鄭君鼎,韋文生,何明昌,肖海林,李理敏,李 昌
(溫州大學(xué)數(shù)理與電子信息工程學(xué)院,浙江溫州 325035)
0.1-10.00THz(3.00-0.03mm)的電磁波譜又稱為太赫茲譜,可廣泛應(yīng)用于通信、檢測、醫(yī)療等領(lǐng)域[1].碰撞雪崩渡越時間(Impact Avalanche Transit Time,IMPATT)二極管微波源因微波輸出功率高而被應(yīng)用到航天通信系統(tǒng)、大功率雷達(dá)之中[2].硅IMPATT二極管由于材料的熱導(dǎo)率、禁帶寬度、載流子飽和漂移速度等的限制難以向高頻化發(fā)展,SiC擁有比Si更優(yōu)異的性能而適用于高溫、高壓、高頻、大功率器件.目前已經(jīng)開展了SiC材料IMPATT二極管的研究.Acharyya等[3]考慮隧穿效應(yīng)與波姆勢對器件性能的影響,利用量子矯正的漂移-擴(kuò)散(QCDD)模型數(shù)值計(jì)算了太赫茲頻段GaN、InP、金剛石、4H-SiC、Si等材料N+NPP+型雙漂移區(qū)(Double Drift Region,DDR)IMPATT二極管的大信號性能參數(shù).結(jié)果顯示GaN、4H-SiC器件具有比金剛石、InP、Si器件更優(yōu)的性能;理論結(jié)果與實(shí)驗(yàn)值接近,反映了此模型對高頻器件設(shè)計(jì)的有效性.Swain等[4]比較了0.22THz頻率4H-SiC、6H-SiC兩種材料DDR型IMPATT二極管的大信號性能對材料理化參數(shù)的敏感性,研究了電離率、漂移速度的變化對IMPATT二極管性能如擊穿電壓、直流-微波功率轉(zhuǎn)換效率、負(fù)電導(dǎo)、噪聲等的影響.Mukherjee①M(fèi)ukherjee M. Prospects of α-SiC and β-SiC based P+PNN+ IMPATT devices as sub-millimeter wave high-power sources [C] // 2008 International Conference on Recent Advances in Microwave Theory and Applications. Jaipur, 2009:53-56.比較了0.35THz頻率DDR型4H-SiC、6H-SiC、3C-SiC三種材料IMPATT器件大信號條件下的輸出功率和功率轉(zhuǎn)換效率,發(fā)現(xiàn)4H-SiC器件的輸出功率和轉(zhuǎn)換效率最高.Panda等①Panda A K, Rao V M. Modeling and comparative study on the high frequency and noise characteristics of different polytypes of SiC-based IMPATTs [C] // 2009 Asia Pacific Microwave Conference. Singapore, 2009:1569-1572.比較了0.14-0.24THz頻段DDR型4H-SiC、6H-SiC、3C-SiC材料IMPATT二極管的功率轉(zhuǎn)換效率-靜態(tài)偏置電流密度、負(fù)阻-頻率、電導(dǎo)-電納、單位帶寬均方噪聲電壓-頻率、噪聲測度-靜態(tài)偏置電流密度等關(guān)系,其中4H-SiC器件具有最低的噪聲而3C-SiC二極管具有最高的功率轉(zhuǎn)換效率.Ghosh等[5]利用自洽量子漂移-擴(kuò)散模型(SCQDD)計(jì)算了0.094THz頻率Si/3C-SiC異質(zhì)結(jié)多量子阱(MQW)雙漂移區(qū)IMPATT二極管的性能,結(jié)果表明此器件的輸出功率比雙漂移區(qū)Si、GaAs、InP同質(zhì)結(jié)二極管的更高.考慮隧穿效應(yīng)的IMPATT器件稱為混合隧穿雪崩渡越時間(Mixed Tunneling Avalanche Transit Time,MITATT)二極管,4H-SiC材料MITATT二極管的噪音被抑制[6-7],輸出功率降低.上述研究反映,不同晶型SiC材料IMPATT器件的大信號性能差異明顯.相對而言,SiC材料IMPATT、MITATT二極管高頻小信號性能的研究報(bào)道不多.本文采用數(shù)值計(jì)算方法,研究了0.85THz低損耗大氣窗口頻率的4H-SiC、6H-SiC、3C-SiC材料IMPATT、MITATT二極管的小信號性能,并比較了它們之間的差異.
表1 設(shè)計(jì)二極管所用SiC材料的參數(shù)Table 1 Parameters of the SiC Materials Used for Diode Design
圖1 反向偏置時IMPATT、MITATT二極管的能帶和工作原理示意圖Fig 1 Schematics of Energy-band and Operation Principle of the IMPATT and MITATT Diodes under Reverse Biased
建立IMPATT、MITATT器件的泊松方程、連續(xù)性方程及電流密度方程構(gòu)成的方程組,靜態(tài)時選擇合適的邊界條件,利用迭代方法可獲得器件靜態(tài)時內(nèi)部電場分布E、電子(空穴)電流密度Jn(Jp)分布,進(jìn)而得到靜態(tài)電離率的分布.動態(tài)時應(yīng)考慮外加交流電壓對電離率的影響,對電離率泰勒展開至一階導(dǎo)數(shù)為止,進(jìn)行線性化處理,此一階導(dǎo)數(shù)項(xiàng)近似為外加交流電壓對電離率的貢獻(xiàn),這種處理方法稱為渡越時間二極管的小信號模型.該模型適用于外加交流電壓振幅較小的情形,可以準(zhǔn)確地反映器件性能,已被用于Si、GaN材料太赫茲器件[9-10].MITATT二極管中的載流子可通過雪崩電離、隧穿產(chǎn)生,應(yīng)在連續(xù)性方程中同時考慮.
利用Runge-Kutta方法求解IMPATT、MITATT器件的方程組[13],可得到功率轉(zhuǎn)換效率η、電導(dǎo)G、電納B、品質(zhì)因子Q、最大輸出功率Pout:
其中A為器件橫截面積,GP為峰值負(fù)電導(dǎo),Bp為峰值電納,VB和VA分別為擊穿電壓和雪崩區(qū)電壓,ZR和ZX分別為器件的電阻與電抗.
IMPATT、MITATT二極管的噪聲主要來源于雪崩效應(yīng),弱小的微波信號有可能被淹沒在噪聲中.不同SiC的飽和漂移速度、電離率等參數(shù)不同,有必要討論不同SiC材料兩種器件的噪聲性能以及隧穿對噪聲的影響.
單位帶寬均方噪聲電壓〈V2〉/df、噪聲測度NM可分別表示為[11-12]:
其中〈V2〉表示均方噪音電壓,df表示單位帶寬,ω為工作頻率,ωa為雪崩頻率,q為基本電荷,為VA占VB的比例,τtr表示載流子通過耗盡區(qū)的時間,xτ表示載流子通過雪崩區(qū)的時間.m為一個與電離率、電場相關(guān)的常數(shù),定義為,其中等效電離率,I為直流電流強(qiáng)度,J為直流電流密度,k為玻爾茲曼常數(shù),T為絕對溫度,ε為材料的介電常數(shù),為平均載流子飽和速度.實(shí)驗(yàn)證明[16],在工作頻率ω大于雪崩頻率ωa時,式(6)、式(7)較為準(zhǔn)確地描述器件的噪聲性能.本文SiC器件的ω>>ωa,因此可采用式(6)、式(7)計(jì)算三種SiC器件的〈V2〉/df和NM.
圖2為器件小信號模型數(shù)值計(jì)算的流程圖.首先利用經(jīng)驗(yàn)公式估計(jì)0.85THz器件內(nèi)N區(qū)、P區(qū)的厚度、濃度等參數(shù),然后將材料參數(shù)、邊界條件代入到模型表達(dá)式中,獲得電場E、歸一化電流密度隨空間x的分布,進(jìn)而得到碰撞電離率α、隧穿產(chǎn)生率(式中A、B為由有效質(zhì)量及帶隙寬度決定的常數(shù))等系列靜態(tài)參數(shù)的空間分布情況.設(shè)置頻率范圍(f1,f2),將電離率α(x)、隧穿產(chǎn)生率gT(x)、初始頻率f=f1以及小信號模型的邊界條件等代入到小信號模型進(jìn)行計(jì)算,得出頻率f對應(yīng)的阻抗隨空間x的分布,積分得到總的阻抗Z及電阻ZR,取倒數(shù)可得頻率f對應(yīng)的電導(dǎo)-電納關(guān)系.如果f未達(dá)到上限f2,取f=f+0.05THZ重新代入小信號模型計(jì)算,直到f=f2結(jié)束.如此可得[f1,f2]范圍的電導(dǎo)-電納關(guān)系,從而得到最適工作頻率、最適負(fù)電導(dǎo)、最適電納等小信號參數(shù).利用所得參數(shù)計(jì)算雪崩頻率ωa,再通過式(6)、式(7)計(jì)算〈V2〉/df、NM.
圖2 IMPATT、MITATT二極管性能參數(shù)的計(jì)算流程圖Fig 2 Calculation Flow Chart for the Performance Parameters of IMPATT and MITATT Diodes
作結(jié)果圖時,點(diǎn)表示計(jì)算的數(shù)據(jù),再用插值法擬合數(shù)據(jù),得到直線段或曲線段,以便觀察.
通過建模計(jì)算碳化硅IMPATT、MITATT器件的部分參數(shù)列入表2,未列入表中的還有,同一材料的αn<αp.
同型二極管中6H-SiC器件的擊穿電壓、雪崩區(qū)電壓最大,3C-SiC器件的相應(yīng)值最小.可見MITATT器件的擊穿電壓、雪崩區(qū)電壓小于IMPATT器件的相應(yīng)值.在IMPATT二極管中,,這是由于6H-SiC器件內(nèi)部的高電場使得其電離率較大,雪崩區(qū)所占寬度較小,使得雪崩區(qū)電壓占總擊穿電壓的比例較小,從而(VB-VA)/VB較大,因此較大.在電場相同時3C-SiC器件的電離率較大,雪崩區(qū)所占寬度減小,但是由于器件內(nèi)部的電場較弱,電離不強(qiáng),雪崩區(qū)所占寬度增大,使得較低.同種材料MITATT器件的η與不考慮隧穿的IMPATT器件的η差異顯著,是因?yàn)镹/P結(jié)的隧穿效應(yīng)提高了總的載流子產(chǎn)生率,電流增大,使得MITATT二極管的功率增大,因而η升高.4H-SiC、6H-SiC材料MITATT器件的η受隧穿效應(yīng)的影響顯著,3C-SiC材料MITATT器件的η受隧穿效應(yīng)的影響小.6H-SiC的電離率最小,其器件內(nèi)部的電場最大,其MITATT器件受到隧穿效應(yīng)的影響最大,JT/J值最大.而3C-SiC的電離率最大,內(nèi)部電場最弱,其MITATT器件受到隧穿效應(yīng)的影響最小,JT/J值最小.品質(zhì)因子Q表示了器件振蕩能力的強(qiáng)弱,Q值越大振蕩越強(qiáng)烈,越小振蕩越弱.從表2可見,IMPATT器件中,3C-SiC器件因?yàn)殡婋x率最大而最容易振蕩;6H-SiC器件因電離率小而最不容易振蕩.因受隧道電流的影響,MITATT器件的Q值大于IMPATT器件的值.由于6H-SiC材料MITATT器件受隧道電流影響最顯著,其Q值變化最大,見表2.
表2 不同SiC材料IMPATT、MITATT二極管的直、交流參數(shù)Table 2 The DC and AC Parameters of IMPATT and MITATT Diodes with Different SiC Materials
圖3為不同SiC材料IMPATT、MITATT器件內(nèi)的電場分布和歸一化電流密度JN分布,其中N/P結(jié)在120nm處.從圖3(a)可見,三種SiC當(dāng)中,無論考慮隧穿與否,6H-SiC材料MITATT、IMPATT器件內(nèi)的場強(qiáng)峰值(EP)最大,3C-SiC器件的EP最小,這是因?yàn)殡婋x率α小的6H-SiC難擊穿,α大的3C-SiC易擊穿.因?yàn)樗泶┬?yīng),器件內(nèi)總的載流子產(chǎn)生率增大,導(dǎo)致MITATT二極管的EP小于IMPATT器件的EP,前者的耗盡區(qū)變窄.圖3(b)中,JN的劇變主要發(fā)生在N/P結(jié)附近,這源自于雪崩電離、隧穿效應(yīng)集中于此.由于,導(dǎo)致P區(qū)更易電離出載流子,使得雪崩中心向P區(qū)偏移,3C-SiC的nα與pα相差最大,而且3C-SiC器件的JT/J值最低,引起3C-SiC器件的雪崩中心位置明顯偏離N/P結(jié)界面.對比發(fā)現(xiàn),隧穿導(dǎo)致雪崩中心向N/P結(jié)靠近,因?yàn)樗泶﹄妶龈舾校琋/P結(jié)處的場強(qiáng)最大,因此隧穿比雪崩電離更靠近該結(jié).
圖3 不同SiC器件內(nèi)的電場分布(a)、歸一化電流密度分布(b)Fig 3 The Distribution of Electric Field (a) and of Normalized Current (b) in Different Devices
小信號模擬計(jì)算獲得三種SiC器件內(nèi)部的電阻分布如圖4所示,導(dǎo)納-頻率關(guān)系如圖5所示,單位帶寬均方噪聲電壓、噪聲測度如圖6所示.
圖4展示了IMPATT、MITATT二極管漂移區(qū)電阻的分布情況.MITATT器件漂移區(qū)的負(fù)阻峰值的絕對值小于IMTATT二極管的相應(yīng)值,這是由于隧穿效應(yīng)引起器件內(nèi)產(chǎn)生電流與交流電壓的相位差減小所導(dǎo)致.渡越時間器件中的負(fù)阻由內(nèi)部載流子電流與外加交流電壓之間的相位差引起,相位差來自注入相位延遲φ和渡越時間延遲θ,負(fù)阻ZR正比于,當(dāng)φ=0時,表達(dá)式的值>0,可見只有θ無法產(chǎn)生負(fù)阻.雪崩電離產(chǎn)生的相位差較大,而隧穿因響應(yīng)速度極快幾乎不產(chǎn)生注入相位延遲[11],器件總的注入相位延遲減小,產(chǎn)生電流與交流電壓的相位差減小,導(dǎo)致器件的負(fù)阻下降.此外,MITATT器件中P區(qū)負(fù)阻峰值的絕對值受隧穿效應(yīng)的影響而顯著下降,這是因?yàn)樗泶┊a(chǎn)生的電子、空穴之間存在一個位置差,如圖1在x'處出現(xiàn)一個電子,則在x處產(chǎn)生一個空穴,x往P區(qū)偏移,使得P區(qū)受隧穿的影響更大.SiC器件P區(qū)內(nèi)多數(shù)載流子空穴的遷移率低于N區(qū)內(nèi)多數(shù)載流子電子的遷移率,因此P區(qū)負(fù)阻峰值的絕對值大于N區(qū)的相應(yīng)值.
圖4 不同SiC器件內(nèi)的電阻分布Fig 4 The Resistance Distribution in Different SiC Devices
圖5呈現(xiàn)了IMPATT、MITATT二極管的導(dǎo)納-頻率關(guān)系.計(jì)算表明,三種材料中3C-SiC擁有最高的碰撞電離率,它的電子飽和漂移速度最大①Electronic Archive:New semiconductor materials, characteristics and properties [EB/OL]. [2017-6-10]. http://www.ioffe.rssi.ru/ SVA/NSM/Semicond/index.html.2007-11-19/2017-6-10.,導(dǎo)致3C-SiC器件最適工作頻率處負(fù)電導(dǎo)峰值的絕對值GP最大.器件的微波輸出功率Pout計(jì)算結(jié)果列入表2.綜合考慮VB、GP兩種因素,帶隙寬、臨界擊穿場強(qiáng)高而VB高的6H-SiC器件的Pout最大;帶隙窄、臨界擊穿場強(qiáng)低而VB低的3C-SiC器件的Pout最低.MITATT器件中隧穿效應(yīng)導(dǎo)致?lián)舸╇妷好黠@下降,而且隧穿引起注入相位延遲減小,導(dǎo)致GP下降,Pout下降.MITATT二極管的最適工作頻率提高,這是由于隧穿電流的速度快于雪崩電流的速度所致.對比發(fā)現(xiàn),6H-SiC材料MITATT器件最適頻率處的GP明顯小于IMPATT二極管的相應(yīng)值,這是由于該材料較低的電離率而N/P結(jié)隧穿電流顯著所致[16].
圖5 (a)4H-SiC、(b)6H-SiC、(c)3C-SiC器件的導(dǎo)納-頻率關(guān)系Fig 5 Relations between the Admittance and Frequency of (a) 4H-SiC, (b) 6H-SiC, (c) 3C-SiC Devices
圖6 不同SiC器件的(a)單位帶寬均方噪聲電壓、(b)噪聲測度Fig 6 (a) Mean Square Noise Voltage per Band-width and (b) Noise Measure of Different SiC Devices
圖6描述了IMPATT、MITATT二極管的〈V2〉/df與NM與頻率的關(guān)系.隨著工作頻率上升,逐漸遠(yuǎn)離雪崩頻率,〈V2〉/df下降.由于3C-SiC的電離率最大,雪崩電離效應(yīng)最明顯,引起器件的〈V2〉/df最大,NM最大;6H-SiC的電離率最小,其器件的〈V2〉/df最低,NM最小.對比IMPATT、MITATT器件,考慮隧穿效應(yīng)后雪崩產(chǎn)生電流所占比例下降,導(dǎo)致器件的〈V2〉/df、NM下降.6H-SiC器件中隧穿電流所占比例最大,〈V2〉/df下降最明顯,其NM最小,這是由于器件的噪聲基本來源于雪崩效應(yīng),6H-SiC的電離率最小,因此6H-SiC器件的噪聲性能最佳.3C-SiC的電離率最大,其器件的噪聲性能最差.圖6(b)中,NM存在一個最小值,這是由于NM同時是〈V2〉/df、ZR的函數(shù)[14],〈V2〉/df、ZR都隨頻率上升而下降,但下降的速度不同,在〈V2〉/df、ZR的下降速度近似相等的頻率處NM出現(xiàn)最小值,這個頻率接近最適工作頻率.
數(shù)值計(jì)算并比較了0.85THz低損耗大氣窗口頻率的4H-SiC、6H-SiC、3C-SiC材料N+NPP+型IMPATT、MITATT二極管的小信號性能參數(shù).其中6H-SiC器件擁有最高的功率轉(zhuǎn)換效率、隧穿電流與總電流比值以及最低的單位帶寬均方噪聲電壓、噪聲測度.與IMPATT二極管相比,MITATT器件的微波輸出功率、單位帶寬均方噪聲電壓與噪聲測度降低,功率轉(zhuǎn)換效率、最適工作頻率提高.結(jié)果表明,不同晶型SiC的兩種器件工作在同一頻率時性能差異明顯.反過來說,可以針對器件種類、性能要求選擇合適的材料進(jìn)行設(shè)計(jì).
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