淺談專利規(guī)避設(shè)計(jì)

陳祥

摘要 專利規(guī)避設(shè)計(jì)，對于企業(yè)建立專利防護(hù)體系及避免專利侵權(quán)糾紛有著重要的意義，本文詳細(xì)介紹了確定目標(biāo)專利，采取簡化/替換專利技術(shù)特征，利用捐獻(xiàn)原則和禁止反悔原則對目標(biāo)專利進(jìn)行規(guī)避，對規(guī)避方案進(jìn)行評估的專利規(guī)避設(shè)計(jì)方法。

關(guān)鍵詞 專利 侵權(quán) 規(guī)避 捐獻(xiàn)

中圖分類號：D923.4 文獻(xiàn)標(biāo)識碼：A DOI：10.19387/j.cnki.1009-0592-2018.08.342

一、專利規(guī)避對企業(yè)的意義

技術(shù)創(chuàng)新能力是企業(yè)不斷發(fā)展的源泉，因此越來越多的企業(yè)加強(qiáng)研發(fā)力量的投入，并將專利布局作為企業(yè)發(fā)展的重要基石。然而，技術(shù)創(chuàng)新中原始創(chuàng)新越來越少，更多的創(chuàng)新是對已有的專利技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)和完善，因此，對已有專利技術(shù)進(jìn)行合理規(guī)避，在其基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)創(chuàng)新，企業(yè)的專利布局工作能達(dá)到事半功倍的效果。如何做好專利規(guī)避設(shè)計(jì)，對于企業(yè)建立專利防護(hù)體系及避免專利侵權(quán)糾紛，有著重要的意義。

二、無法規(guī)避時(shí)的應(yīng)對

當(dāng)企業(yè)需對專利技術(shù)進(jìn)行規(guī)避時(shí)，首先需分析該專利規(guī)避的難度，若經(jīng)過分析研究，發(fā)現(xiàn)該專利技術(shù)難以規(guī)避時(shí)，可采取下列手段應(yīng)對：

1.放棄采用專利技術(shù)：當(dāng)在不被授權(quán)許可的情況下使用該專利技術(shù)必然會引發(fā)專利侵權(quán)糾紛，企業(yè)可嘗試放棄采用該專利技術(shù)，尋求其他可替代的解決方案完成產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)。

2.尋求專利實(shí)施許可：與專利權(quán)人簽訂合同，尋求實(shí)施該專利的授權(quán)許可，合同簽訂時(shí)注意約定實(shí)施范圍，實(shí)施期限，實(shí)施條件，專利使用費(fèi)用等。

3.購買專利技術(shù)：由于通過專利實(shí)施許可僅獲得該專利技術(shù)的實(shí)施權(quán)利，其實(shí)施期限、實(shí)施范圍、實(shí)施條件均受到限制，而通過向?qū)＠麢?quán)人購買專利技術(shù)，企業(yè)變?yōu)樵搶＠夹g(shù)的專利權(quán)人，便可合法使用該專利技術(shù)而不受期限和范圍等限制。

4.專利無效宣告：對無法規(guī)避的專利進(jìn)行無效宣告，這樣可合法使用該技術(shù)不構(gòu)成專利侵權(quán)，專利權(quán)無效的理由包括專利不能被授予專利權(quán)的各種缺陷，如權(quán)利要求保護(hù)范圍不清楚或權(quán)利要求得不到說明書的支持，說明書公開不充分，權(quán)利要求不具備新穎性、創(chuàng)造性及實(shí)用性等缺陷。

5.外圍技術(shù)創(chuàng)新：對需要使用的該專利技術(shù)進(jìn)行充分研究，對其外圍技術(shù)進(jìn)行創(chuàng)新，即避免對專利技術(shù)侵權(quán)，又獲得了自己的知識產(chǎn)權(quán)技術(shù)。

三、專利規(guī)避設(shè)計(jì)的實(shí)現(xiàn)

通過分析專利規(guī)避的難度，當(dāng)確認(rèn)專利規(guī)避設(shè)計(jì)可行時(shí)，可采取如下方法進(jìn)行規(guī)避設(shè)計(jì)：

（一）確定目標(biāo)專利

對于目標(biāo)專利，首先需要確定包括專利權(quán)人、專利授權(quán)狀態(tài)、保護(hù)年限、繳費(fèi)情況、無效宣告程序狀態(tài)、訴訟狀態(tài)等該目標(biāo)專利的法律狀態(tài)，當(dāng)該專利已經(jīng)屬于無效的專利時(shí)，企業(yè)可自由利用該專利技術(shù)進(jìn)行研發(fā)和生產(chǎn)。其次，需要查詢該目標(biāo)專利的審查卷宗，包括查詢、復(fù)制、下載相關(guān)資料證據(jù)：授權(quán)說明書、申請文件；實(shí)審、復(fù)審、無效等審查程序中的審查過程文件。此外，需要對目標(biāo)專利進(jìn)行權(quán)利分析，包括對權(quán)利要求的解讀，了解發(fā)明構(gòu)思，明確各項(xiàng)權(quán)利要求關(guān)系及其保護(hù)范圍，對范圍最大的權(quán)利要求技術(shù)特征進(jìn)行拆分，根據(jù)作用、功能、效果及關(guān)系分析公知技術(shù)，專利特征，確定必要/關(guān)鍵技術(shù)特征，是否存在無效的可能。

（二）專利規(guī)避設(shè)計(jì)

在專利規(guī)避設(shè)計(jì)時(shí)，可根據(jù)全面覆蓋原則和等同原則，采取對專利方案中的部分技術(shù)特征進(jìn)行簡化或替換的方式實(shí)現(xiàn)規(guī)避設(shè)計(jì)，還可利用捐獻(xiàn)原則和禁止反悔原則對目標(biāo)專利進(jìn)行合理規(guī)避。

1.簡化/替換方案中的技術(shù)特征。專利規(guī)避設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)是目標(biāo)專利的專利權(quán)保護(hù)范圍，侵權(quán)判定時(shí)需采取全面覆蓋原則，通過分析研究被控侵權(quán)技術(shù)方案與專利權(quán)的保護(hù)范圍并將兩者比較，同時(shí)還需采用“等同原則”將專利權(quán)保護(hù)范圍由權(quán)利要求文字記載的所有技術(shù)特征的范圍擴(kuò)大到等同范圍，判定被控侵權(quán)方案是否包含與專利全部技術(shù)特征相同或者等同的特征，當(dāng)有一個(gè)以上特征即不相同也不等同，或者缺少一個(gè)以上特征時(shí)，被控侵權(quán)行為不成立。

例如專利權(quán)利要求1為一種產(chǎn)品，其特征在于A、B和C。被控侵權(quán)產(chǎn)品a的特征為A、B和C。被控侵權(quán)產(chǎn)品b的特征是A、B、C和D。被控侵權(quán)產(chǎn)品c的特征是A和B。被控侵權(quán)產(chǎn)品d的特征是A、B、C，C與C不等同。被控侵權(quán)產(chǎn)品e的特征是A、B、C、D，B與B等同。根據(jù)全面覆蓋原則和等同原則，被控侵權(quán)產(chǎn)品a、b、e侵權(quán)，被控侵權(quán)產(chǎn)品c、d不侵權(quán)。

在專利規(guī)避設(shè)計(jì)時(shí)，充分研究專利的全部技術(shù)特征，找出容易做出改變的突破口，簡化，替換方案中的技術(shù)特征，或者做出創(chuàng)新的設(shè)計(jì)方案，設(shè)計(jì)出與專利即不相同也不等同的新方案。例如目標(biāo)專利特征包括A、B和C，可采取下述規(guī)避方式，規(guī)避1：特征A和B；規(guī)避2：特征A、B和C，C與C不等同；規(guī)避3：特征A，B、C和D，B與B等同，C與C不等同；規(guī)避4：特征A、D和E。而對應(yīng)地，下述規(guī)避方式屬于無效規(guī)避，無效規(guī)避1：特征A，B、C、D；無效規(guī)避2：特征A、B、C，C與C等同；無效規(guī)避3：特征A、B、C，B與B等同，C與C等同；無效規(guī)避4：特征A，B，C+C，C與C+C等同。

2.利用捐獻(xiàn)原則。捐獻(xiàn)原則是對于沒有記載于權(quán)利要求書中而僅在說明書或者說明書附圖中記載的方案，侵權(quán)判定時(shí)專利權(quán)人不能主張將該方案作為專利權(quán)的保護(hù)范圍范疇。捐獻(xiàn)原則的適用規(guī)則：（1）只有說明書中具有對權(quán)利要求相關(guān)方案的明確描述，且在實(shí)施例中具有權(quán)利要求相關(guān)方案的替代方案時(shí)才適用；（2）當(dāng)說明書中描述了上位概念時(shí)，不能主張其所有下位概念對應(yīng)的方案都適用；（3）說明書中是否具有對權(quán)利要求相關(guān)方案的明確描述，需由本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)整個(gè)說明書記載的內(nèi)容做出判斷。

例如授權(quán)專利權(quán)利要求1記載了“一種制造印刷電路板的方法，將銅箔黏貼在銅質(zhì)基板上”，說明書中記載了“雖然銅是基板的優(yōu)選材料，但也可以選取鋁、不銹鋼等其他材料”，而被控侵權(quán)產(chǎn)品與本專利權(quán)利要求的區(qū)別僅在于，基板為鋁質(zhì)。侵權(quán)判定爭議焦點(diǎn)是本案中鋁質(zhì)基板方案是否適用捐獻(xiàn)原則。根據(jù)上述捐獻(xiàn)原則的適用規(guī)則，對于基板材料的選擇，說明書中明確以鋁的替代方案出現(xiàn)，因此適用捐獻(xiàn)原則。專利權(quán)人在侵權(quán)訴訟中不能再通過等同原則將“鋁質(zhì)基板”作為專利權(quán)保護(hù)范圍的范疇。

在確立專利權(quán)利的保護(hù)范圍時(shí)，通常采用“等同原則”將專利權(quán)保護(hù)范圍由權(quán)利要求文字記載的范圍擴(kuò)大到等同范圍，但是若某個(gè)技術(shù)方案在專利說明書及說明書附圖中公開，且并沒有記載于權(quán)利要求中，則侵權(quán)判定時(shí)，不能再通過等同原則將其重新作為專利權(quán)保護(hù)范圍的范疇。專利規(guī)避設(shè)計(jì)時(shí)，應(yīng)詳細(xì)閱讀專利文獻(xiàn)，確定權(quán)利要求的方案是否屬于專利權(quán)人捐獻(xiàn)的方案，根據(jù)權(quán)利要求和說明書內(nèi)容之間的不對應(yīng)性，進(jìn)行技術(shù)方案的變形，設(shè)計(jì)出區(qū)別于權(quán)利要求的技術(shù)方案。

3.利用禁止反悔原則。禁止反悔原則是專利申請人、專利權(quán)人在實(shí)審、復(fù)審、無效程序中，為了獲得授權(quán)或維持專利權(quán)，對權(quán)利要求和說明書內(nèi)容做出修改縮小專利權(quán)的保護(hù)范圍，或者針對審查通知書做出意見陳述放棄權(quán)利要求的部分技術(shù)方案，侵權(quán)判定時(shí)不能將上述方案重新作為專利權(quán)利保護(hù)范圍的范疇。

例如授權(quán)專利權(quán)利要求1：一種電機(jī)軟啟動(dòng)器，在靜電極和動(dòng)電極之間設(shè)置壓縮彈片。在原始權(quán)利要求1中記載，“在靜電電極和動(dòng)電電極之間設(shè)置壓縮彈簧或壓縮彈片“，審查通知書中指出，“壓縮彈簧”的方案得不到說明書的支持，申請人在答復(fù)通知書時(shí)，將“壓縮彈簧”特征刪除以克服缺陷。被控侵權(quán)產(chǎn)品與本專利的區(qū)別僅在于，在靜電極和動(dòng)電極之間設(shè)置壓縮彈簧。由于專利權(quán)人放棄了“壓縮彈簧”對應(yīng)的方案，在侵權(quán)判定中不能再將其通過等同原則重新作為專利權(quán)保護(hù)范圍的范疇。

由于專利權(quán)人在審查程序中，已對權(quán)利要求中做出縮小保護(hù)范圍的解釋和對部分方案的放棄，在專利規(guī)避設(shè)計(jì)時(shí)可將專利權(quán)人限制和放棄的權(quán)利要求的部分方案加入所設(shè)計(jì)的專利中，從而規(guī)避對該專利權(quán)的侵權(quán)。

（三）規(guī)避方案評估

專利規(guī)避方案形成后，需對設(shè)計(jì)的規(guī)避方案進(jìn)行評估。首先，利用全面覆蓋原則和等同原則，判定規(guī)避方案是否侵犯目標(biāo)專利，判定時(shí)不僅需要將規(guī)避方案與目標(biāo)權(quán)利要求進(jìn)行比較，還必須將規(guī)避方案與其他權(quán)利要求進(jìn)行比較，確保規(guī)避方案不侵犯目標(biāo)專利。

當(dāng)規(guī)避方案不侵犯目標(biāo)專利時(shí)，還需要對規(guī)避方案進(jìn)行檢索，通過檢索從新穎性和創(chuàng)造性的角度判斷規(guī)避方案是否構(gòu)成新的專利，當(dāng)規(guī)避方案具有授權(quán)前景時(shí)，應(yīng)盡早申請專利，并在專利申請撰寫的過程中，注意以下幾點(diǎn)撰寫技巧：

1.權(quán)利要求撰寫清楚，保護(hù)范圍確切。權(quán)利要求的保護(hù)范圍是否能準(zhǔn)確界定，影響專利權(quán)利保護(hù)范圍的界定及侵權(quán)判定的結(jié)果。如果權(quán)利要求撰寫不清楚，專利權(quán)穩(wěn)定性較差，專利權(quán)容易被競爭對手無效；其次，當(dāng)權(quán)利要求存在難以澄清的錯(cuò)誤時(shí)，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)說明書以及專利權(quán)人提交的證據(jù)均難以確定其含義與范圍時(shí)，將無法準(zhǔn)確界定權(quán)利要求的保護(hù)范圍，難以進(jìn)行侵權(quán)判定，被控產(chǎn)品或方法不侵權(quán)。

2.權(quán)利要求書的撰寫應(yīng)采取逐層遞進(jìn)的方式，以由大到小的多層權(quán)利要求保護(hù)范圍的方式來撰寫，避免獨(dú)立權(quán)利要求被無效后，從屬權(quán)利要求保護(hù)范圍過小，輕松被競爭對手規(guī)避，多層保護(hù)范圍利于權(quán)利人建立有保障性的專利防護(hù)體系。

3.權(quán)利要求書中僅記載實(shí)現(xiàn)其發(fā)明構(gòu)思的必要技術(shù)特征，對于和發(fā)明構(gòu)思聯(lián)系不大的特征避免記載。當(dāng)權(quán)利要求記載了一些不必要的特征時(shí)，由于侵權(quán)方案需要覆蓋所有特征時(shí)才會判定為侵權(quán)，競爭對手將很容易實(shí)現(xiàn)專利規(guī)避，因此減少不必要特征的記載，可增加競爭對手規(guī)避侵權(quán)的難度。此外，為了避免競爭對手采取簡單替換的方式進(jìn)行專利規(guī)避，權(quán)利要求應(yīng)采取全面涵蓋說明書實(shí)施例及其等同的可解決技術(shù)問題的方式來撰寫，由此增加簡單替換專利規(guī)避的難度。

4.說明書內(nèi)容應(yīng)撰寫清楚、完備。由于侵權(quán)判定時(shí)，說明書的內(nèi)容可用于權(quán)利要求的解釋，因此應(yīng)重視說明書的撰寫，對于權(quán)利要求中沒有記載的方案，在說明書實(shí)施例的撰寫過程中，應(yīng)避免過分?jǐn)U展其替代方式，避免競爭對手利用捐獻(xiàn)原則，抄襲記載于說明書中但未記載于權(quán)利要求的方案。

5.在授權(quán)和確權(quán)的過程中，不能為了獲取專利權(quán)，盲目縮小權(quán)利要求的保護(hù)范圍或盲目放棄權(quán)利要求的部分技術(shù)方案，應(yīng)認(rèn)真考量對比文件和審查通知書，并和審查員充分溝通，確立合適的權(quán)利要求保護(hù)范圍。

四、結(jié)語

企業(yè)在建立專利防護(hù)體系時(shí)，為了實(shí)現(xiàn)專利規(guī)避，首先，需確定目標(biāo)專利，確定其是否有效以及是否存在無效的可能；其次，根據(jù)全面覆蓋原則和等同原則，采取簡化借換方案中的技術(shù)特征的方式進(jìn)行設(shè)計(jì)，還可利用捐獻(xiàn)原則和禁止反悔原則對目標(biāo)專利進(jìn)行合理規(guī)避；規(guī)避設(shè)計(jì)后需對其方案進(jìn)行檢索，盡早申請專利，并重視權(quán)利要求和說明書的撰寫，采取合適的撰寫技巧，增加競爭對手專利規(guī)避的難度。