cm-3,襯底濃度為1×1020cm-3。在JBS 二極管中,增加了高摻雜且為高斯分布的P+結(jié),確定P+結(jié)結(jié)深為0.5μm,濃度為1×1019cm-3。利用仿真軟件中的atlas 模塊進(jìn)行器件結(jié)構(gòu)仿真,仿真結(jié)果如圖4 所示。其后,選用遷移率受雜質(zhì)濃度影響的模型、遷移率受電場影響的模型、SRH復(fù)合模型、俄歇復(fù)合模型和能帶變窄模型進(jìn)行反向阻斷特性仿真,再使用工具欄中的cutline 工具確定橫縱向電場,結(jié)果如圖5 所示。

    圖4 仿真得到的JBS 二極管結(jié)構(gòu)

    圖5 仿真得到的JBS 二極管電場分布

    由圖中可以看出,P+區(qū)的存在阻擋了一部分肖特基接觸,在肖特基接觸處減小了橫向電場,使得中心處縱向電場開啟電壓減?。恍ぬ鼗畲箅妶鰪?qiáng)度不發(fā)生在表面處。SBD 二極管和JBS 二極管的阻斷特性對比見圖6。結(jié)合圖中的對比情況與上述原理分析,可證明:添加了一個(gè)高摻雜的P+結(jié)后,可有效地抑制肖特基勢壘降低效應(yīng),增大阻斷電壓峰值,從而改善了器件的反向阻斷特性。

    圖6 SBD 與JBS 二極管的阻斷特性對比

    4 PN 結(jié)對JBS 阻斷特性的影響分析

    4.1 PN 結(jié)寬度的影響

    在JBS 中,PN 結(jié)的存在改變了肖特基臺(tái)面的垂直電場分布,進(jìn)而能夠改善其阻斷特性。在整個(gè)器件結(jié)構(gòu)中,PN 結(jié)所占面積的比例對阻斷特性有直接的影響??稍诒WCP+區(qū)的橫向?qū)挾群蛨A柱形弧度以及結(jié)深保持不變的前提下,通過改變元胞寬度來調(diào)整PN 結(jié)所占面積的比例。在仿真中,P+區(qū)橫向?qū)挾葹?.765μm,結(jié)深為0.5μm,元胞寬度設(shè)定為1.0μm、1.25μm、1.5μm 和2.0μm,即PN 結(jié)相對寬度(PN 結(jié)寬度與元胞寬度的比值)分別為0.765、0.612、0.51、0.383。基于上述參數(shù)設(shè)定,對其構(gòu)成的結(jié)構(gòu)進(jìn)行電場分布和阻斷特性的仿真。

    圖7 為不同PN 結(jié)相對寬度下肖特基表面的橫向電場分布情況的仿真結(jié)果。從圖中可以看出,PN結(jié)的引入使肖特基表面的電場不再恒定,而是越接近PN 結(jié)的肖特基表面電場強(qiáng)度越小,在肖特基中心處電場強(qiáng)度達(dá)到最大值;隨著PN 結(jié)相對寬度的增加,最大電場強(qiáng)度減小。圖8 為不同PN 結(jié)相對寬度下,肖特基結(jié)中心處的縱向電場分布。從中可以看出,PN 結(jié)的引入使肖特基最大電場強(qiáng)度不發(fā)生在表面,而且隨著PN 結(jié)相對寬度的增加,最大電場強(qiáng)度距表面的距離也要增加。

    圖7 不同臺(tái)面寬度下的表面電場

    圖8 不同臺(tái)面寬度下的中心處縱向電場

    PN 結(jié)的存在使肖特基表面電場強(qiáng)度減小,這使得肖特基二極管的鏡像力勢壘降低效應(yīng)和隧穿效應(yīng)減弱,因此阻斷特性能夠得到改善。圖9 為不同PN結(jié)相對寬度下的阻斷特性的對比。從圖中可以看出,PN 結(jié)的引入改善了器件的阻斷特性,漏電流減小,阻斷電壓提高,而且隨著PN 結(jié)相對寬度的增加,改善效果更加明顯。在反向電壓為60V 時(shí),PN 結(jié)相對寬度分別為0.383、0.51、0.612 和0.765 時(shí)的漏電流分別為0.58nA、0.24nA、0.15nA 和0.09nA。隨著PN相對寬度的增加,轉(zhuǎn)折電壓有所提高,最終接近PN結(jié)的雪崩擊穿電壓。

    圖9 不同臺(tái)面寬度下的JBS 反向阻斷特性

    4.2 結(jié)深的影響

    PN 結(jié)的結(jié)深也對JBS 二極管的二維電場分布和反向特性有影響。為了進(jìn)行比較,確定該結(jié)構(gòu)的肖特基接觸面積相對于元胞寬度為1.25μm 的整流器的結(jié)構(gòu)尺寸。其中結(jié)深分別取0.5μm,1.0μm 和1.5μm。在此,還增加一個(gè)接近襯底的結(jié)深以作對比。圖10 為不同結(jié)深下的肖特基表面橫向電場的變化;圖11 為不同結(jié)深下肖特基臺(tái)面中心處縱向電場分布的變化,圖12 為不同結(jié)深下的JBS 的阻斷特性。

    圖10 不同結(jié)深下的表面橫向電場

    圖11 不同結(jié)深下的肖特基中心處縱向電場

    從這些仿真結(jié)果中可以看出,隨著PN 結(jié)結(jié)深的增加,橫向電場作用使表面的電場減小,同時(shí)使最大電場不發(fā)生在肖特基表面位置。

    由圖10 和11 還可知,結(jié)深越接近襯底,表面處的電場越小,最大電場位置越遠(yuǎn)離表面。當(dāng)結(jié)深接近襯底時(shí),肖特基表面的電場強(qiáng)度與PN 結(jié)表面的電場強(qiáng)度近似相等。這也意味著,其阻斷特性與PN 結(jié)的阻斷特性近似。圖12 也證明了這一點(diǎn),隨著結(jié)深的增加,阻斷特性得到改善,漏電流減小,阻斷電壓增加。

    5 結(jié) 束 語

    JBS 二極管中的PN 結(jié)使肖特基結(jié)構(gòu)的電場呈二維分布,改變了純肖特基二極管的一維電場分布,進(jìn)而改善了肖特基二極管的阻斷特性。減小肖特基面積,增加PN 結(jié)的結(jié)深皆有利于JBS 阻斷特性的提高。PN 結(jié)的存在可以減小反向漏電流,提高擊穿電壓。適當(dāng)調(diào)整接觸面積和結(jié)深參數(shù),可切實(shí)有效地提升和改善器件的特性,此方法可應(yīng)用在器件的實(shí)際生產(chǎn)中,也可為新品研發(fā)提供思路。

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