林偉娜
(汕頭超聲印制板公司,廣東 汕頭 515041)
隨著高多層及精細(xì)線路板件的增多,外層制作過程對堿蝕制作能力要求更是愈加苛刻。通過試驗評估不同蝕刻制作條件下的加工情況,以此為參考進而對設(shè)備蝕刻段的噴淋系統(tǒng)、傳送參數(shù)及滾輪等方面進行優(yōu)化,提高加工能力,使其能夠滿足高低基銅及精細(xì)線路板件的穩(wěn)定性制作。
根據(jù)蝕刻速度、蝕刻壓力及噴淋長度等幾大因素分不同水平設(shè)計,通過蝕刻均勻性及線寬控制情況尋找其中差異和規(guī)律,并以此結(jié)果為參考尋找相應(yīng)的改善措施。同時為避免不同時間段藥水狀態(tài)變化后的蝕刻量差異影響,所有試驗均是在同一時間段進行。
采用457 mm×610 mm銅厚68.6 mm的基銅板件,蝕刻后采用9*6點法(短邊前后各留邊38 mm、各點間距為76 mm,長邊左右各留邊25.4 mm、各點間距為63.5 mm)均勻測量(如圖1),測量工具為銅厚測量儀。均值及蝕刻均勻性COV,除COV外,其它數(shù)據(jù)單位均為mm。
圖1 蝕刻均勻性數(shù)據(jù)測量圖
試驗條件包括不同壓力數(shù)值及上下板面的不同壓力差值,且考慮上板面受水池效應(yīng)影響,蝕刻量較小于下板面,因此試驗時上壓力均設(shè)置大于下壓力。試驗過程中均采用同一蝕刻速度及有效缸體噴淋長度,試驗條件及結(jié)果如表1。
從以上試驗結(jié)果可以看出,隨著蝕刻壓力的增大,上板面COV值逐漸上升,下板面基本接近。說明壓力的增大可一定程度上提高上板面蝕刻均勻性。
實際生產(chǎn)過程中相同板件所需的蝕刻量是一定的,所以本次試驗過程為較為接近的蝕刻量,根據(jù)不同的蝕刻速度設(shè)置值而調(diào)整噴淋壓力及缸體有效噴淋長度進行對比,看出傳送速度對是蝕刻均勻性的影響,試驗條件及結(jié)果如表2。
從以上試驗結(jié)果可以看出,在保持較為接近的蝕刻量前提下,蝕刻速度越快,缸體有效長度越大,蝕刻均勻性會更佳,尤其對上板面影響愈加明顯。
由于加大蝕刻壓力、增加缸體有效噴淋長度、加快蝕刻速度均能改善蝕刻均勻性,尤其是上板面COV。因此為提高設(shè)備對于精細(xì)線路及低基銅板件的制作能力,且不影響其在高基銅板件的控制穩(wěn)定性,在綜合評估設(shè)備的改造難度后,將主要從噴淋系統(tǒng)、傳送參數(shù)及傳送系統(tǒng)著手改善。預(yù)期改善目標(biāo)為生產(chǎn)精細(xì)線路板件時上板面COV≥96.5%,極差≤5 mm。
對于精細(xì)線路或低基銅板件,受其所需蝕刻量較低限制。作為本次改造對象的設(shè)備,原計劃生產(chǎn)方式是縮短有效蝕刻缸體長度以實現(xiàn)蝕刻速度的下降。但在試驗過程中發(fā)現(xiàn)該種制作方式下容易出現(xiàn)線路不良或側(cè)蝕量大的蝕不凈隱患,一方面可能是缸體有效長度縮短后蝕刻均勻性能力下降,另一方面蝕刻速度下降影響板面藥水流速,從而加劇上板面線路側(cè)蝕量有關(guān)。
表1 不同壓力下蝕刻均勻性情況
序號 上壓 下壓 噴淋長 蝕刻速度 均勻性測試結(jié)果力/MPa 力/MPa 度/m /(m/min) 最大值 最小值 極差 平均值 COV 6 0.17 0.14 4.5 3.8 上板面 43.0 35.5 7.5 39.0 93.4%下板面 42.8 38.0 4.8 40.9 96.5%7 0.21 0.14 4.5 4.0 上板面 43.7 34.2 9.5 38.4 94.1%下板面 42.1 36.9 5.2 38.5 97.4%8 0.24 0.17 4.5 4.2 上板面 44.4 37.5 7.4 40.0 94.6%下板面 43.0 38.8 4.2 40.5 97.7%9 0.27 0.24 4.0 s3.5 上板面 32.0 24.7 7.3 28.0 93.0%下板面 30.8 27.7 3.1 29.0 97.2%
因此為改善板件的制作質(zhì)量,結(jié)合生產(chǎn)線特點,主要采取措施是加長該類板件的有效蝕刻缸體長度,并提高設(shè)備的傳送速度控制范圍以滿足板件的蝕刻控制速度。
改善后對比不同蝕刻速度下的蝕刻均勻性,結(jié)果如表3。
隨著蝕刻速度的提高,上板面蝕刻均勻性明顯改善,COV可由93.9%提高至94.8%,極差由8.4 mm下降至4.1 mm;下板面蝕刻均勻性基本不變。隨著速度的提高,上板面板中間蝕刻量低的區(qū)域越來越小,說明水池效應(yīng)的影響在逐漸下降。
雖然對傳送參數(shù)進行調(diào)整后,基本可以滿足細(xì)線路板件的速度控制要求,也解決藥水流速帶來的線路側(cè)蝕問題。但從表3的試驗結(jié)果,4.0 m/min 下的COV僅93.9%、極差值為8.4 mm,還是無法達(dá)到制作精細(xì)線路板件預(yù)期目標(biāo),而從其蝕刻均勻性測試圖可以看出改善關(guān)鍵點在于消除上板面水池效應(yīng)。
結(jié)合設(shè)備特點及改造費用,首先考慮采取的最便捷及節(jié)約方式是結(jié)合噴嘴排布來調(diào)整壓水棍,及時驅(qū)趕上板面中間表面滯留藥水,減少水池效應(yīng)。
對于蝕刻速度為4.0 m/min的蝕刻均勻性,改善前后結(jié)果如表4。
調(diào)整傳送系統(tǒng)后,上板面蝕刻均勻性明顯改善,對于常規(guī)中高基銅所需蝕刻條件,COV可由93.9%提高至94.6%,極差由8.4 mm下降至7.5 mm;下板面蝕刻均勻性基本不變。改善后上板面板中間蝕刻量低的區(qū)域明顯縮小,說明水池效應(yīng)的影響已得到下降。
在增加壓水棍后,雖然上板面水池效應(yīng)已得到改善,但仍然無法達(dá)到預(yù)期目標(biāo)。由于在前面的試驗及改善過程中均發(fā)現(xiàn)下板面蝕刻均勻性基本不變,因此后續(xù)改善關(guān)鍵點在于解決上板面后半部分與前端的蝕刻量差異。
結(jié)合設(shè)備的現(xiàn)有特點及各工藝條件,主要是從預(yù)噴參數(shù)及預(yù)噴壓力著手,目的在于加大上板面后半部分的蝕刻量。改善前后結(jié)果如表5。
表3 改善傳送參數(shù)前后蝕刻均勻性數(shù)據(jù)對比
表4 改善傳送系統(tǒng)前后蝕刻均勻性數(shù)據(jù)對比
表5 改善噴淋系統(tǒng)前后蝕刻均勻性數(shù)據(jù)對比
調(diào)整噴淋系統(tǒng)后,上板面蝕刻均勻性明顯改善,對于常規(guī)中高基銅所需蝕刻條件,其COV可由93.9%提高至96.6%,極差由8.4 mm下降至5.1 mm。在通過增加實心棍、提高預(yù)蝕壓力及調(diào)整預(yù)噴參數(shù)后,上板面板中間蝕刻量低區(qū)域已基本消除,說明上板面水池效應(yīng)已基本得到解決。
在相關(guān)改善措施完成后,對于精細(xì)線路或低基銅制作條件下的上板面蝕刻均勻性重新進行測試,對比結(jié)果如表6。
對于精細(xì)線路制作,其上板面蝕刻均勻性COV已由93.0%提高至96.2%,極差由7.3 mm下降至4.0 mm,基本達(dá)到預(yù)期目標(biāo),實現(xiàn)穩(wěn)定性制作能力的要求。
同一類型精細(xì)線路及低基銅板件各取36拼,對比改善前后兩種方式下的線寬控制情況,制作條件如下:
(1)平板電鍍、外層圖形轉(zhuǎn)移、圖形電鍍均采用相同設(shè)備及工藝條件;
(2)同一時間段進行蝕刻,認(rèn)面認(rèn)向制作;
(3)采用相同設(shè)備及測量參數(shù)進行數(shù)據(jù)收集。
(4)每面測量同一位置的過孔線及孤立線,設(shè)計線寬為0.094 mm。
測量結(jié)果及數(shù)據(jù)分析如表7。改善后上下板面的線寬CPK值均得到提高,數(shù)據(jù)分布更為集中,實現(xiàn)生產(chǎn)穩(wěn)定性控制要求。改善后的密集線路線腳更好,側(cè)蝕更小,線路更均勻整齊,更有利于精細(xì)線路的穩(wěn)定性控制要求。
表6 改善前后精細(xì)線路制作條件下的蝕刻均勻性數(shù)據(jù)對比
表7 改善前后精細(xì)線路線寬穩(wěn)定性數(shù)據(jù)對比
通過初期試驗的對比,發(fā)現(xiàn)提高蝕刻壓力、增加缸體有效噴淋長度、加快蝕刻速度均能改善蝕刻均勻性。以此為基礎(chǔ)上綜合評估設(shè)備的現(xiàn)有特點及改造難度,對傳送參數(shù)、傳統(tǒng)系統(tǒng)及噴淋系統(tǒng)逐一改造并驗證、再調(diào)整的方式進行改善,降低設(shè)備改造難度及改造費用。
在基本不改變設(shè)備原生產(chǎn)操作參數(shù)的前提下,實現(xiàn)蝕刻均勻性的提高(上板面COV可提升3%,極差值可下降3.5 mm),達(dá)到預(yù)期改善目標(biāo),提高設(shè)備整體加工能力,滿足高低(12 mm ~ 171.5 mm)基銅及細(xì)線路板件的穩(wěn)定性制作。