王 銳,張 浩,馬 奎,楊發(fā)順
(貴州大學(xué) 大數(shù)據(jù)與信息工程學(xué)院,貴州 貴陽(yáng) 550025)
光子晶體是目前熱門(mén)的新型光學(xué)材料[1],其原理是通過(guò)周期的排列不同折射率的介質(zhì)使之形成光子帶隙,在禁帶能量范圍之內(nèi)的光子將不能傳播[2]。它類(lèi)似于半導(dǎo)體電子禁帶,具有“光子局域”和“光子帶隙”特性,可以調(diào)控光子[3]。目前光子晶體光纖已經(jīng)進(jìn)入實(shí)際應(yīng)用的階段,而用其制作的濾波器、激光器等器件也較為成熟[4]。鑒于光子晶體的實(shí)際應(yīng)用前景,研究表明圓形光子晶體微腔不能高效的同時(shí)兼顧TE和TM,且是一種形成偏振的結(jié)構(gòu)。因此設(shè)計(jì)一種既無(wú)偏振又能有效兼顧TE和TM的新型光子晶體結(jié)構(gòu)很有意義。本文中設(shè)計(jì)的是新型無(wú)偏振環(huán)形光子晶體結(jié)構(gòu)[5]。
量子點(diǎn)(Quantum Dots,QDs)是低維半導(dǎo)體材料[6],量子點(diǎn)的典型尺寸是1~12 nm之間。其微小尺寸而顯示出獨(dú)特的性質(zhì)[7],如特殊的光學(xué)、光電學(xué)等非線性光學(xué)性質(zhì)[6],受到各領(lǐng)域密切關(guān)注。把量子點(diǎn)和光子晶體有效結(jié)合起來(lái)[8],利用光子晶體的光子帶隙效應(yīng)提高其發(fā)光效率[9],具有良好的應(yīng)用前景。本文設(shè)計(jì)了一種環(huán)形光子晶體結(jié)構(gòu)[5],通過(guò)結(jié)構(gòu)參數(shù)的優(yōu)化,得到了光子帶隙在533 nm處,能有效提高量子點(diǎn)發(fā)射光譜在533 nm處的發(fā)光效率,從理論研究上拓展了量子點(diǎn)的應(yīng)用范圍。
在氮化鎵基質(zhì)上刻蝕出了周期性環(huán)形孔洞,圖1是本文設(shè)計(jì)的二維氮化鎵無(wú)偏振環(huán)形光子晶體的結(jié)構(gòu)圖。角型結(jié)構(gòu)在倒格子矢量空間上的3個(gè)高對(duì)稱(chēng)點(diǎn)分別是用M、Κ和Г表示,光入射到環(huán)形光子晶體結(jié)構(gòu)與豎直方向之間的夾角是Θ,二維氮化鎵層的厚度是d表示。因多重布拉格反射所引起的面內(nèi)電磁波約束效應(yīng)[10],該結(jié)構(gòu)能夠限制住光。由于這些周期性共振模具有有限弛豫時(shí)間,因而稱(chēng)之為漏模[11]。由于相消干涉在特定波長(zhǎng)和角動(dòng)量的入射光與漏模之間的發(fā)生,使得禁帶能量范圍之內(nèi)的光不能傳播[12]。本文中在分析計(jì)算光透射率時(shí),可以得出漏模的分布情況,根據(jù)漏模的分布設(shè)計(jì)出需要的光子晶體。
圖1 無(wú)偏振的環(huán)形光子晶體結(jié)構(gòu)
運(yùn)用有限時(shí)域差分的方法(Finite Difference Time Domain,F(xiàn)DTD)和Maltab的方法,由于Maltab具有數(shù)值計(jì)算與圖像處理能力[13]。簡(jiǎn)化了FDTD中的算法編程,作為算法實(shí)現(xiàn)的應(yīng)用,對(duì)光子晶體的電磁耦合效應(yīng),進(jìn)行了數(shù)值仿真研究[14]。采用控制變量法改變?cè)摻Y(jié)構(gòu)參數(shù)中的周期α、厚度d、外半徑R和內(nèi)半徑r,使漏模的不斷變化,得到所需結(jié)構(gòu)的參數(shù)。S-偏振(Г-Μ)光束豎直(Θ=0°)進(jìn)入環(huán)形光子晶體時(shí)透射率與周期之間的關(guān)系,如圖2所示。保持r=75 nm、R=150 nm和d=200 nm不變時(shí),改變a。在周期不同的情況下觀察環(huán)形光子晶體的透射分布。由圖2可見(jiàn),漏模產(chǎn)生于500~600 nm。當(dāng)周期α=386 nm時(shí),533 nm處的透射率接近0。
圖2 改變周期以?xún)?yōu)化光子帶隙
關(guān)于環(huán)形光子晶體厚度的優(yōu)化,變化該氮化鎵基質(zhì)的厚度d,而保持α=386 nm,R=150 nm,r=75 nm不變,觀察其透射分布。由圖3可知,根據(jù)透射率變化,當(dāng)d=200時(shí),該結(jié)構(gòu)的光子禁帶約為533nm,提高了量子點(diǎn)的發(fā)光效率。
圖3 光子晶體厚度的優(yōu)化
對(duì)環(huán)形光子晶體內(nèi)外半徑的優(yōu)化,保持α=386 nm和d=200 nm不變的情況下,改變內(nèi)外半徑。由圖4可知,隨著內(nèi)外半徑的變化漏模的位置也跟著改變,由此表明可以通過(guò)調(diào)節(jié)光子晶體的各個(gè)晶格參數(shù)來(lái)操控漏模。
圖4 內(nèi)外半徑的優(yōu)化
內(nèi)外半徑和漏模的波長(zhǎng)的關(guān)系,通過(guò)分析可知二者是呈非線性關(guān)系。擬合二者之間的非線性關(guān)系,本文可以用一個(gè)非線性方程式來(lái)表示[7]。研究表明,保留非線性方程式中與內(nèi)外半徑相關(guān)聯(lián)的二次方及以下的項(xiàng),這樣就可以簡(jiǎn)單精確的擬合二者之間的關(guān)系。本文可以設(shè)定漏模λ約為533 nm,表示漏模波長(zhǎng)與該環(huán)形光子晶體結(jié)構(gòu)的內(nèi)外半徑的關(guān)系可以用二次多項(xiàng)式表示
λ=A+Br+Cr2+DR+ER2+FrR
(1)
通過(guò)Maltab來(lái)計(jì)算該多項(xiàng)式的非線性擬合,可以得到結(jié)果如表1所示。
表1 半徑與波長(zhǎng)的擬合參數(shù)表
多項(xiàng)式中的A、B、C、D、E、F參數(shù)數(shù)值都是通過(guò)圖形擬合得到的。該結(jié)果與預(yù)期的波長(zhǎng)保持一致。此外,將這些擬合得到的參數(shù)再編程到Maltab程序當(dāng)中,再使用FDTD法仿真分析,再次分析計(jì)算了在光源豎直入射時(shí)的透射率。結(jié)果如圖5所示,當(dāng)α=386 nm、R=150 nm、r=75 nm和d=200 nm時(shí),漏模的波長(zhǎng)保持在533 nm,較好擬合了所需波長(zhǎng)。在533 nm處,因?yàn)榇嬖诠庾訋叮庾颖痪钟蛟诘壍谋砻嫔?,因而產(chǎn)生了強(qiáng)烈的激發(fā)發(fā)射共振,從而提高了光的發(fā)光效率。
圖5 最優(yōu)光子晶體結(jié)構(gòu)
圖6表明了透射光譜和角度的關(guān)系,可見(jiàn)在Θ=10°~30°之間,透射率在533 nm都接近于0。說(shuō)明該環(huán)形光子晶體的透射率并不隨電磁波入射角度的變化而變化,所以該結(jié)構(gòu)是穩(wěn)定的。
圖6 波長(zhǎng)與入射角度之間的關(guān)系
討論諧振現(xiàn)象的影響,需要觀察近場(chǎng)情況下的諧振現(xiàn)象,如圖7所示,為533 nm處該結(jié)構(gòu)表面的電場(chǎng)強(qiáng)度。S-偏振光被用來(lái)當(dāng)作是激發(fā)光源,近場(chǎng)的強(qiáng)度是歸一化單位強(qiáng)度,從圖中光子晶體的表面可以看到,該結(jié)構(gòu)的能量全部集中在腔體的位置上,尤其是在TE和TM的情況下。新型無(wú)偏振環(huán)形光子晶體結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)僅針對(duì)某種振動(dòng)的光子晶體結(jié)構(gòu)有較大差距,實(shí)現(xiàn)了無(wú)偏振激發(fā)[15]。
圖7 TM與TE電磁場(chǎng)分布
針對(duì)提高量子點(diǎn)的發(fā)光效率,本文設(shè)計(jì)的一種新型無(wú)偏振環(huán)形光子晶體結(jié)構(gòu)。通過(guò)對(duì)結(jié)構(gòu)參數(shù)(周期、厚度、內(nèi)外半徑)的優(yōu)化調(diào)試。最終得到α=386 nm,d=200 nm,R=150 nm以及r=75 nm時(shí),環(huán)形光子晶體的光子禁帶在533 nm處。通過(guò)對(duì)透射率光譜角度的掃描,以及電磁場(chǎng)的分布圖的分析,證實(shí)了本文設(shè)計(jì)的無(wú)偏振環(huán)形光子晶體結(jié)構(gòu)表面能在533 nm處局域住光子進(jìn)而產(chǎn)生共振,提高了量子點(diǎn)的發(fā)光效率,拓寬了量子點(diǎn)的實(shí)際應(yīng)用范圍。
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