孫霄霄
(牡丹江師范學(xué)院物理與電子工程學(xué)院,牡丹江 157012)
第五主族元素M(Bi, Sb, As)和鹵族元素碘(I)組成的二元化合物MI3在零溫零壓下是空間群為R-3的菱方結(jié)構(gòu),其中M原子與周圍的6個(gè)I原子構(gòu)成稍微扭曲的八面體結(jié)構(gòu)。MI3是典型的層狀結(jié)構(gòu)材料,可以看作是片層沿C軸方向上交替堆垛而成,其中的每一層都是由I-M-I平面構(gòu)成。近年來(lái),隨著微電子技術(shù)的發(fā)展,具有層狀結(jié)構(gòu)特征的金屬碘化物,包括BiI3、SbI3和AsI3被廣泛關(guān)注,可以用作鹵素冶金、納米材料、半導(dǎo)體、室溫下γ射線探測(cè)器或X射線數(shù)字成像傳感器的制作材料[1-4],有著很好的研究?jī)r(jià)值和廣闊的應(yīng)用前景。但是目前金屬碘化物工程化應(yīng)用的主要瓶頸是難以生長(zhǎng)出足夠大尺寸的晶體和室溫下晶體結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定。最近,Lintereur研究團(tuán)隊(duì)成功生長(zhǎng)出可以用作γ射線探測(cè)器的BiI3晶體[5],實(shí)驗(yàn)上的成功激發(fā)繼續(xù)深入探索此類材料的物理性質(zhì),為進(jìn)一步的實(shí)驗(yàn)合成和理論研究提供指導(dǎo)。由于同主族元素存在相似的性質(zhì),所以對(duì)于同主族元素替換的二元化合物性質(zhì)的研究非常重要。
早在1966年,Keller等[6]利用X射線衍射方法測(cè)量出BiI3的晶格參數(shù),a=b=0.752 nm,c=2.072 nm。1996年,Molnár等[7]利用紅外光譜實(shí)驗(yàn)和氣相電子衍射方法對(duì)SbI3和BiI3的分子結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究。Saitoh等[8]在2000年通過(guò)拉曼散射實(shí)驗(yàn)測(cè)出在壓強(qiáng)為1.66 GPa時(shí),AsI3會(huì)發(fā)生結(jié)構(gòu)相變。2002年,Virko等[9]利用密度函數(shù)方法和第一性原理方法計(jì)算了金屬碘化物MI3(M=As, Sb, Bi)的分子結(jié)構(gòu)和振動(dòng)譜。2008年,Yorikawa等[10]利用Hartree-Fock近似對(duì)BiI3的電子性質(zhì)進(jìn)行了研究。2010年,Trotter研究了AsI3的晶格常數(shù),a=b=0.721 nm,c=2.144 nm[11]。
目前,對(duì)MI3(M=Bi, Sb, As)這類化合物的力學(xué)性質(zhì)和電子結(jié)構(gòu)尚缺乏統(tǒng)一認(rèn)識(shí),所以有必要開展此方面的研究。本文利用基于密度泛函理論的第一性原理計(jì)算方法,在零溫零壓下對(duì)MI3(M=Bi, Sb, As)的結(jié)構(gòu)、電子和彈性性質(zhì)進(jìn)行了系統(tǒng)的理論研究。
本文的計(jì)算均在基于密度泛函理論的第一性原理框架下采用CASTEP軟件包完成[12]。其中電子和離子間相互作用采用超軟贗勢(shì)(USPP),電子和電子之間的交換關(guān)聯(lián)作用采取廣義梯度近似(GGA)進(jìn)行處理。外層價(jià)電子組態(tài)為:Bi的6s26p3,I的5s25p5,Sb的5s25p3,As的4s24p3,其余軌道電子視為芯電子。平面波截?cái)嗄茉O(shè)置為300 eV。第一布里淵區(qū)k網(wǎng)格點(diǎn)的設(shè)置采用Monkhost-Pack方案,選取4×4×4以確保體系總能量能夠很好的收斂。自洽(SCF)計(jì)算的收斂閾值設(shè)置為5.0×10-7eV/atom,體系總能量的收斂至5×10-6eV/atom,最大應(yīng)力偏差保證低于0.02 GPa,每個(gè)原子上的最大受力低于0.1 eV/nm,原子的最大位移為5.0×10-5nm。采用Voigt-Reuss-Hill近似計(jì)算體模量、剪切模量、楊氏模量和泊松比。
圖1 R-3相MI3(M=Bi, Sb, As)的晶胞結(jié)構(gòu)模型,深色球和淺色球分別代表I和M原子 Fig.1 Crystal structure of MI3(M=Bi, Sb, As) with rhombohedral R-3 phase, the dark and light balls represent I and M atoms, respectively
為了找到MI3(M=Bi, Sb, As)在零壓下的穩(wěn)定結(jié)構(gòu),在之前的工作中對(duì)多種具有競(jìng)爭(zhēng)力的AX3型晶體結(jié)構(gòu)的焓進(jìn)行計(jì)算,發(fā)現(xiàn)R-3結(jié)構(gòu)的焓最低,是零壓下的最穩(wěn)定結(jié)構(gòu)[1-2]。MI3(M=Bi, Sb, As)的晶體結(jié)構(gòu)屬于菱方結(jié)構(gòu),空間群為R-3,國(guó)際群號(hào)是148,每個(gè)晶胞中包含6個(gè)MI3分子式,晶體結(jié)構(gòu)模型如圖1所示,其中M表示金屬原子,I表示碘原子。BiI3的晶格常數(shù)為a=b=0.752 nm,c=2.072 nm,α=β=90°,γ=120°[6]。Bi原子位于Wyckoff的6c (0.0000,0.0000, 0.1693)位置,I原子占據(jù)18f (0.3322,0.3146 ,0.0797)格點(diǎn)位置。SbI3的晶格常數(shù)為a=b=0.748 nm,c=2.090 nm,α=β=90°,γ=120°[13]。Sb原子占據(jù)Wyckoff的6c(0.0000, 0.0000, 0.1820)格點(diǎn)位置,I原子位于18f(0.3415, 0.3395, 0.0805)位置。AsI3的晶格常數(shù)為a=b=0.725 nm,c=2.155 nm,α=β=90°,γ=120°[14]。As原子位于6c (0.0000,0.0000, 0.1902)格點(diǎn)位置,I原子占據(jù)18f (0.3522, 0.3259, 0.0858)網(wǎng)格位置。
經(jīng)過(guò)幾何優(yōu)化,計(jì)算得到的BiI3,SbI3和AsI3的平衡結(jié)構(gòu)參數(shù)以及可用實(shí)驗(yàn)值列于表1。從表1可以看到,BiI3具有最大的體積和晶格參數(shù)。本文計(jì)算得到的理論值與實(shí)驗(yàn)值符合的很好,偏差在0.06%~4.2%之間,說(shuō)明該計(jì)算方法和參數(shù)設(shè)置是合理的。
生成焓是指原子由單質(zhì)合成化合物過(guò)程中所釋放的能量,其關(guān)系式如下:
(1)
表1 MI3(M=Bi, Sb, As)的晶格常數(shù)a,b,c,單胞體積V0,生成焓ΔHTable 1 Calculated lattice parameters a, b and c, unit cell volume V0,enthalpy of formation ΔH for MI3(M=Bi, Sb, As)
材料的彈性性質(zhì)常常與固體聲子譜、狀態(tài)方程、內(nèi)部原子勢(shì)等密切相關(guān),對(duì)于分析材料的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、硬度、化學(xué)鍵的性質(zhì)、彈性各向異性特征、熱力學(xué)性質(zhì)等都具有很重要的作用。菱方晶體有6個(gè)獨(dú)立的彈性常數(shù)C11,C12,C13,C33,C14和C44。計(jì)算得到的零壓下MI3(M=Bi, Sb, As)的彈性常數(shù)如表2所列。
表2 計(jì)算得到的零壓下MI3(M=Bi, Sb, As)的彈性常數(shù)Cij、體模量B、剪切模量G、B/G值、楊氏模量E、泊松比ν和德拜溫度ΘDTable 2 Calculated elastic constants Cij, bulk modulus B,shear modulus G,B/G ratio,Young's modulus E, Poisson's ratio ν, and Debye temperature ΘD for MI3(M=Bi, Sb, As) at zero pressure
對(duì)于穩(wěn)定結(jié)構(gòu),彈性常數(shù)Cij需要滿足Born-Huang力學(xué)穩(wěn)定準(zhǔn)則[15]:
(2)
計(jì)算表明,BiI3,SbI3和AsI3在零壓下均滿足力學(xué)穩(wěn)定標(biāo)準(zhǔn),是力學(xué)穩(wěn)定的,能夠穩(wěn)定存在。利用彈性常數(shù),根據(jù)Voigt-Reuss-Hill (VRH)近似[16]可以計(jì)算材料的彈性模量,公式如下:
9BV=(C11+C22+C33)+2(C12+C23+C31)
(3)
15GV=(C11+C22+C33)-2(C12+C23+C31)+3(C44+C55+C66)
(4)
1/BR=(S11+S22+S33)+2(S12+S23+S31)
(5)
15/GR=4(S11+S22+S33)-4(S12+S23+S31)+3(S44+S55+S66)
(6)
其中,Sij=1/Cij。BV和GV分別是Voigt近似下的體模量和剪切模量,BR和GR分別是Reuss近似下的體模量和剪切模量。根據(jù)Hill平均可以進(jìn)一步估算材料的剪切模量G、體模量B、楊氏模量E和泊松比ν,即
G=(GR+GV)/2,B=(BR+BV)/2
(7)
(8)
BiI3,SbI3和AsI3的體模量B、剪切模量G、楊氏模量E、泊松比ν的計(jì)算結(jié)果如表2所列。結(jié)果表明,這3種化合物的體模量、剪切模量、楊氏模量和泊松比的相對(duì)大小關(guān)系一致,依次為SbI3>BiI3>AsI3。體模量B是表征晶體對(duì)抗體積變化的物理量,剪切模量G能夠表征材料抵抗塑性形變的能力。從表2可以看出,BiI3,SbI3和AsI3的體模量都較小,說(shuō)明體系具有較強(qiáng)的可壓縮性,其中AsI3抗體積變化的能力最弱,SbI3最強(qiáng)。較小的剪切模量意味著原子間存在較弱的方向性鍵。SbI3的剪切模量最大,這與它有較高的C44和C11有關(guān),大的C44和C11有助于各向同性剪切模量的提高。SbI3原子間的方向性共價(jià)鍵是最強(qiáng)的,其次是BiI3,AsI3最弱。
B/G比值可以用來(lái)判斷材料的延性(脆性)。根據(jù)Push經(jīng)驗(yàn),B/G=1.75是區(qū)分延性和脆性的臨界值,B/G的值越大,固體越軟,延性越好。計(jì)算得到SbI3的B/G=1.85,表明這個(gè)材料是延性材料。BiI3和AsI3的B/G值分別為1.70和1.45,都小于1.75,說(shuō)明BiI3和AsI3是脆性材料。
泊松比ν能夠反映晶體抵抗剪切的穩(wěn)定性,也與材料的體積變化相關(guān)。ν值一般在-1~0.5之間,泊松比越大,說(shuō)明材料彈性形變中體積變化越小,可塑性越好。從表2可以看到,這3種材料的泊松比都不大,說(shuō)明材料在彈性形變過(guò)程中體積變化很大,在剪切上相對(duì)不穩(wěn)定。另外,泊松比也提供了關(guān)于化學(xué)鍵結(jié)合性質(zhì)的信息,對(duì)于原子間的結(jié)合力是中心力的固體,ν=0.25是下限值,ν=0.5是上限值,相當(dāng)于具有無(wú)限大的彈性各向異性。所以,BiI3和SbI3原子間的力是中心力,而AsI3原子間是非中心力。
材料的彈性各向異性可能誘發(fā)材料產(chǎn)生微裂痕。因此,為了更好的了解材料的力學(xué)性質(zhì)和提高材料的耐久性能,分析材料的彈性各向異性是十分重要的。所有已知的晶體都具有彈性各向異性特征,計(jì)算晶體的彈性各向異性在工程學(xué)上具有重要的含義。通過(guò)計(jì)算普適的彈性各向異性因子AU來(lái)分析晶體的各向異性特征,計(jì)算公式如下:
(9)
AU=0,代表彈性局部各向同性;AU值越大,代表單晶各向異性的程度越強(qiáng)。AsI3的AU=1.11, SbI3的AU=1.60,BiI3的AU=1.05,這3個(gè)值大大偏離零值,暗示了這三種材料大的彈性各向異性特征,其中SbI3的各向異性程度最大,AsI3的各向異性程度最小。
德拜溫度是晶格最高振動(dòng)簡(jiǎn)正模的溫度,能夠使材料的熱力學(xué)性質(zhì)和力學(xué)性質(zhì)相關(guān)聯(lián),可以由下式計(jì)算得出:
(10)
其中,h是普朗克常數(shù),k是玻耳茲曼常數(shù),n為分子中原子的個(gè)數(shù),NA為阿弗加德羅常數(shù),ρ是密度,M是分子質(zhì)量,Vm是平均彈性波速。Vl是縱的彈性波速,Vt是橫的彈性波速。
(11)
(12)
計(jì)算結(jié)果表明(見(jiàn)表2),德拜溫度的大小關(guān)系依次為SbI3> BiI3> AsI3。
為了證明MI3(M=Bi, Sb, As)的壓縮特性,計(jì)算了其相對(duì)體積V/V0隨壓強(qiáng)變化的關(guān)系,如圖2所示。從圖2中可知,這3種材料的相對(duì)體積都隨壓強(qiáng)的增大而減小,AsI3的相對(duì)體積減小的最多,說(shuō)明高壓下AsI3更容易被壓縮。
圖2 V/V0隨壓強(qiáng)的變化關(guān)系 Fig.2 V/V0 as a function of pressure
計(jì)算了0 GPa下BiI3,SbI3和AsI3沿布里淵區(qū)高對(duì)稱點(diǎn)方向的能帶結(jié)構(gòu),結(jié)果如圖3所示。從圖3可以看出,BiI3,SbI3和AsI3都是間接帶隙半導(dǎo)體,BiI3的帶隙為2.48 eV,SbI3的帶隙為2.16 eV,AsI3的帶隙為2.34 eV。BiI3,SbI3和AsI3的價(jià)帶基本分為三個(gè)區(qū)域:位于-13~-11 eV,-10~-8 eV的下價(jià)帶;-4~0 eV的上價(jià)帶。導(dǎo)帶位于2~4 eV和6~8 eV兩個(gè)區(qū)域。這3種材料價(jià)帶頂附近的能帶的起伏不大,說(shuō)明電子有效質(zhì)量較大,電子的局域程度較強(qiáng),色散較小。相鄰軌道之間重疊不大,說(shuō)明成鍵強(qiáng)度較弱。
MI3(M=Bi, Sb, As)的總態(tài)密度(TDOS)和各分波態(tài)密度(PDOS)如圖4所示。從圖4(a)可以看出,價(jià)帶-13~-11 eV,-10~-8.5 eV能量區(qū)間的態(tài)密度主要由I-5s和Bi-6s電子貢獻(xiàn);-3.5~0 eV能量范圍的態(tài)密度主要由I-5p,Bi-6p和少量Bi-6s貢獻(xiàn),I的5p和Bi的6s電子軌道發(fā)生雜化,形成共價(jià)鍵;在導(dǎo)帶的2~4 eV能量范圍,態(tài)密度主要由I-5p,Bi-6p和少量I-5s貢獻(xiàn);6~8 eV能量區(qū)間,態(tài)密度主要由I-5s和Bi-6s貢獻(xiàn)。
圖3 MI3(M=Bi, Sb, As)的能帶結(jié)構(gòu)圖 (a)BiI3;(b)SbI3;(c)AsI3 Fig.3 Band structures of MI3(M=Bi, Sb, As) (a)BiI3;(b)SbI3;(c)AsI3
從圖4(b)可以看出,價(jià)帶中-13~-11.3 eV能量區(qū)間的態(tài)密度主要由I-5s決定,Sb-5s和Sb-5p貢獻(xiàn)較少;-9.3~-7.5 eV能量區(qū)間的態(tài)密度主要由Sb-5s決定,I-5p的貢獻(xiàn)較少;-4~0 eV能量區(qū)間,主要由I-5p,Sb-5p和少量Sb-5s貢獻(xiàn),I的5p和Sb的5s電子軌道發(fā)生雜化,形成弱共價(jià)鍵。在導(dǎo)帶的2~3.8 eV能量范圍,態(tài)密度主要由Sb-5p和I-5p貢獻(xiàn),I-5s貢獻(xiàn)較少;5~7.6 eV能量范圍,態(tài)密度主要由I-5s和Sb-5s貢獻(xiàn)。
從圖4(c)可以看出,價(jià)帶中-13~-12.5 eV,-11.5~-11 eV能量區(qū)間態(tài)密度主要由I-5s和As-4s電子貢獻(xiàn);-9.5~-8.5 eV能量區(qū)間的態(tài)密度主要由As-4s決定,I-5p的貢獻(xiàn)很少;-3.5~0 eV能量區(qū)間,主要由I-5p和As-4p貢獻(xiàn), As-4s貢獻(xiàn)很少。在導(dǎo)帶的2.5~3.5 eV區(qū)間,態(tài)密度主要由As-4p和I-5p貢獻(xiàn),As-4s貢獻(xiàn)較少;6~8 eV能量區(qū)間,態(tài)密度主要由I-5s和少量的As-4s貢獻(xiàn)。注意到I的5p和As的4s電子軌道發(fā)生雜化,形成共價(jià)鍵。
從圖4(d)可以看出,這3種材料的電子態(tài)密度分布非常相似,總態(tài)密度在-11 eV、-4 eV、0 eV和4 eV附近顯示出明顯的峰特征,說(shuō)明電子的局域程度較強(qiáng)。I-5s軌道遠(yuǎn)離費(fèi)米能級(jí),靠近費(fèi)米能級(jí)以上的導(dǎo)帶部分I-5p和M-p電子占主導(dǎo)地位。費(fèi)米能級(jí)以下的價(jià)帶,主要是I-p,M-p和M-s電子的貢獻(xiàn)。費(fèi)米能級(jí)處的總態(tài)密度曲線按SbI3、BiI3、AsI3順序向低能級(jí)方向移動(dòng),且費(fèi)米能級(jí)處的態(tài)密度值也相應(yīng)降低,電子排斥作用增大,從而使材料的穩(wěn)定性和硬度相應(yīng)提高,這和力學(xué)性質(zhì)的計(jì)算結(jié)果是一致的。Sb-I原子間的方向性共價(jià)鍵最強(qiáng),As-I之間的共價(jià)鍵最弱。共價(jià)鍵的存在有助于材料對(duì)抗壓縮,材料的強(qiáng)不可壓縮性對(duì)應(yīng)著大的塊體模量值。共價(jià)鍵的強(qiáng)弱也能夠反映體系熱力學(xué)穩(wěn)定性的程度,共價(jià)鍵越強(qiáng)體系的熱力學(xué)穩(wěn)定性就越高,因此,這三種化合物熱力學(xué)穩(wěn)定性的大小排序?yàn)镾bI3、BiI3、AsI3,這已經(jīng)在之前關(guān)于生成焓的計(jì)算中得到證實(shí)。
圖4 MI3(M=Bi, Sb, As)的總態(tài)密度(TDOS)分波態(tài)密度(PDOS)圖 (a)BiI3; (b)SbI3; (c)AsI3;(d)TDOS Fig.4 Total density of states (TDOS) and partial density of states (PDOS) of MI3(M=Bi, Sb, As) (a)BiI3;(b)SbI3;(c)AsI3;(d)TDOS
圖5 MI3(M=Bi, Sb, As)的差分電荷密度圖 (a) SbI3; (b) BiI3; (c) AsI3 Fig.5 Charge density distribution of MI3(M=Bi, Sb, As) (a) SbI3; (b) BiI3; (c) AsI3
為了解電荷分布和化學(xué)鍵的性質(zhì),實(shí)施了Mulliken原子布居數(shù)的分析,并在圖5中畫出MI3(M=Bi, Sb, As)的差分電荷密度圖。從圖5可以看出,電荷在金屬M(fèi)原子和I原子之間沒(méi)有明顯的積聚,原子周圍電荷具有較弱的重疊,暗示M-I之間存在弱共價(jià)鍵,這與對(duì)態(tài)密度的分析結(jié)論一致。另外,從圖5也可以觀察到金屬M(fèi)原子周圍電荷密度低于I原子,M原子和I原子之間存在電荷轉(zhuǎn)移,I原子得到電子而金屬M(fèi)原子失去電子,這是典型的離子鍵特征。從Mulliken電子布居數(shù)的計(jì)算發(fā)現(xiàn),BiI3中從Bi到I原子存在電荷轉(zhuǎn)移(0.55 e),重疊布居數(shù)為0.10;SbI3中從Sb到I原子存在電荷轉(zhuǎn)移(0.42 e),重疊布居數(shù)為0.14;AsI3中從As到I原子存在電荷轉(zhuǎn)移(0.24 e),重疊布居數(shù)為0.06。M原子失去電子,I原子得到電子,原子間存在離子鍵,重疊布居數(shù)的值較小,說(shuō)明鍵共價(jià)性較弱。綜合分析表明,MI3(M=Bi, Sb, As)中的化學(xué)鍵是弱共價(jià)鍵和強(qiáng)離子鍵的混合。共價(jià)鍵可以對(duì)抗彈性、塑性形變,使材料具有較高的硬度,然而離子鍵的存在導(dǎo)致材料具有較小的剪切模量。
(1)SbI3、BiI3和AsI3在熱力學(xué)上均是穩(wěn)定的,能形成穩(wěn)定的化合物,生成焓由小到大的排序?yàn)镾bI3、BiI3、AsI3,說(shuō)明SbI3比BiI3和AsI3更加穩(wěn)定。
(2)通過(guò)對(duì)MI3(M=Bi, Sb, As)力學(xué)性質(zhì)的分析可以得出,MI3(M=Bi, Sb, As)在零壓下均滿足力學(xué)穩(wěn)定標(biāo)準(zhǔn),是力學(xué)穩(wěn)定的,能夠穩(wěn)定存在,且都具有彈性各向異性特征。SbI3是偏延性材料,BiI3和AsI3是脆性材料。SbI3、BiI3和AsI3具有較強(qiáng)的可壓縮性,其中SbI3抗體積變化能力最強(qiáng)。高壓下AsI3更容易被壓縮。德拜溫度的大小關(guān)系依次為SbI3>BiI3>AsI3。
(3)通過(guò)對(duì)MI3(M=Bi, Sb, As) 電子結(jié)構(gòu)性質(zhì)的分析發(fā)現(xiàn),MI3(M=Bi, Sb, As)都是間接帶隙半導(dǎo)體,電子的局域程度較強(qiáng),色散較小。I-5s軌道遠(yuǎn)離費(fèi)米能級(jí),靠近費(fèi)米能級(jí)以上的導(dǎo)帶部分,I-p和M-p電子占主導(dǎo)地位,費(fèi)米能級(jí)以下的價(jià)帶,主要是I-p,M-p和M-s電子的貢獻(xiàn)。在費(fèi)米能級(jí)附近,I的p軌道電子和M的s軌道電子發(fā)生雜化,形成共價(jià)鍵。通過(guò)對(duì)差分電荷密度和Mulliken原子布居數(shù)的計(jì)算發(fā)現(xiàn),化合物中存在離子鍵。從整體上看,MI3(M=Bi, Sb, As)中的化學(xué)鍵是弱共價(jià)鍵和強(qiáng)離子鍵的混合。