馮志祥李浩川朱京濤吳文娟
摘要:
為研究多層膜反射鏡的熱穩(wěn)定性,設(shè)計(jì)制備了工作在778 eV處的Co/Mo2C多層膜,研究了多層膜在退火實(shí)驗(yàn)中的熱穩(wěn)定性及界面結(jié)構(gòu)的變化。通過(guò)X射線反射測(cè)試表征及擬合退火前后多層膜的結(jié)構(gòu)信息,并用X射線衍射表征多層膜退火過(guò)程中膜層晶相結(jié)構(gòu)的變化。結(jié)果表明,多層膜的界面質(zhì)量較好,未退火樣品處于無(wú)定形態(tài)。在退火過(guò)程中,周期厚度變化小,多層膜的熱穩(wěn)定性優(yōu)異。隨著退火溫度的升高,在Mo2ConCo界面處,Co從CoC混合區(qū)域中析出生成Co3Mo晶粒,界面擴(kuò)散程度加大,從而CoonMo2C界面的熱穩(wěn)定性要優(yōu)于Mo2ConCo界面。
關(guān)鍵詞:
多層膜; 熱穩(wěn)定性; 界面特性
中圖分類號(hào): O 484.1文獻(xiàn)標(biāo)志碼: Adoi: 10.3969/j.issn.10055630.2015.05.016
引言
空間科學(xué)研究的深入發(fā)展推動(dòng)著極紫外與軟X射線天文觀測(cè)技術(shù)的不斷提高。高性能的極紫外多層膜反射鏡作為核心光學(xué)元件在天文觀測(cè)、等離子體診斷[56]、同步輻射等研究領(lǐng)域發(fā)揮著愈來(lái)愈重要的作用。在空間環(huán)境中,較大的環(huán)境溫差對(duì)于多層膜元件是極大的考驗(yàn),因而多層膜的熱穩(wěn)定性是衡量多層膜反射鏡實(shí)際使用性能的重要指標(biāo)之一。
周期多層膜通常由吸收層和間隔層兩種材料構(gòu)成,形成若干個(gè)界面,反射光在界面處干涉加強(qiáng),從而增強(qiáng)了反射率。另外,現(xiàn)有的研究表明,薄膜膜層之間的界面特性對(duì)薄膜的光學(xué)性能影響巨大,包括膜層之間的相互擴(kuò)散以及界面粗糙度等。Co作為一種常用的多層膜材料,有其自身的優(yōu)勢(shì)。它的熔點(diǎn)為1 495 ℃,可以滿足實(shí)際應(yīng)用中對(duì)于多層膜材料熱穩(wěn)定性的要求。此外,Co作為一種常用的磁性材料,還具備其他非磁性材料不可比擬的獨(dú)特優(yōu)勢(shì),可借鑒磁性分析手段對(duì)Co基多層膜進(jìn)行研究。Mo2C這種材料因具備高熔點(diǎn)(2 690 ℃)、高硬度等良好的機(jī)械性能以及在光學(xué)薄膜中熱穩(wěn)定性好、界面擴(kuò)散小等優(yōu)點(diǎn),近年來(lái)逐漸得到了國(guó)內(nèi)外科學(xué)家的關(guān)注。Faiser等將Mo2C作為阻隔層插入Mo/Si多層膜中,極大地改善了Mo/Si多層膜的熱穩(wěn)定性。Giglia等通過(guò)軟X射線駐波場(chǎng)發(fā)射譜的表征方式,探測(cè)了多層膜中近表層界面的元素化合態(tài)的變化,證明了Co/Mo2C多層膜具備較好的熱穩(wěn)定性以及保護(hù)作用。本文使用磁控濺射系統(tǒng)制備Co/Mo2C多層膜并在真空環(huán)境下退火至600 ℃,通過(guò)X射線掠入射反射測(cè)試及擬合多層膜結(jié)構(gòu)、X射線衍射表征膜層晶相狀態(tài),研究多層膜的熱穩(wěn)定性以及熱處理過(guò)程中的界面變化。
1實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)與樣品制備
根據(jù)Co在778eV處的L3吸收邊,掠入射角為11°,設(shè)計(jì)了周期厚度為4.1 nm,膜對(duì)數(shù)為30對(duì)的Co/Mo2C多層膜,Γ(吸收層/周期厚度)為0.36,在多層膜的最外層鍍制3.5 nm的B4C作為保護(hù)層。在理想界面的情況下,該膜系的理論反射率為45%。
采用JGP560C6型超高真空磁控濺射設(shè)備鍍制多層膜樣品,本底真空7E5Pa。退火實(shí)驗(yàn)的設(shè)備為一小真空室,小真空室內(nèi)有一線繞電爐,樣品盤直接放置于電爐上。樣品溫度通過(guò)一連接到盤上的熱電偶溫度計(jì)來(lái)監(jiān)控,電爐的溫度通過(guò)調(diào)節(jié)電流實(shí)現(xiàn)。退火過(guò)程中,本底真空7E4Pa,分別將樣品加熱到200 ℃,300 ℃,400 ℃,500 ℃,600 ℃并在對(duì)應(yīng)溫度上保持恒溫1 h,然后在真空環(huán)境下自然冷卻到室溫。
2實(shí)驗(yàn)結(jié)果和分析
2.1X射線反射測(cè)試
本文采用高分辨X射線衍射儀(英國(guó)Bede公司,D1型設(shè)備)測(cè)量多層膜的X射線掠入射反射曲線,光源為Cu的K Alpha線(0.154 nm)。根據(jù)測(cè)試結(jié)果,采用Bragg公式計(jì)算出多層膜的周期厚度,再擬合反射曲線,能得出多層膜中各層的厚度、相對(duì)密度、界面粗糙度等信息。圖1為Co/Mo2C多層膜在300 ℃退火前后的光強(qiáng)測(cè)試曲線??梢钥闯?,兩條曲線的布拉格峰角度和強(qiáng)度都基本一致,表明多層膜結(jié)構(gòu)在300 ℃退火后沒(méi)有發(fā)生明顯變化。圖2為Co/Mo2C多層膜300 ℃退火前后X射線反射率測(cè)試曲線的擬合曲線,擬合結(jié)果見(jiàn)表1。從擬合結(jié)果看出,未退火的樣品的CoonMo2C界面粗糙度為0.24 nm,Mo2ConCo界面的粗糙度為0.34 nm,表明Co/Mo2C多層膜的界面粗糙度很小,界面質(zhì)量好。退火前后多層膜的周期厚度沒(méi)有變化,都為4.18 nm。但是,圖2反射率曲線的擬合數(shù)據(jù)表明:300 ℃退火后,Co層的厚度膨脹0.2 nm,而Mo2C層的厚度相應(yīng)收縮了0.2 nm,并且Mo2ConCo界面的寬度從0.34 nm增大到0.82 nm,表明多層膜在退火過(guò)程中,界面寬度變大,兩種材料在Mo2ConCo界面處發(fā)生了界面擴(kuò)散。
可以看出,各級(jí)布拉格峰的角度與退火前的曲線基本一致,表明多層膜依然保持了周期性結(jié)構(gòu),周期厚度變化小。一級(jí)布拉格衍射峰的強(qiáng)度在退火前后變化不大,高級(jí)次的布拉格衍射峰在退火后強(qiáng)度變得很弱,因而可以看出在600 ℃退火后,多層膜界面質(zhì)量變差。圖4為Co/Mo2C多層膜600 ℃退火前后X射線反射率測(cè)試曲線的擬合曲線,擬合結(jié)果見(jiàn)表2。從擬合結(jié)果可以看出,退火前的界面粗糙度為0.25 nm和0.30 nm,在退火到600 ℃之后,周期厚度從4.17 nm變?yōu)?.13 nm,僅收縮0.04 nm,表明多層膜在退火到600 ℃以后,仍然保持了較好的周期結(jié)構(gòu),熱穩(wěn)定性優(yōu)異。圖4反射率曲線的擬合數(shù)據(jù)表明:600 ℃退火,Co層的厚度膨脹0.21 nm,Mo2C層的厚度相應(yīng)收縮了0.25 nm,其中Mo2ConCo界面的界面寬度從0.30 nm增大到0.88 nm,而CoonMo2C界面寬度基本不變,表明多層膜在退火過(guò)程中,兩種材料在Mo2ConCo界面處發(fā)生了相對(duì)嚴(yán)重的界面擴(kuò)散。
擬合各個(gè)退火溫度前后多層膜X射線反射率測(cè)試曲線,得到多層膜的膜層厚度變化信息見(jiàn)表3。
其中δCo為退火前后Co層厚度的變化量,δMo2C為退火前后Mo2C層厚度的變化量,δD為退火前后周期厚度的變化。正值表示膜層在退火后膨脹,負(fù)值表示膜層在退火后發(fā)生收縮。圖5為不同退火溫度下,多層膜界面寬度的變化。從擬合數(shù)據(jù)可以看出,Co/Mo2C多層膜的周期厚度在退火到600 ℃時(shí)變化都很小,熱穩(wěn)定性優(yōu)異。隨著退火溫度的升高,兩種材料發(fā)生界面擴(kuò)散,其中Co層厚度膨脹,Mo2C層厚度收縮。圖5可看出,CoonMo2C界面非常穩(wěn)定,界面寬度隨著退火溫度升高幾乎不變,而Mo2ConCo界面寬度則在退火300 ℃以后發(fā)生了展寬。
2.2X射線衍射測(cè)試
測(cè)試了Co/Mo2C多層膜樣品的大角X射線衍射曲線,來(lái)進(jìn)一步表征多層膜樣品在不同退火溫度下的晶相結(jié)構(gòu),測(cè)試結(jié)果見(jiàn)圖6。X射線衍射測(cè)試結(jié)果表明,未退火的Co/Mo2C多層膜樣品沒(méi)有布拉格衍射峰,膜層處于無(wú)定形態(tài)。隨著退火溫度的升高,在2θ為44°處有微弱的衍射峰,當(dāng)樣品退火到600 ℃之后,44°處出現(xiàn)了較為明顯的衍射峰,該峰的峰值強(qiáng)度為55。表明退火到600 ℃之后,有少量結(jié)晶物質(zhì)產(chǎn)
生。對(duì)比晶體物質(zhì)衍射的PDF卡片,可知44°對(duì)應(yīng)的衍射峰為Co3Mo(002)合金相。
天津大學(xué)在1996年發(fā)表了關(guān)于CoC熱處理相分離的趨勢(shì)的實(shí)驗(yàn),他們研究了Co/C多層膜由于相分離趨勢(shì),在低于250 ℃的退火之后發(fā)生了反射率增強(qiáng)現(xiàn)象。此外,在界面層的這種從相互混合區(qū)域分離成純物質(zhì)的現(xiàn)象在Co/Au,Co/Ag,Co/C和CoN/CN 多層膜的熱退火到250 ℃的實(shí)驗(yàn)中亦被觀測(cè)到。本文的Co/Mo2C多層膜也存在同樣的機(jī)理,如圖7為多層膜結(jié)構(gòu)變化示意圖。未退火的多層膜中,膜層處于無(wú)定形態(tài),界面層中Co和C以混合態(tài)的形式存在,界面層較小,界面質(zhì)量高,隨著退火溫度的升高,在Mo2ConCo界面處CoC相分離,析出純Co。在局部區(qū)域,Co繼而與Mo形成Co3Mo團(tuán)簇,在其周圍進(jìn)一步成核長(zhǎng)大生成Co3Mo晶粒。由于生成的Co3Mo晶粒尺寸較小,使得膜層中的原子沿著晶粒邊界進(jìn)一步擴(kuò)散,從而使得界面寬度變大,界面質(zhì)量變差。而CoonMo2C界面由于并無(wú)Co析出,其界面在熱處理的過(guò)程中非常穩(wěn)定。
3結(jié)論
本文設(shè)計(jì)制備了Co/Mo2C多層膜,并研究了其熱穩(wěn)定性以及界面演化特性。通過(guò)X射線反射率測(cè)試表征及擬合多層膜的膜層結(jié)構(gòu)信息,發(fā)現(xiàn)該多層膜有優(yōu)異的熱穩(wěn)定性及界面質(zhì)量。在熱退火過(guò)程中,周期厚度基本保持不變,退火到600 ℃時(shí),周期厚度收縮0.03 nm。Co層發(fā)生略微膨脹,Mo2C層相對(duì)收縮。通過(guò)X射線衍射表征多層膜在在熱退火過(guò)程中的晶相結(jié)構(gòu)的變化,表明未退火的Co/Mo2C多層膜處于無(wú)定形態(tài),隨著退火溫度的升高,Mo2ConCo界面處,Co從CoC混合區(qū)域中析出生成Co3Mo晶粒,使得膜層中的原子沿著晶粒邊界更嚴(yán)重的擴(kuò)散,從而CoonMo2C界面的熱穩(wěn)定性優(yōu)于Mo2ConCo界面。
參考文獻(xiàn):
[1]朱京濤,王蓓,徐垚,等.類鎳鉭軟X射線激光用多層膜反射鏡的研制[J].光學(xué)儀器.2006,28(4):146149.
[2]王風(fēng)麗,張眾,朱京濤,等.最小膜層厚度對(duì)X射線非周期多層膜光學(xué)性能的影響 [J].光學(xué)儀器,2006,28(4):4851.
張淑敏,朱京濤,王風(fēng)麗,等.極紫外多層膜基底表面粗糙度綜合表征技術(shù)[J].光學(xué)儀器,2006,28(4):137140.
NORDGREN J,BRAY G,CRAMM S,et al.Soft xray emission spectroscopy using monochromatized synchrotron radiation[J].Review of Scientific Instruments,1989,60(7):1690.
[5]DWIVEDI B N.EUV spectroscopy as plasma diagnostic[J].Space Science Reviews,1993,65 (3/4):289316.
[6]KEY M H,BARBEE J T W,DA S L B,et al.New plasma diagnostic possibilities from radiography with x.u.v.lasers[J].Journal of Quantitative Spectroscophy and Radiative Transfer,1995,54(1/2):221226.
[7]SPILLER E.LowLoss reflection coatings using absorbing materials[J].Applied Physics Letters,1972,20 (9):365367.
[8]SPILLER E.Reflective multilayer coatings for the far UV region[J].Applied Optics,1976,15 (10):23332338.
[9]HAELBICH RP,KUNZ C.Multilayer interference mirrors for the XUV range around 100eV photon energy[J].Optics Communications,1976,17(3):287292.
YULIN S,BENOIT N.FEIGL T,et al.Interfaceengineered EUV multilayer mirrors[J].Microelectronic Engineering,2006,83(4/9):692694.
[11]NGUYEN T D,BARBEE J T W.Residual stresses in Mo/Si and Mo2C/Si multilayers[J].SPIE,1998,3444:543550.
[12]KAISER N,YULIN S A,F(xiàn)EIGL T.Sibased multilayers with high thermal stability[J].SPIE,2000,4146:91100.
[13]GIGLIA A,MUKHERJEE S,MAHNE N,et al.Thermal effects on Co/Mo2C multilayer mirrors studied by soft xray standing wave enhanced photoemission spectroscopy[J].SPIE,2013,8777:877701.
[14]白海力,姜恩永,王存達(dá),等.熱處理Co/C軟X射線多層膜的掠入射反射率增強(qiáng)[J].物理學(xué)報(bào),1997,46(4):732736.
[15]DEN BROEDER F J A,KUIPER D,VAN DE MOSSELAER A P,et al.Perpendicular magnetic anisotropy of CoAu multilayers induced by interface sharpening[J].Physical Review Letters,1998,60(26):27692772.
[16]LUBY S,MAJKOVA E.Tailoring of multilayer interfaces by pulsed laser irradiation[J].Applied Surface Science,2005,248(1/4):316322.
[17]BAI H L,JIANG E Y,WANG C D.Interdiffusion in Co/C soft Xray multilayer mirrors[J].Thin Solid Films,1996,286(1/2):176183.
[18]BAI H L,JIANG E Y,WANG C D.Interdiffusion in CoN/CN soft Xray multilayer mirrors[J].Thin Solid Films,1997,304(1/2):278285.
(編輯:張磊)