汪 忠,李艷武,車清論
(蘭州空間技術(shù)物理研究所 真空技術(shù)與物理重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,蘭州 730000)
電推進(jìn)技術(shù)是目前空間推進(jìn)的先進(jìn)技術(shù),已成為航天器性能先進(jìn)性的標(biāo)志[1-2]。電推進(jìn)的原理為空間推進(jìn)技術(shù)的發(fā)展提供了進(jìn)一步的空間。對近地軌道有一種可能性,就是利用地球高層大氣(電離層中F層)中自然存在的稀薄等離子體作為空間發(fā)動機(jī)的推進(jìn)劑。太陽輻射的能量致使高層大氣部分電離,形成稀薄的等離子體。原理上如果航天器上的適當(dāng)裝置可以直接加速這些軌道環(huán)境中的等離子體,則航天器將受到一個反向推力。有關(guān)這個設(shè)想的基本方案是在航天器上添加一個加有電壓的平行雙柵結(jié)構(gòu),當(dāng)航天器在電離層飛行時,電離層中的等離子體以6 000~8 000 m/s的相對速度進(jìn)入航天器上的平行柵,其中正離子被雙柵之間的電場加速,電子則被柵間電場排斥,由于電子質(zhì)量遠(yuǎn)小于正離子,所以產(chǎn)生的阻力可以忽略。2006年美國Northrop Grumman公司提出了利用平行柵加速軌道環(huán)境離子的電推進(jìn)技術(shù)方案[3](The Ambient At?mosphere Ion Thruster,AAIT)。此后,美國喬治亞州理工學(xué)院研究小組報告了研究結(jié)果,建立了利用軌道環(huán)境離子的平行柵推力器的數(shù)學(xué)模型,并計算了推力、阻力等[4-5]。平行柵電場加速軌道離子能否產(chǎn)生推力是研究平行柵推力器要解決的一個核心問題,用二維PIC方法對軌道離子被雙柵引出的過程進(jìn)行數(shù)值模擬[6]。
加有電壓的平行雙柵的結(jié)構(gòu)類似于離子推力器的屏柵和加速柵,雙柵上打有規(guī)則分布的同軸小孔,因柵極上的每個孔都具有軸對稱性,采用二維軸對稱模型[7-8]對單孔進(jìn)行模擬,如圖1所示。
圖1 平行雙柵電場加速電離層等離子體圖
計算域r、z分別為徑向和軸向位置,R0、Z0分別為計算域徑向和軸向長度,rf為前柵孔半徑,rb為后柵孔半徑,Φ為電勢,下邊界為柵孔軸線,坐標(biāo)原點(diǎn)選在計算域左下角,計算區(qū)域的大小為7.5 mm×1.1 mm,劃分為300×44的正交等距網(wǎng)格,網(wǎng)格大小為0.025 mm,滿足△z≤λD,△r≤λD的要求,其中λD為等離子體的德拜長度。計算域的邊界條件分為電場邊界條件和粒子運(yùn)動邊界條件兩個部分,如圖2所示。計算域左右邊界的電場邊界條件取為Φ=0,前柵電勢取為0,后柵電勢取為-1 000 V,上下邊界的電場邊界條件取為Neumann型邊界條件。粒子運(yùn)動邊界條件分為兩種。上下邊界為反射邊界,左右邊界和柵極為吸收邊界。模擬過程中,如果粒子超出左右邊界或者撞到柵極,則將粒子刪除,如果達(dá)到上下邊界,則將粒子鏡面反射回計算域,即粒子z向速度不變,r向速度相反。
雙柵產(chǎn)生的靜電勢和運(yùn)動等離子體產(chǎn)生的自洽電勢可通過求解Possion方程來得到:
式中:e為電子電量;ε0為真空介電常數(shù);ni為離子數(shù)密度;ne為電子數(shù)密度。ni通過以網(wǎng)格點(diǎn)為中心的一個網(wǎng)格大小的方形區(qū)域的離子個數(shù)除以網(wǎng)格面積求得。將電子視為熱平衡流體,ne通過Boltzmann方程求得。采用有限差分法求解出電勢后,可求出電場強(qiáng)度:
圖2 計算域及邊界條件圖
PIC方法的基本思想為:通過求解電場Poisson方程得到電勢分布,用插值法求得粒子所在位置處的電場力,然后加速粒子,再用新的粒子位置求解新的電場分布,上述過程循環(huán)進(jìn)行,直至收斂。
粒子以初始位置和初始速度從計算域左邊界進(jìn)入,經(jīng)電場作用后再從邊界離開。在粒子初始化中,須確定粒子的初始位置與初始速度,粒子初始位置都位于計算域左邊界發(fā)射面上,其在發(fā)射面上位置隨機(jī)給定,并保證粒子在整個圓形發(fā)射面上均勻分布,粒子初始發(fā)射速度z向分量由航天器在軌速度和Maxwell速度確定:
發(fā)射速度徑向分量滿足Maxwell速度分布:
式中:vM為Maxwell速度;θ是在0到π間均勻分布的隨機(jī)數(shù)。
粒子加速方法采用蛙跳格式,粒子運(yùn)動差分方程為:
式中:m為粒子質(zhì)量;v為粒子速度;F為電場力;q為電量;x為粒子位置,電場強(qiáng)度由與粒子鄰近的4個網(wǎng)格點(diǎn)上的電場強(qiáng)度插值得到。
時間步長的選取必須滿足:
式中:ωp為等離子體頻率;選取tp=1.0×10-9s。
為簡化問題,在粒子模擬過程中,只考慮軌道等離子體環(huán)境中的一價單原子氧離子、電子,不考慮中性原子。等離子體中存在多種粒子之間的碰撞,如帶電粒子之間的庫侖碰撞,離子與中性粒子間的電荷交換碰撞等,但在低軌道環(huán)境中,粒子密度較低,分子自由程較大,因此,不考慮粒子間的碰撞。
模擬程序需要輸入的參數(shù)包括:柵極的幾何參數(shù)、柵極電壓、等離子體參數(shù)。所取參數(shù)如表1、2所列,其中等離子體參數(shù)以300 km高度軌道的電離層等離子體為例[9]。
表1 柵極參數(shù)
表2 等離子體參數(shù)
在300 km高度,主要的離子成分為單原子氧離子,在模擬過程中,只考慮O+而忽略其他離子成分(如He+)。平行柵上游離子密度niu是正常電離層300 km高度的數(shù)值,下游離子密度根據(jù)上游粒子密度計算得到,具體如式(7):
式中:vu為上游離子速度,即離子與航天器的相對速度為7 700 m/s;vd為下游離子速度;ΔV為雙柵電勢差;m為氧離子質(zhì)量。
從圖3、4中可以看出,柵極間的電勢線幾乎垂直于z軸,因此在z軸方向上形成極強(qiáng)的電場將進(jìn)入的離子加速引出,而當(dāng)離子被引出后柵,電勢則開始上升,離子受到與z軸相反方向的電場開始減速,這是因?yàn)榧佑胸?fù)高壓的后柵在等離子體中將形成較大尺寸的鞘層(幾分米至幾米),鞘層處的電位與空間電位相當(dāng),可認(rèn)為是0電位,后柵和鞘層之間形成與z相反方向的電場。值得說明的是在模擬中,計算域z軸方向的尺度應(yīng)與鞘層尺度相當(dāng),但這將耗費(fèi)相當(dāng)長的機(jī)時。因此,模擬過程未將計算域z軸取到鞘層尺度,但z軸方向尺度已經(jīng)取得較大,可認(rèn)為右邊界處即為鞘層,這樣的做法對模擬結(jié)果的影響可以忽略。
圖3 電勢分布圖
圖4 粒子軌跡圖
如圖5所示,左邊界電位為0,在平行柵中,電位下降△U,到平行柵下游,電位開始上升,到右邊界,電位恢復(fù)到0,離子在這一過程中電場勢能沒有改變,因此并沒有從平行柵電場中獲得能量,即離子在這一過程中沒有被加速。
圖5 軸線處電勢隨z軸變化曲線圖
King等[5]提出在平行柵前增加一個離子勢能提升區(qū),用來提升離子勢能,這樣,當(dāng)離子到達(dá)平行柵下游的鞘層處,多余的勢能轉(zhuǎn)化為動能,即離子最終被加速噴出,航天器獲得反向推力。
圖6和圖7是在離子勢能提升區(qū)將電勢提升到50 V后的模擬結(jié)果。比較圖4和圖7可以看出,加了離子勢能提升區(qū)后,離子在加速柵中的聚焦變的明顯。區(qū)的辦法,平行柵則可以加速軌道中的離子以獲得反向推力。
圖6 加離子勢能提升區(qū)的電勢分布圖
圖7 加離子勢能提升區(qū)的粒子軌跡圖
如圖8所示,由于離子勢能提升,到下游鞘層處,電勢恢復(fù)到0時離子還剩余部分動能,即離子被加速噴出,航天器將獲得反向推力。
圖8 加離子勢能提升區(qū)后軸線處電勢隨z軸變化曲線圖
模擬了不加離子勢能提升區(qū)和加上離子勢能提升區(qū)兩種情況下離子被平行柵電場引出的情況。模擬結(jié)果表明:加電壓的平行柵無法直接加速軌道離子,利用在平行柵前增加一個離子勢能提升
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