淺談拋釉磚淋釉釉漿性能控制方法

黃讓春 王華明 熊勛旺

摘 要：隨著噴墨機(jī)的普及，全拋釉產(chǎn)品以其釉面防污性能好、圖案紋理豐富逼真、層次鮮明等特點(diǎn)，已經(jīng)占領(lǐng)陶瓷市場(chǎng)的半壁江山。晶剛釉作為全拋釉的升級(jí)產(chǎn)品，其攻克了全拋釉耐磨性能及平整度差的問(wèn)題，已成為陶瓷市場(chǎng)的新寵。但晶剛釉屬于熔塊釉，其釉漿性能遠(yuǎn)比生料釉差，所以其控制難度更大。本文從釉料配方、釉料加工、釉漿陳腐等幾個(gè)方面闡述晶剛釉釉漿的控制方法，以供同行參考。

關(guān)鍵詞：晶剛釉；釉料球磨；釉漿性能；控制方法

1 引言

晶剛釉（也有稱(chēng)金剛釉）是新興的一類(lèi)全拋釉產(chǎn)品，其生產(chǎn)工藝與全拋釉相比，淋透明釉的厚度是普通全拋釉的3～4倍，淋釉工序控制難度加大，常出現(xiàn)針孔、起麻點(diǎn)、凹釉、釉漿觸變等現(xiàn)象。本文從釉料配方、釉料加工、釉漿陳腐等幾個(gè)方面闡述晶剛釉釉漿的控制方法。

2 球磨機(jī)的球石配比和清洗

2.1 球磨機(jī)的球石配比

（1）球石：高鋁球石；球襯材質(zhì)：高鋁球襯。

（2）球石配比：三噸球磨機(jī)可裝7 t球石，配比Φ50：Φ40：Φ30：Φ20=1：2：3：1；Φ40：Φ30：Φ20=2：3：2（該配比容易出現(xiàn)結(jié)團(tuán)現(xiàn)象）；五噸球磨機(jī)裝11.5 t球石，配比Φ50：Φ40：Φ30：Φ20=2：3：4.5：2。

（3） 記錄空高，當(dāng)空高變大5 cm后可加Φ50的球石100～200 kg；當(dāng)球磨時(shí)間變大20 min以上時(shí)可適當(dāng)?shù)难a(bǔ)加球石。

2.2 洗球

新球洗球需要注意的是雜質(zhì)和油污，可用白度高的白砂、燒滑石等，進(jìn)2 t左右的球石，再加200～500 g清油劑（威猛先生），加滿水，球磨2～3 h后放球；再加滿自來(lái)水，球磨2～3 h，如此反復(fù)直至放出來(lái)的水較干凈為止。

2.3 配料、裝球

三噸球磨機(jī)可裝3～5 t干料，裝4.5 t干料時(shí)球磨效率最佳。每球裝球前按配方單配料，經(jīng)監(jiān)磅員全程監(jiān)磅，提前把所有料配齊，再一起裝球，最好不要兩球同時(shí)配料或同時(shí)裝球，防止配錯(cuò)料。

3 放漿設(shè)備的清洗

鐘罩淋釉要特別注意油漬的污染，油與水是不相融的，在攪拌的過(guò)程中油漬會(huì)被包裹在釉漿中，當(dāng)淋到磚面后，在磚坯吸水的過(guò)程中形成凹釉。一缸釉漿即使被一滴油污染，都會(huì)造成批量的凹釉缺陷。放漿設(shè)備清洗是最關(guān)鍵也是最容易被忽略的，放漿設(shè)備包括放漿管道、泵、除鐵機(jī)、振篩、釉缸。每一個(gè)設(shè)備每一個(gè)環(huán)節(jié)都必須用清油劑（威猛先生）噴洗，然后用水循環(huán)沖洗。

3.1 釉缸的清洗和保養(yǎng)

電機(jī)一定會(huì)有機(jī)油，所以電機(jī)和釉缸內(nèi)部要隔離，電機(jī)軸承頂端要有托盤(pán)，防止機(jī)油隨軸承流入釉缸內(nèi)。電機(jī)與釉缸內(nèi)部隔離及托盤(pán)分別如圖1、圖2所示。

釉缸應(yīng)該放置在陰涼通風(fēng)的區(qū)域，要遠(yuǎn)離窯爐、噴霧塔、污水池。到夏天隨著環(huán)境溫度的升高，釉缸缸體吸熱造成釉漿溫度升高，會(huì)導(dǎo)致流速波動(dòng)，必須要安裝排氣口和降溫設(shè)備；釉缸區(qū)域安裝頂棚防止落鐵銹；釉缸的電機(jī)、缸面每天都要保持干凈，釉缸內(nèi)部每周必須清洗一次。釉缸缸體噴水及接水槽示意圖如圖3、圖4所示。

4 釉漿性能控制

4.1 出球釉漿性能參數(shù)控制

控制釉漿性能的關(guān)鍵在于控制一次球磨合格率。一次球磨合格率是指從開(kāi)球到停球一次測(cè)漿性能就符合標(biāo)準(zhǔn)要求。釉漿性能包括流速、細(xì)度、水分、比重和球磨時(shí)間。這五項(xiàng)直接影響一次球磨合格率，釉料球磨工序必須嚴(yán)格控制一次球磨合格率（最好是控制在90%以上）。

4.1.1出球釉漿流速的控制

流速是指用涂-4粘度計(jì)裝滿一杯釉漿從孔口開(kāi)始流出到空口流線斷開(kāi)所用的時(shí)間。一般出球流速控制在70～120 s之間，根據(jù)陳腐24～48 h內(nèi)流速變化大小來(lái)定。當(dāng)陳腐時(shí)流速變小超過(guò)15 s可將流速控制在上限；當(dāng)陳腐時(shí)流速變小10 s或變大，則走下限；根據(jù)季節(jié)性變化，春季細(xì)菌繁殖迅速，甲基變質(zhì)快，導(dǎo)致流速變小，可將流速控制到上限，可使用0.05%的防腐劑來(lái)緩解甲基變質(zhì)。

流速控制方法及要點(diǎn)：通過(guò)調(diào)整粘土和甲基的用量來(lái)調(diào)整流速的大小，建議用水洗高嶺土8%～10%，球土3%～5%。土的用量不能過(guò)多，多了會(huì)造成釉漿中的有機(jī)物過(guò)多，易造成淋釉凹釉、釉痕等缺陷；中低粘甲基0.08%～0.15%，中高粘甲基用量不能超過(guò)0.1%，甲基過(guò)多會(huì)造成釉漿中的氣泡多，且難以排出，淋釉易出現(xiàn)凹釉、針孔等缺陷。

4.1.2 出球釉漿細(xì)度的控制

釉漿細(xì)度是指用100 mL比重杯量取一杯釉漿過(guò)325目篩，用自來(lái)水沖洗，直至篩下水變?yōu)榍宄簽橹?，倒出篩上的篩余烘干后所測(cè)出的重量。出球細(xì)度一般控制在0.4～1.5 g 325目/比重杯之間（可根據(jù)釉料的耐火度來(lái)調(diào)整大?。?，當(dāng)細(xì)度低于0.4 g 325目/比重杯時(shí)，容易出現(xiàn)淋釉縮釉和釉漿觸變的現(xiàn)象；當(dāng)大于1.5時(shí)容易出現(xiàn)嚴(yán)重沉淀現(xiàn)象。

4.1.3 出球水分的控制

釉漿水分是指釉漿中所含水的重量與釉漿重量的比值，釉漿水分一般控制在27.0%～30.0%之間。根據(jù)流速大小、解膠效果、球磨效率來(lái)綜合評(píng)定，其中28.0%～29.0%為最佳范圍。

4.1.4 釉漿比重的控制

釉漿比重是釉漿與純水重量的比值，用100 mL比重杯測(cè)定。一般控制在1.84～1.90之間，出球比重一般要控制在1.87～1.90之間，預(yù)留空間到釉線淋釉時(shí)調(diào)整。釉漿比重過(guò)大易出現(xiàn)沉淀和結(jié)塊現(xiàn)象，造成釉渣、釉痕等缺陷；釉漿比重過(guò)小易出現(xiàn)飄釉現(xiàn)象，淋釉后會(huì)形成弧形紋。

4.1.5 球磨時(shí)間

球磨時(shí)間是指球磨機(jī)開(kāi)啟至合格后停球的時(shí)間。當(dāng)流速、比重、水分、細(xì)度接近的前提下，球磨時(shí)間越長(zhǎng)，其釉漿性能越差，淋釉后的釉面效果越差。當(dāng)球磨時(shí)間超過(guò)20 h容易出現(xiàn)凹釉、針孔、橘皮、縮釉等缺陷。

4.2 釉漿陳腐期釉漿性能的控制

當(dāng)釉漿細(xì)度合格后，除鐵、過(guò)120目篩至釉缸陳腐。陳腐周期必須在24 h以上，最佳陳腐周期為48～72 h。陳腐周期不夠則會(huì)造成釉漿里的氣泡和有機(jī)物難以排出，在淋釉時(shí)容易出現(xiàn)凹釉和針孔等缺陷。陳腐后釉漿流速控制在60～80 s，為釉線使用時(shí)的最佳狀態(tài)。釉缸電機(jī)必須有變頻器控制攪拌速度，可通過(guò)調(diào)整攪拌速度來(lái)調(diào)整釉缸的流速大小。

（1）放漿后2 h由質(zhì)檢部檢測(cè)釉缸中流速、水分和比重。當(dāng)流速在60～80 s之間，則將攪拌頻率調(diào)至45 Hz，陳腐24 h后，在標(biāo)識(shí)牌上注明“合格”，并寫(xiě)明流速、比重和水分，否則不合格。

（2）放漿后2 h質(zhì)檢部檢測(cè)釉缸中流速，若流速在120 s以上，則將攪拌葉的攪拌速率調(diào)到60Hz（最大），攪拌2 h后再測(cè)流速，視情況變化再?zèng)Q定是否加水或三聚水來(lái)調(diào)整。

注意：釉漿的陳腐時(shí)間必須達(dá)到24 h，否則一律不使用。不合格釉漿堅(jiān)決不使用。

（3）釉放至釉缸后，每球加100～150 g的威猛先生，可分解油污和部分有機(jī)物。但用量不能超200 g，過(guò)多會(huì)產(chǎn)生大量氣泡。一般陳腐12 h后大量有機(jī)物會(huì)浮到釉面，必須安排人員打撈，否則會(huì)造成淋釉出現(xiàn)凹釉、針孔、釉痕等缺陷。

5 設(shè)備的清洗

淋釉最怕的就是油污，只要有一點(diǎn)點(diǎn)油污帶進(jìn)釉中都會(huì)造成批量凹釉降級(jí)。所有能與釉漿直接接觸的設(shè)備必須全部用清油劑（威猛先生）清洗。如果設(shè)備被污染了，釉漿性能控制再好也是枉然。

5.1 設(shè)備種類(lèi)

設(shè)備包括淋釉設(shè)備和噴水設(shè)備。

淋釉設(shè)備：鐘罩、漏斗、托盤(pán)、釉管、上釉缸、攪拌缸、釉泵、振篩、閥門(mén)、皮帶、托槽、拉釉車(chē)。

噴水設(shè)備：水刀機(jī)、噴頭、水管、水桶。

特別注意：閥門(mén)（球閥）、釉泵、釉缸、噴頭最容易帶進(jìn)油污。

5.2 設(shè)備清洗方法

新設(shè)備在生產(chǎn)運(yùn)輸存儲(chǔ)的過(guò)程中難免帶入油污，上述設(shè)備在安裝連接前必須先用清油劑（威猛先生）擦洗一遍。

（1）新設(shè)備組裝好以后加滿干凈的自來(lái)水，加200 g威猛先生，開(kāi)啟上釉缸，循環(huán)抽水，同時(shí)開(kāi)啟鐘罩下的皮帶。如此循序3天，第4天用清水沖洗掉威猛先生造成的氣泡，用廢釉漿或微粉磚白料泥漿循環(huán)抽2天后再清洗干凈即可。

第一次使用的上釉缸、攪拌缸、釉泵必須按照以上方法清洗，新使用的閥門(mén)則可將其拆開(kāi)用威猛先生浸泡，而且要提前泡好幾個(gè)以作備用。

（2）其他

1）機(jī)修工在接觸釉漿前必須確保手、衣服上不帶有油污；

2）攪拌電機(jī)、抽釉電機(jī)、釉泵都要使用變頻器控制功率；

3）鐘罩下安裝一個(gè)小風(fēng)扇，可將水汽吹走，防止滴水造成的凹釉。

6 小結(jié)

陶瓷行業(yè)有句俗話：“陶瓷生于原料，死于窯爐”。源頭工序沒(méi)有控制好，很難有高質(zhì)量產(chǎn)品。晶剛釉屬于熔塊釉，其釉漿性能遠(yuǎn)比生料釉差，所以其控制難度更大。制備高質(zhì)量的晶剛釉產(chǎn)品，釉漿的控制顯得尤為重要，本文從釉料配方、釉料加工、釉漿陳腐等幾個(gè)方面闡述晶剛釉釉漿的控制方法，希望能對(duì)相關(guān)企業(yè)有借鑒作用。