董晨曦,王立新
(中國(guó)科學(xué)院微電子研究所,北京100029)
功率VDMOS器件因其具有高輸入阻抗、開(kāi)關(guān)速度快等諸多優(yōu)點(diǎn)[1],近些年發(fā)展迅速,但作為功率器件,較大的驅(qū)動(dòng)電流將產(chǎn)生很大的熱量,隨著結(jié)溫的升高,將嚴(yán)重影響器件的可靠性和使用壽命。因此,如何準(zhǔn)確的評(píng)估器件熱性能優(yōu)劣就顯得非常重要了,而熱阻值就是衡量器件熱性能好壞的重要參數(shù)。
通常,我們?cè)诳疾炱骷崽匦詴r(shí),容易將熱阻值看成恒定不變的常量。但實(shí)際上,器件熱阻值并不是固定不變的,它會(huì)隨諸多因素的變化而變化,如耗散功率、環(huán)境溫度、器件類(lèi)型、芯片布局,封裝方法等。本文通過(guò)對(duì)比性試驗(yàn),著重分析了功率VDMOS器件穩(wěn)態(tài)熱阻值與耗散功率及環(huán)境溫度之間的變化關(guān)系,并對(duì)該變化關(guān)系進(jìn)行了合理的解釋。
熱阻定義 在熱平衡條件下,沿器件熱流通道上的溫度差與產(chǎn)生溫差的耗散功率之比[2]:
式中Rθjc為結(jié)到管殼的熱阻(℃/W或K/W);Tj為結(jié)溫;Tc為殼溫;PH是耗散功率。其中,PH可通過(guò)儀器讀出,因此,結(jié)溫Tj和殼溫Tc的測(cè)量便是熱阻測(cè)試的關(guān)鍵。
通常,由于封裝的密封完整性,很難直接獲得器件的結(jié)溫。因此便需要通過(guò)電學(xué)法測(cè)量器件內(nèi)部的溫度敏感元件,從而間接實(shí)現(xiàn)結(jié)溫的測(cè)量。功率VDMOS主要利用源-漏間寄生PN結(jié)二極管作為溫敏元件,通過(guò)對(duì)結(jié)電壓Vf的測(cè)量,間接的獲取器件結(jié)溫Tj(圖1)。
圖1 n溝VDMOS結(jié)構(gòu)圖和電路符號(hào)
小電流條件下,半導(dǎo)體PN結(jié)結(jié)溫變化ΔTj與正向結(jié)電壓變化ΔVf呈良好線性關(guān)系[4],用溫度校準(zhǔn)系數(shù)為K來(lái)表示。滿足關(guān)系式:
由式(2)可知,結(jié)溫測(cè)量的重點(diǎn)就是溫度校準(zhǔn)系數(shù)K以及結(jié)壓降ΔVf的測(cè)定。
1.1.1 溫度校準(zhǔn)系數(shù)測(cè)量
溫度校準(zhǔn)系數(shù)K表征的是結(jié)電壓隨溫度的變化。測(cè)量裝置(油浴加熱裝置)見(jiàn)圖2,該裝置采用高熱導(dǎo)率且電絕緣的液態(tài)礦物油作為傳熱媒介給器件加熱和散熱,下部的磁力攪拌器保證了油溫的均勻分布。實(shí)驗(yàn)中將器件的柵-漏短接,源-漏分別接正負(fù)電極(N型),放入校準(zhǔn)鍋內(nèi),通以測(cè)試電流Im,加熱油鍋至要求的溫度(125℃),整個(gè)測(cè)試過(guò)程器件與油浴環(huán)境始終處于熱平衡狀態(tài),因而可以通過(guò)熱電偶測(cè)量油溫作為器件的結(jié)溫,之后讓油鍋?zhàn)匀焕鋮s,并且每5℃讀取一次器件兩端的電壓值,便可以利用正向壓降與溫度的良好線性關(guān)系[5]得到溫度校準(zhǔn)系數(shù)K,如圖3所示。
圖2 溫度校準(zhǔn)系數(shù)測(cè)量裝置
1.1.2 結(jié)壓降測(cè)量
結(jié)壓降 ΔVf的測(cè)定是按照 JESD51標(biāo)準(zhǔn)[6],采用加熱電流與測(cè)試電流相交替的方法實(shí)現(xiàn)的,測(cè)試原理圖如圖4所示。
圖3 溫度系數(shù)曲線
圖4 測(cè)試原理圖
測(cè)試步驟:
①開(kāi)關(guān)置于1,給定加熱電壓VH,使加熱電流IH1通過(guò)待測(cè)器件直至器件達(dá)到熱穩(wěn)定狀態(tài)后,迅速將開(kāi)關(guān)置于2,在測(cè)試電流IM下測(cè)定此時(shí)的正向壓降Vf1。
②開(kāi)關(guān)重新?lián)苤?,在同樣的加熱電壓下,使加熱電流IH2通過(guò)待測(cè)器件直至器件達(dá)到熱穩(wěn)定狀態(tài)后,迅速將開(kāi)關(guān)置于2,并在同樣測(cè)試電流IM下測(cè)定此時(shí)的正向壓降Vf2。
試驗(yàn)中將器件水平放置在冷卻基板上,并通過(guò)基板中部的熱偶進(jìn)行殼溫的精確測(cè)量,裝置示意圖如圖5所示。為了保證測(cè)量的精確性,將基板與循環(huán)水冷冷卻裝置連接在一起,該裝置可以實(shí)現(xiàn)對(duì)管殼溫度的精確控制,保證測(cè)量過(guò)程中殼溫的恒定。與此同時(shí),儀器上部的壓力槍以及導(dǎo)熱硅脂的使用進(jìn)一步增強(qiáng)了管殼與基板間的接觸,良好的接觸不僅有效的減小了界面間的接觸熱阻,而且促進(jìn)了熱量的良好傳導(dǎo)。
圖5 裝置示意圖
試驗(yàn)分別選取了TO-39和TO-254型金屬封裝、編號(hào)為A315及A071的功率VDMOS器件,對(duì)它們?cè)诓煌纳⒐β屎铜h(huán)境溫度下的熱阻測(cè)試結(jié)果進(jìn)行了研究。
試驗(yàn)中將電壓恒定,通過(guò)改變電流來(lái)調(diào)節(jié)耗散功率大小。兩種封裝器件的測(cè)試條件及結(jié)果見(jiàn)表 1、表 2。
表1 測(cè)試條件
表2 不同輸入電流下的結(jié)溫與熱阻值
圖6是兩種器件熱阻值隨電流的變化趨勢(shì)圖。圖中可見(jiàn),他們的熱阻值均隨輸入電流的增大而增大。A315在200 mA~1 100 mA時(shí)熱阻值從4.859℃/W增加到5.111℃/W;A071在0.6 A~5.5 A時(shí)熱阻值從0.431℃/W增加至0.478℃/W。這種變化主要?dú)w結(jié)于電流擁擠現(xiàn)象和由于溫度上升而導(dǎo)致的器件內(nèi)部材料導(dǎo)熱系數(shù)的變化。早先的一些研究已經(jīng)表明,半導(dǎo)體器件在高電流密度下會(huì)發(fā)生電流擁擠[7-9]。Siegal[10]的研究認(rèn)為,電流擁擠現(xiàn)象會(huì)導(dǎo)致器件的有效傳熱面積減少,而熱阻值與傳熱面積存在反比關(guān)系,因而熱阻值增大。此外,一些研究表明器件內(nèi)部材料的導(dǎo)熱系數(shù)會(huì)隨著溫度的變化而變化。D.Kotchetkov[11]等人發(fā)現(xiàn),當(dāng)溫度從25℃升高至125℃時(shí),GaN的導(dǎo)熱系數(shù)從2.0 W/cmK減小到 1.6 W/cmK;同樣,A.Christensen[12]的團(tuán)隊(duì)也發(fā)現(xiàn),當(dāng)溫度從25℃增至175℃時(shí),GaN的導(dǎo)熱系數(shù)從2.50W/cmK降至1.75 W/cmK;而對(duì)于Si材料,當(dāng)溫度從25℃上升至125℃時(shí),導(dǎo)熱系數(shù)會(huì)從1.56 W/cmK下降至1.05 W/cmK。由此可見(jiàn),結(jié)溫的上升會(huì)導(dǎo)致材料導(dǎo)熱系數(shù)的下降,反過(guò)來(lái),材料導(dǎo)熱系數(shù)的不斷下降又會(huì)影響器件的熱傳導(dǎo),從而進(jìn)一步使結(jié)溫升高,若控制不善,甚至?xí)纬蓯盒匝h(huán)而燒毀器件??梢?jiàn),材料的導(dǎo)熱系數(shù)變化是熱阻值變化的另一個(gè)重要因素(熱阻值與導(dǎo)熱系數(shù)成反比)。此外,也有研究表明熱界面材料也會(huì)隨溫度的變化而改變[13],當(dāng)溫度升高時(shí),VDMOS器件各結(jié)構(gòu)層之間的失配度及熱界面材料的性能會(huì)發(fā)生變化,從而導(dǎo)致器件溫度升高,熱阻增大。
圖6 熱阻隨輸入電流變化趨勢(shì)圖
試驗(yàn)中采用循環(huán)水冷冷卻裝置實(shí)現(xiàn)對(duì)溫度的精確控制。在相同的測(cè)試條件下,選取了18℃、29℃、37℃三個(gè)環(huán)境溫度節(jié)點(diǎn)對(duì)兩種器件進(jìn)行了研究,結(jié)果如圖7、圖8所示。
圖7 結(jié)溫隨電流在不同環(huán)境溫度下的變化圖
圖8 熱阻值隨電流在不同環(huán)境溫度下的變化圖
圖中可見(jiàn),相同驅(qū)動(dòng)電流下,兩種器件的結(jié)溫和熱阻值均隨環(huán)境溫度的升高而增加。以A315器件為例,漏源電壓恒定在12 V,驅(qū)動(dòng)電流為800 mA時(shí),器件在18℃、29℃、37℃ 3個(gè)環(huán)境溫度節(jié)點(diǎn)的結(jié)溫分別為83.7℃、94.6℃、102.3℃。對(duì)于功率器件,考慮到器件的連續(xù)工作溫度范圍以及壽命、性能等方面的因素,通常熱阻測(cè)試時(shí)結(jié)溫上限不超過(guò)125℃。也就是說(shuō),在結(jié)溫的允許范圍內(nèi),將器件加熱到相同參考結(jié)溫時(shí),較低的環(huán)境溫度下器件可以輸出較大的功率,而較高的環(huán)境溫度則會(huì)限制器件的最大輸出功率,嚴(yán)重影響器件性能。同時(shí),較高的環(huán)境溫度也會(huì)導(dǎo)致器件失效率的提高,圖9所示為功率器件失效率與結(jié)溫的關(guān)系圖。
圖9 功率器件失效率與結(jié)溫的關(guān)系曲線
環(huán)境溫度對(duì)熱阻值的影響主要有兩個(gè)方面:一方面隨著環(huán)境溫度的升高,器件內(nèi)部各材料的導(dǎo)熱系數(shù)不斷變小,導(dǎo)致熱阻值逐漸增大;另一方面,較高的環(huán)境溫度也會(huì)使器件的散熱效果變差,導(dǎo)致內(nèi)部熱量不能及時(shí)疏導(dǎo)從而造成熱量的積累,進(jìn)而增大了熱阻測(cè)試結(jié)果。
本文運(yùn)用電學(xué)測(cè)試法原理,著重研究了耗散功率和環(huán)境溫度變化對(duì)功率VDMOS穩(wěn)態(tài)熱阻值的影響。研究表明,器件熱阻值并不是一個(gè)固定不變的量。隨著耗散功率增大,由于電流擁擠效應(yīng)的產(chǎn)生以及材料導(dǎo)熱系數(shù)的不斷減小,會(huì)導(dǎo)致器件熱阻值逐漸變大;而環(huán)境溫度升高同樣會(huì)引起熱阻值增大,并在很大程度上限制器件的最大輸出功率,影響器件性能,而當(dāng)溫度升高至一定程度時(shí),甚至?xí)霈F(xiàn)器件的工作失效。該研究旨在加深對(duì)功率VDMOS器件熱阻理論的全面認(rèn)識(shí),為實(shí)際工作中器件的熱特性評(píng)估提供了可靠的參考依據(jù)。
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