王 卓, 李銀博, 王梟穎, 范家豪, 易志輝, 孔夢(mèng)蕾
(陜西科技大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院, 陜西 西安 710021)
本工作選用ST作為固定量,NBT作為變量加入PVDF基體中.由于ST是一種優(yōu)異的無(wú)鉛順電相陶瓷,在1 kHz下其介電常數(shù)可以達(dá)到300,將ST添加入PVDF中,不僅可以提供較高的介電常數(shù),也可以提供較低的剩余極化.NBT同時(shí)具有高的介電常數(shù)和大的飽和極化,因此被視為提高儲(chǔ)能密度的優(yōu)異填料.
本實(shí)驗(yàn)采用傳統(tǒng)固相法制備ST粉體,以TiO2和SrCO3為原料,按1∶1的比例配料,并使用行星式球磨機(jī)進(jìn)行球磨,80 ℃進(jìn)行烘干烘干,使用馬弗爐進(jìn)行煅燒,手工研磨,過(guò)300目篩等步驟制備ST粉體.其中煅燒制度為800 ℃/4 h,升溫速率為2 ℃/min.
本實(shí)驗(yàn)采用微波水熱法,以Bi(NO3)3·5H2O,Ti[(OC4H9)4]為原料,按摩爾比1∶1進(jìn)行配料,加入NaOH作為礦化劑,其中NaOH的濃度為12 mol/L,放入微波水熱儀中在180 ℃下微波水熱30 min制備NBT.由于微波水熱法可以有效地降低NBT的粒徑,與水熱法相比,微波水熱法可以極大的降低反應(yīng)時(shí)間,這有利于控制NBT的粒徑.實(shí)驗(yàn)主要調(diào)控NBT的含量,NBT的含量依次為x=0、0.5 vol.%、1.5 vol.%、2.5 vol.%.
實(shí)驗(yàn)使用DMF溶解聚偏氟乙烯.攪拌4 h后,加入1 vol.%的ST粉體攪拌2 h后,接著加入不同體積分?jǐn)?shù)的NBT粉體,連續(xù)攪拌.在攪拌12 h后,采用流延法制備了NBT-ST/PVDF復(fù)合膜.然后在100 ℃下干燥12 h后,在200 ℃下熱處理7 min,最后在冰水中淬火,制備出(1-x)(0.01ST/0.99PVDF)-xNBT(x=0,0.5,1.5,2.5)復(fù)合膜.
將ST和NBT粉體樣品一部分進(jìn)行研磨過(guò)300目篩后進(jìn)行XRD測(cè)試,測(cè)試采用X射線衍射儀(XRD,D/max2200PC,日本理學(xué);Cu靶Kα,λ=0.154 06 nm)進(jìn)行分析.復(fù)合膜的斷面形貌是使用掃描電子顯微鏡(SEM,S4800,日本理學(xué))進(jìn)行觀察的.其斷面將膜在液氮中淬斷得到的.復(fù)合膜的樣品進(jìn)行噴金后進(jìn)行介電性能與鐵電性能測(cè)試.介電性能測(cè)試主要探究介電常數(shù)和介電損耗隨頻率的變化趨勢(shì),介電性能測(cè)試采用精密阻抗分析儀(E4980A,Agilent,USA).鐵電性能測(cè)試主要探究極化及電場(chǎng)擊穿強(qiáng)度大小,采用鐵電測(cè)試儀(Premier II,Radiant,USA)測(cè)試樣品的電滯回線.
圖1(a)為ST粉體的XRD圖譜.其晶格常數(shù)a=0.393 6 nm,可判斷該晶體是典型的立方晶系鈦酸鍶.XRD圖譜中未出現(xiàn)其他特征峰,與標(biāo)準(zhǔn)卡片對(duì)比(PDF#35-0734)可知,所有的衍射峰均與標(biāo)準(zhǔn)卡片一一對(duì)應(yīng), XRD所能分辨的范圍內(nèi),無(wú)第二相存在,表明所制備的粉體為純凈的ST粉體,沒(méi)有其他雜相的產(chǎn)生.
(a)ST粉體的XRD圖
(b)NBT粉體的XRD圖圖1 粉體的XRD圖
圖1(b)為NBT粉體的XRD圖譜.其在(110)、(101)、(012)、(220)、(-231)、(003)、(202)、(-124)晶面都存在衍射強(qiáng)度較高的X光衍射特征峰,其晶格常數(shù)a=0.549 1 nm,c=0.66 75 nm,可以判斷該晶體是典型的鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的單斜晶系.與標(biāo)準(zhǔn)卡片(PDF#46-0001)對(duì)比可知,所有的衍射峰均屬于NBT粉體的衍射峰,沒(méi)有其他的峰出現(xiàn),證明所制備的粉體為純凈的NBT粉體.
圖2為填充不同含量NBT的1 vol.%ST/PVDF復(fù)合膜的SEM圖,所有組分的SEM圖均與圖2中所展示的SEM圖類似.圖2(a)為未填充NBT的1 vol.% ST/PVDF復(fù)合膜的SEM圖,圖中塊狀物為ST,其中ST粉體的粒徑大小為2μm左右,卷曲絮狀物為PVDF,表明ST粉體成功的填充入PVDF基體中從圖中可以看出PVDF緊密的圍繞在ST粉體的周圍,這有利于膜的致密度的提高.圖2(b)為0.5 vol.% NBT-1 vol.% ST/PVDF復(fù)合膜的SEM照片,從圖中可以看出通過(guò)微波水熱法制成的NBT顆粒較小,填充入ST和NBT的空隙處,NBT的加入填補(bǔ)了復(fù)合膜的空隙缺陷,這有利于復(fù)合膜的質(zhì)量的提高,可以有效的提高膜的擊穿場(chǎng)強(qiáng).
(a)1 vol.% ST/PVDF復(fù)合膜的SEM圖
(b)0.5 vol.% NBT-1vol.%ST/PVDF復(fù)合膜的SEM圖圖2 復(fù)合膜的SEM圖
圖3(a)為不同NBT含量的復(fù)合膜在室溫的介電數(shù)隨頻率變化的曲線,測(cè)試頻率范圍為20 Hz~2 MHz.隨著頻率的增加,復(fù)合膜的介電常數(shù)不斷下降,這是由于隨著頻率的增加,空間電荷極化退出,復(fù)合膜中只有電子和離子位移極化兩種極化方式的作用.NBT的加入可以提高復(fù)合膜的介電常數(shù),隨著NBT含量的增加,相對(duì)介電常數(shù)從12左右逐漸升高到23左右,說(shuō)明隨著NBT含量升高,復(fù)合膜的相對(duì)介電常數(shù)也在升高,這是由于粉體的相對(duì)介電常數(shù)較大,填料體積分?jǐn)?shù)的增加使得 NBT-ST/PVDF 復(fù)合膜的相對(duì)介電常數(shù)也隨之增大.
圖3(b)為不同NBT含量的復(fù)合膜在室溫的介電損耗隨頻率變化的曲線.不同NBT含量的復(fù)合膜的介電損耗頻譜的形狀和位置都基本一致,呈現(xiàn)先降低后升高的趨勢(shì).顯然這里存在一個(gè)松弛的過(guò)程,隨著頻率的進(jìn)一步升高,電導(dǎo)損耗降低,但是松弛極化開(kāi)始逐漸跟不上電場(chǎng)頻率的變化,開(kāi)始出現(xiàn)滯后現(xiàn)象,因而產(chǎn)生損耗.由于NBT的含量升高,NBT自身帶來(lái)的介電損耗,由于NBT含量增大,漏電電流增大,因此損耗升高;另一方面,填料分散的均勻程度也會(huì)對(duì)材料的損耗由重要影響.當(dāng)NBT摻入量增加到一定時(shí),在PVDF基體中難以做到均勻分散,會(huì)發(fā)生不同程度的團(tuán)聚,NBT和PVDF之間形成了更加復(fù)雜的界面層,也可能導(dǎo)致?lián)p耗的升高.
(a)介電常數(shù)圖
(b)介電損耗圖圖3 室溫下NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的的介電常數(shù)和介電損耗隨頻率變化圖
圖4為NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的交流電導(dǎo)率隨頻率的變化圖.如圖4所示,電導(dǎo)率隨著頻率的增加而增加.由于NBT含量的增加,電導(dǎo)率也有升高的趨勢(shì).從圖中可以看出,不同含量NBT的引入,NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的電導(dǎo)率的也不同.隨著NBT填充量的增加,NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的電導(dǎo)率也隨之提高.在較低頻率時(shí),隨NBT填充體積分?jǐn)?shù)的增加,其電導(dǎo)率的增加幅度較大,在頻率較高時(shí),即使NBT填充體積分?jǐn)?shù)增加,電導(dǎo)率的增加幅度也很小.加入0.5%NBT時(shí),復(fù)合膜的電導(dǎo)率最小,隨著NBT含量的增加,復(fù)合膜的電導(dǎo)率也越來(lái)越高,這主要是由于過(guò)量NBT粉體引入的同時(shí),NBT粉體之間會(huì)發(fā)生團(tuán)聚,導(dǎo)致在復(fù)合膜中出現(xiàn)更多的缺陷,從而導(dǎo)致了復(fù)合膜的電導(dǎo)率的增加.
圖4 NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的的交流電導(dǎo)率隨頻率變化圖
圖5(a)為NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的電滯回線,當(dāng)NBT含量為0.5%時(shí),其擊穿最大,達(dá)到了410 kV/cm.當(dāng)添加量繼續(xù)增大后,明顯觀察到其擊穿場(chǎng)強(qiáng)降低.這是由于在接近NBT填料和聚偏氟乙烯的聚合物之間的界面,鏈?zhǔn)蔷o密結(jié)合的,在這些NBT填料的區(qū)域的聚合物鏈的流動(dòng)性降低.電荷載體通過(guò)聚合物鏈來(lái)進(jìn)行傳輸,但由于在界面區(qū)域的聚合物鏈的緊密結(jié)合,使得其流動(dòng)性降低,導(dǎo)致電荷載體的傳輸被抑制,從而導(dǎo)致了擊穿場(chǎng)強(qiáng)的升高.而隨著填充體積分?jǐn)?shù)的繼續(xù)增高,填料粒子易于團(tuán)聚,導(dǎo)致復(fù)合材料中出現(xiàn)氣孔,造成復(fù)合材料的致密性下降.當(dāng)填料的體積分?jǐn)?shù)很高時(shí),粒子的分散性下降,黏結(jié)強(qiáng)度低,密度大,加工性能變差.在此情況下,不僅導(dǎo)致介電常數(shù)降低,介電損耗增大,而且降低了材料的擊穿強(qiáng)度.
另一方面,由于復(fù)合膜的電擊穿強(qiáng)度與材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)的均勻程度有密切的聯(lián)系,因此發(fā)生被擊穿現(xiàn)象的部位總是在材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)最薄弱的部位.高含量的NBT發(fā)生團(tuán)聚,在體系內(nèi)部或表面形成孔隙或者氣孔等缺陷,這些缺陷的存在使得該處的絕緣能力減弱,在強(qiáng)電場(chǎng)作用下,這些缺陷處首先發(fā)生局部放電,導(dǎo)致材料被擊穿,因此擊穿強(qiáng)度會(huì)發(fā)生下降.
對(duì)于材料的擊穿場(chǎng)強(qiáng)的規(guī)律的歸納總結(jié)可以用韋布爾 (Weibull) 分布來(lái)進(jìn)行[16],其數(shù)學(xué)表達(dá)式如式(1)、(2)、(3)所示:
xi=ln(Ei)
(1)
(2)
(3)
式(1) 、(2)中:xi,yi為第i個(gè)試樣擊穿場(chǎng)強(qiáng)韋布爾分布的坐標(biāo);Ei為第i個(gè)試樣的擊穿場(chǎng)強(qiáng),kV·cm-1;式 (3)中:Pi為第i個(gè)試樣測(cè)試時(shí)被擊穿的概率;i為試樣編號(hào);n為同一組分被測(cè)樣品數(shù).
當(dāng)n個(gè)試樣的擊穿場(chǎng)強(qiáng)按照E1≤E2≤E3≤……≤Ei≤……≤En順序排列時(shí),yi與xi之間存在線性關(guān)系,其斜率即為韋布爾模數(shù)m.韋布爾模數(shù)反映了鐵電材料多次測(cè)得的擊穿場(chǎng)強(qiáng)的可靠性.圖5(b)展示了NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的韋布爾分布圖.圖中所有的韋布爾模量均大于1,說(shuō)明數(shù)據(jù)是可靠的.
(a)電滯回線
(b)韋布爾分布圖圖5 NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的電滯回線圖和韋布爾分布圖
圖6為NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的儲(chǔ)能密度和儲(chǔ)能效率圖.如圖6(a),在NBT含量為0.5 vol.%時(shí),復(fù)合膜的儲(chǔ)能密度是最大的,達(dá)到8.5 J/cm3.這是由于添加0.5 vol.% NBT時(shí)的復(fù)合膜的具有最大的擊穿場(chǎng)強(qiáng).從圖6(b)可以看出,在相同的電場(chǎng)下,復(fù)合膜的儲(chǔ)能效率最大的是0.5 vol.% NBT,這是由于添加微量的NBT可以減少?gòu)?fù)合膜的缺陷,提高了膜的致密度,降低了膜的損耗.而儲(chǔ)能效率最低的是NBT含量為2 vol.%的組分,這是由于在NBT添加量較大時(shí),不可避免的引入了一些雜質(zhì)和缺陷,從而導(dǎo)致儲(chǔ)能效率的下降,這一點(diǎn)可以從介電損耗中體現(xiàn).綜合圖6(a)和(b),可知0.5 vol.%NBT的組分具有最好的儲(chǔ)能密度和儲(chǔ)能效率.這未來(lái)可能被用于柔性電容器,可穿戴設(shè)備等領(lǐng)域.
(a)儲(chǔ)能密度
(b)儲(chǔ)能效率圖6 NBT-ST/PVDF復(fù)合膜的儲(chǔ)能密度圖和儲(chǔ)能效率圖
(1)隨著NBT含量的升高,復(fù)合材料的介電常數(shù)也呈現(xiàn)有規(guī)律的升高趨勢(shì),而損耗并沒(méi)有發(fā)生明顯變化,即說(shuō)明NBT的加入提高了材料介電常數(shù).
(2)少量NBT的加入可以提高復(fù)合膜的擊穿場(chǎng)強(qiáng),隨著NBT添加量的進(jìn)一步提高,擊穿場(chǎng)強(qiáng)急劇下降.
(3)NBT含量為0.5%時(shí),復(fù)合膜具有最大的儲(chǔ)能密度,達(dá)到8.5 J/cm3.