光罩清洗的流程以及優(yōu)化

肖林峰

摘 要：光罩清洗的流程以及優(yōu)化，需要在實際生產(chǎn)運用中來完善，要保證在不影響清洗能力的情況下來優(yōu)化各個工藝參數(shù)，在各種工藝清洗時的時間和MASK Stage的轉(zhuǎn)速來縮短清洗光罩的時間，而這個參數(shù)需要在不斷地實驗中完善。該文針對目前液晶面板在正常生產(chǎn)的過程中光罩（MASK）日常清洗的流程及工藝，介紹了目前光罩清洗機中使用的幾種主要的清洗工藝，清洗光罩時需根據(jù)不同原因來選擇所需要的工藝來清洗，以及對清洗工藝的優(yōu)化。

關(guān)鍵詞：光罩 光罩清洗機 曝光機

中圖分類號：TB490 文獻標識碼：A 文章編號：1674-098X（2016）12（c）-0091-02

1 清洗MASK的類別

1.1 拆包清洗

在首次光罩到廠后進行，要將光罩從光罩盒中取出，并進行檢查確認，若檢查沒有問題再使用正常的清洗工藝清洗，清洗后放置于MASK Stocker內(nèi)，以備使用。

1.2 日常清洗

在產(chǎn)線切換產(chǎn)品或者連續(xù)生產(chǎn)達到一定數(shù)量時，為了防止光罩被污染而產(chǎn)生MASK共通缺陷，需要對光罩進行清洗。主要是因為液晶生產(chǎn)中所使用的光阻特性，有的光阻比較容易揮發(fā)產(chǎn)生升華物滴落在基板的表面，在基板進入曝光機曝光時由于曝光的GAP較小，從而部分升華物會接觸到光罩表面，產(chǎn)生MASK共通缺陷，而使生產(chǎn)出的產(chǎn)品在相同的位置有著同樣的不良缺陷。

1.3 出現(xiàn)MASK共通時清洗

特別是接近式曝光機，曝光時光罩與玻璃基板的GAP較小，曝光時的GAP可能只有100～200 μm（如圖1所示）。如果基板上有光阻或其他異物，有可能在曝光時將異物粘到光罩上或者異物有可能會刮傷光罩，從而導致生產(chǎn)的產(chǎn)品在每個panel的相同位置產(chǎn)生同樣的缺陷；潔凈房的潔凈度和人員出入設備也有可能會引起發(fā)塵而污染光罩。

2 MASK清洗的流程

在從曝光機卸載下MASK之后，通過MASK臺車送至光罩清洗室準備進行清洗。首先需要確認光罩清洗機的工作狀態(tài)，確認藥劑Tank的溫度以及藥劑是否足夠等，然后再將MASK CASE從臺車送入光罩清洗機，選擇適當?shù)那逑垂に囘M行清洗作業(yè)。

光罩在光罩清洗機內(nèi)清洗主要流程：正面清洗、背面清洗（膜面）以及檢查3個步驟，可以根據(jù)清洗的不同原因通過工藝編輯更改清洗的順序。

光罩的正面和背面清洗主要包括純水沖洗、毛刷和洗劑清洗、毛刷和純水清洗、超聲波清洗以及氮氣干燥這幾個步驟，每個步驟MASK Stage都會按照設定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)（如圖2所示）。而且為了防止在清洗時，正面洗過的液體流向背面，在清洗時所有步驟都會使用位于MASK Stage下方的噴淋口，使用純水對光罩的下面進行純水的噴淋作業(yè)。

3 MASK清洗的工藝

光罩在光罩清洗機內(nèi)清洗時，主要流程是純水沖洗、毛刷和洗劑清洗、毛刷和純水清洗、超聲波清洗以及氮氣干燥，在這清洗的每道工序進行的時候，MASK Stage都會按照設定的轉(zhuǎn)速一直旋轉(zhuǎn)，以達到可以整面清洗的目的，下面分別介紹主要清洗的工藝。

3.1 毛刷清洗（純水、藥液）

MASK在光罩清洗機內(nèi)清洗時，主要是依靠毛刷進行清潔光罩表面的臟污。毛刷需要采用吸水性、恢復性、耐磨性、耐腐蝕性等方面都較出色的材料制成的盤刷，在毛刷回轉(zhuǎn)速時，毛刷外周的接觸面積較大，可以有效提高清洗效果。在清洗光罩時，可以通過設定毛刷的轉(zhuǎn)速以及毛刷的壓入量來改善清洗效果。

3.2 超聲波清洗（MS清洗）

正常清洗時，毛刷配合藥液清洗之后會使用超聲波和純水共同清洗來去除微細顆粒。超聲波Shower通過設定輸出功率來變更清洗能力。在MS清洗模塊固定不動的情況下，有效的清洗面積比較小，但通過MASK Stage的自旋轉(zhuǎn)，以及MS清洗模塊的來回移動可以將光罩的整面都覆蓋。

3.3 氮氣（N2）干燥

在光罩清洗結(jié)束之后，MASK Stage會慢慢加速旋轉(zhuǎn)，當達到一定速度時會保持一個恒定的轉(zhuǎn)速，同時，氮氣干燥管會慢慢移動到光罩中心位置正上方，與光罩下方的氮氣氣管同時向光罩吹氣，通過離心力的作用，將光罩表面的液體吹出表面以達到干燥效果。

4 MASK清洗的流程優(yōu)化

在初次清洗光罩建立清洗工藝的時候，清洗光罩順序的選擇：先清洗光罩的反面再清洗光罩的正面，清洗完畢后進行檢查確認；但在實際生產(chǎn)過程中發(fā)現(xiàn)這樣的清洗步驟會多一次光罩翻轉(zhuǎn)，而光罩翻轉(zhuǎn)是不必要的時間，所以清洗光罩時將清洗光罩的順序變更為先清洗光罩的正面再清洗光罩的反面，可以節(jié)約一次翻轉(zhuǎn)光罩的時間。

正常清洗時，還可以通過提高毛刷的轉(zhuǎn)速和毛刷的壓入量、MASK Stage的轉(zhuǎn)速來達到提高清洗效果的目的。光罩污染主要是針對與生產(chǎn)基板接近的膜面（光罩的反面），所以，在清洗光罩時使用的清洗工藝可以大大減少對于光罩正面的清洗時間而稍微增加光罩（光罩的反面）膜面的清洗時間。

5 結(jié)語

當然，采用接近式曝光機，產(chǎn)生MASK共通的幾率要遠遠大于掃描式曝光機，而曝光機整體的潔凈度更是可以影響清洗光罩的頻度，所以液晶生產(chǎn)中清洗光罩的時間，不僅僅要對清洗的工藝進行優(yōu)化，也要對潔凈室的環(huán)境進行定期檢測，以保證潔凈度可以達到相應的要求。

參考文獻

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