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    聚酯粉末涂層在模擬海洋環(huán)境中的腐蝕行為

    2013-12-01 06:38:06周和榮揭敢新
    材料工程 2013年9期
    關(guān)鍵詞:鉻酸基材劃痕

    周和榮,揭敢新,馬 堅(jiān)

    (中國(guó)電器科學(xué)研究院有限公司,廣州510300)

    有機(jī)涂層作為金屬材料防腐蝕應(yīng)用最廣泛的方法之一,具有高效、經(jīng)濟(jì)、性能可靠和施工方便等眾多優(yōu)點(diǎn),目前90%的金屬表面采用有機(jī)涂層。有機(jī)涂層/金屬體系是一個(gè)復(fù)雜的物理、化學(xué)體系,金屬表面上的有機(jī)涂層存在許多缺陷,包括宏觀缺陷和微觀缺陷;另外,有機(jī)涂層在使用過(guò)程中易老化,特別是涂層下金屬的電化學(xué)腐蝕嚴(yán)重影響涂層與基底金屬結(jié)合力,這些因素都降低了對(duì)金屬材料的防腐蝕效果,導(dǎo)致其喪失防護(hù)能力[1,2]。金屬電化學(xué)腐蝕主要包括以下過(guò)程[3,4]:水在涂層中擴(kuò)散,腐蝕性介質(zhì)和氧在涂層中擴(kuò)散,水和離子通過(guò)涂層和涂層缺陷處到達(dá)界面,離子或水與金屬基材發(fā)生腐蝕反應(yīng)。其中,水、腐蝕性介質(zhì)和氧在涂層中的擴(kuò)散是腐蝕過(guò)程發(fā)生的前提條件,直接導(dǎo)致涂層/金屬體系的失效,一方面引起涂層的宏觀破壞,如粉化、開(kāi)裂等帶來(lái)的喪失保護(hù)性能;另一方面雖未發(fā)生上述宏觀破壞,但腐蝕介質(zhì)已能滲入到涂層,在涂層與金屬界面發(fā)生膜下金屬的腐蝕,涂層出現(xiàn)起泡等破壞現(xiàn)象[5-7]。

    電化學(xué)阻抗譜測(cè)量已成為研究涂層體系腐蝕過(guò)程最主要的方法之一[8-10]。何杰等[11]采用電化學(xué)方法研究了環(huán)氧瀝青涂層和環(huán)氧鋁粉涂層在3.5%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))NaCl溶液中的腐蝕行為。L.B.Reynolds等[12]用EIS分析了Al2024-T3的高固環(huán)氧/聚酸胺涂層和聚氨酯涂層在Harrison溶液中不同組分在該體系中的防腐作用;L.Fedrizzi等[13]采用鹽霧實(shí)驗(yàn)、EIS研究了金屬基材表面沉積ZrO2層后涂層體系的防護(hù)性能,并與傳統(tǒng)化學(xué)處理(磷化)作了比較。

    有機(jī)粉末涂層是一種不含溶劑的高固態(tài)物料,具有省能源、低污染、利用率高等優(yōu)點(diǎn),是環(huán)保涂料未來(lái)的發(fā)展方向之一,目前廣泛應(yīng)用于家電、建筑、汽車等行業(yè)。而在海洋大氣污染環(huán)境中,氯化鈉(NaCl)對(duì)金屬及其涂層的嚴(yán)重腐蝕是主要環(huán)境因素之一[14-18]。本工作擬采用電化學(xué)阻抗譜等方法研究完整和缺陷常用聚酯(TGIC固化)粉末涂層在模擬海洋大氣環(huán)境中的腐蝕行為和腐蝕過(guò)程。

    1 實(shí)驗(yàn)方法

    試樣基材為鋁合金6063,規(guī)格為150mm×75mm×1mm。涂料為羧基飽和聚酯采用TGIC固化形成的粉末涂料。鋁合金6063試樣前處理采用兩種工藝:一種基材采用除油、除銹、烘干等處理工藝;另一種采用除油、除銹、鉻酸鈍化、烘干等工藝。前處理好的試樣再采用靜電噴涂粉末涂料至鋁合金表面并固化涂層,兩種試樣的噴涂和涂層固化工藝相同,涂層厚度為70~90μm。處理好的試樣置于干燥器中保存?zhèn)溆谩?/p>

    將經(jīng)過(guò)兩種前處理工藝制備的粉末涂層試樣分別取出部分試樣,在其表面按照標(biāo)準(zhǔn)劃“X”字形劃痕(以下簡(jiǎn)稱缺陷涂層);另一部分試樣為完整試樣,沒(méi)有任何缺陷(以下簡(jiǎn)稱完整涂層)。然后將四種試樣分別放入0.6mol/L NaCl溶液(pH=7.0)中進(jìn)行浸泡實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)溫度為室溫,浸泡時(shí)間為1200h;取樣周期分別為24,120,240,360,720h和1200h,每種有機(jī)粉末涂層每次試樣兩片,一片用于觀察腐蝕形貌,一片備用。

    粉末涂層的電化學(xué)交流阻抗測(cè)試模擬溶液為0.6mol/L NaCl溶液(pH=7.0),測(cè)試采用三電極體系,工作電極為研究材料,輔助電極為Pt電極,參比電極為飽和甘汞電極(SCE);測(cè)量?jī)x器為273A電化學(xué)工作站,測(cè)試頻率范圍為100kHz~0.1Hz,掃頻方向?yàn)閺母哳l到低頻,阻抗測(cè)量信號(hào)幅值為20mV,實(shí)驗(yàn)溫度為(25±4)℃。

    2 結(jié)果與討論

    2.1 缺陷涂層腐蝕形貌觀察

    圖1為鋁合金未進(jìn)行鉻酸鈍化(簡(jiǎn)稱基材未鈍化)前處理的缺陷涂層試樣在0.6mol/L NaCl(pH=7.0)溶液中浸泡不同時(shí)間后的形貌。浸泡5d后劃痕下鋁合金表面由白色變黑,劃痕內(nèi)沉積少量黑色腐蝕產(chǎn)物,劃痕邊緣無(wú)明顯變化(圖1(a));浸泡30d后劃痕內(nèi)腐蝕產(chǎn)物較多,劃痕邊緣無(wú)明顯變化(圖1(b));浸泡50d后劃痕內(nèi)已經(jīng)被黑色腐蝕產(chǎn)物覆蓋,劃痕邊緣局部有輕微翹起,劃痕兩側(cè)無(wú)起泡等現(xiàn)象(圖1(c))。但粉末涂層表面色差較大。

    圖1 缺陷涂層(基材未鈍化)劃痕處浸泡不同時(shí)間的宏觀形貌 (a)5d;(b)30d;(c)50dFig.1 Morphologies of defect coating(without passivation treatment)immersed for different time (a)5d;(b)30d;(c)50d

    圖2為鉻酸鈍化(簡(jiǎn)稱基材鈍化)前處理的鋁合金缺陷涂層試樣在0.6mol/L NaCl(pH=7.0)溶液中浸泡不同時(shí)間后的形貌,圖2顯示隨浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)腐蝕產(chǎn)物覆蓋了鋁合金劃痕內(nèi)基材,劃痕邊緣和兩側(cè)沒(méi)有明顯進(jìn)一步腐蝕現(xiàn)象;完整涂層部分在50d浸泡過(guò)程中無(wú)明顯腐蝕現(xiàn)象發(fā)生,涂層色差有輕微變化。

    2.2 缺陷涂層EIS分析

    基材未鈍化處理的缺陷涂層試樣在0.6mol/L NaCl(pH=7.0)溶液中浸泡不同時(shí)間的交流阻抗譜測(cè)試結(jié)果如圖3所示。其阻抗值隨浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)先增大后減??;且Nyquist圖曲線有兩個(gè)容抗弧,結(jié)合涂層結(jié)構(gòu)和腐蝕形貌提出如下等效電路模型(見(jiàn)圖4,Rs為溶液電阻,CPE1為外電層電容,R1為產(chǎn)物膜層電阻,CPE2為雙電層電容,Rct為電荷轉(zhuǎn)移電阻)。依據(jù)等效電路擬合得到的交流阻抗數(shù)據(jù)如圖5所示,其雙電層電容隨浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)先降低后趨于穩(wěn)定,雙電層電阻在浸泡初期不斷增大而后期下降并趨于穩(wěn)定,說(shuō)明鋁合金腐蝕速率隨浸泡時(shí)間延長(zhǎng)初期急劇下降而后小幅回升并趨于穩(wěn)定。

    圖2 缺陷涂層(基材鈍化)劃痕處浸泡不同時(shí)間的宏觀形貌 (a)5d;(b)15d;(c)30d;(d)50dFig.2 Morphologies of defect coating(passivation treatment)immersed for different time(a)5d;(b)15d;(c)30d;(d)50d

    圖3 缺陷涂層(基材未鈍化)劃痕處浸泡不同時(shí)間的EIS圖譜 (a)Nyquist;(b)BodeFig.3 EIS of defect coating(without passivation treatment)immersed for different time (a)Nyquist;(b)Bode

    圖4 缺陷涂層(基材未鈍化)缺陷處界面的等效電路Fig.4 Equivalent circuit for EIS of defect coating(without passivation treatment)

    基材鈍化處理的缺陷涂層表面“V”型劃痕區(qū)域在0.6mol/L NaCl溶液中的電化學(xué)交流阻抗測(cè)試結(jié)果如圖6所示。其Nyquist圖曲線有兩個(gè)容抗弧,阻抗值隨浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)不斷增大,浸泡到480h后阻抗值不再明顯增加,結(jié)合涂層結(jié)構(gòu)提出如圖4所示的等效電路模型。依據(jù)等效電路缺陷涂層擬合數(shù)據(jù)結(jié)果見(jiàn)圖7,數(shù)據(jù)顯示雙電層電容在浸泡初期先增大而后逐漸趨于穩(wěn)定,雙電層電阻則隨浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)不斷增大,浸泡后期阻抗趨于穩(wěn)定,說(shuō)明涂層下鋁合金腐蝕速率隨浸泡時(shí)間延長(zhǎng)不斷減小,腐蝕趨勢(shì)逐漸減弱,腐蝕不容易進(jìn)行。對(duì)比圖5(b)和圖7(b)的腐蝕速率數(shù)值,缺陷涂層(未鈍化)在0.6mol/L NaCl溶液中浸泡50d后鋁合金的腐蝕速率比缺陷涂層(鈍化)高,說(shuō)明鋁合金經(jīng)過(guò)鉻酸鈍化后形成的鈍化膜延緩了腐蝕,降低了鋁合金的腐蝕速率,具有一定的抗蝕能力。

    圖5 缺陷涂層(基材未鈍化)擬合參數(shù) (a)雙電層電容;(b)腐蝕速率Fig.5 Fitting parameters of defect coating(without passivation treatment) (a)capacitance;(b)corrosion rate

    圖6 缺陷涂層(基材鈍化)缺陷處浸泡不同時(shí)間的EIS圖譜 (a)Nyquist;(b)BodeFig.6 EIS of defect coating(passivation treatment)immersed for different time (a)Nyquist;(b)Bode

    圖7 缺陷涂層(基材鈍化)擬合參數(shù) (a)雙電層電容;(b)腐蝕速率Fig.7 Fitting parameters of defect coating(passivation treatment) (a)capacitance;(b)corrosion rate

    2.3 完整涂層腐蝕形貌觀察

    圖8為基材未鈍化處理的完整涂層試樣在0.6mol/L NaCl(pH=7.0)溶液中浸泡不同時(shí)間后的宏觀形貌,涂層浸泡10d和50d后無(wú)明顯缺陷(僅色差變化),表面附著力為0級(jí),說(shuō)明粉末涂層與鋁合金基材的結(jié)合力依然較好。而基材鈍化處理的完整涂層試樣在50d浸泡過(guò)程中無(wú)明顯的異?,F(xiàn)象發(fā)生,色差變化輕微,涂層浸泡10d和50d后無(wú)明顯缺陷,表面附著力為0級(jí),說(shuō)明粉末涂層與鋁合金基材的結(jié)合力依然較好(圖9)。圖8和圖9顯示完好涂層基本無(wú)明顯差別,僅涂層色差出現(xiàn)了明顯變化,從常規(guī)性能方面不能鑒別不同前處理基材對(duì)涂層試樣耐蝕性能的明顯差異。

    2.4 完整涂層EIS分析

    基材鈍化和未鈍化處理的完整涂層在0.6mol/L NaCl溶液中的電化學(xué)交流阻抗測(cè)試結(jié)果如圖10所示,Bode圖顯示未采用鉻酸鈍化的粉末涂層在浸泡初期(1d)阻抗為1010Ω·cm2,浸泡30d后阻抗下降為109Ω·cm2,浸泡50d后阻抗下降到107Ω·cm2數(shù)量級(jí)(圖10(a)),說(shuō)明水和腐蝕介質(zhì)已經(jīng)到達(dá)鋁合金與粉末涂層的界面,可能發(fā)生腐蝕反應(yīng)導(dǎo)致阻抗下降;而鋁合金采用鉻酸鈍化的粉末涂層在浸泡初期(1d)阻抗為1010Ω·cm2,浸泡30d后阻抗仍為1010Ω·cm2,浸泡50d后阻抗下降到108Ω·cm2數(shù)量級(jí)(圖10(b)),說(shuō)明采用鉻酸鈍化的鋁合金阻礙了腐蝕介質(zhì)的腐蝕反應(yīng),導(dǎo)致涂層阻抗下降程度延緩。

    圖8 完整涂層(基材未鈍化)浸泡不同時(shí)間的宏觀形貌 (a)10d;(b)50dFig.8 Morphologies of perfect coating(without passivation treatment)immersed for different time (a)10d;(b)50d

    圖9 完整涂層(基材鈍化)浸泡不同時(shí)間的宏觀形貌 (a)10d;(b)50dFig.9 Morphologies of perfect coating(passivation treatment)immersed for different time (a)10d;(b)50d

    圖10 完整涂層浸泡不同時(shí)間的EIS圖譜 (a)未鉻酸鈍化;(b)鉻酸鈍化Fig.10 EIS of perfect coating immersed for different time (a)without passivation treatment;(b)passivation treatment

    2.5 分析與討論

    有機(jī)粉末涂層作為一種高聚物薄膜,能不同程度地阻緩但不能完全隔絕 H2O,O2和離子的滲透,H2O,O2和離子通過(guò)涂層宏觀或微觀缺陷滲透到涂層/金屬界面后,形成腐蝕性介質(zhì),涂層/金屬界面的不均勻性使陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)得以形成,從而發(fā)生電化學(xué)腐蝕,基體為鋁合金時(shí)的電化學(xué)反應(yīng)(中性或堿性環(huán)境中)所示:

    粉末涂層人工缺陷附近的腐蝕行為是由于水及腐蝕性離子通過(guò)人工缺陷直接到達(dá)金屬表面,裸露的鋁合金為陽(yáng)極,缺陷附近完整涂層覆蓋處為陰極,電化學(xué)反應(yīng)的動(dòng)力是缺陷處和距缺陷一定距離處的完整涂層的膜下存在的高電位差。在涂層和裸露鋁材邊緣,鋁被氧化為Al3+,電子傳遞到鄰近的完整涂層界面處,同時(shí)氧分子和水還可通過(guò)涂層的微孔到達(dá)完整涂層界面,產(chǎn)生氧分子還原的吸氧反應(yīng)進(jìn)而產(chǎn)生堿性物質(zhì)(或酸性環(huán)境中形成水),堿性物質(zhì)的產(chǎn)生趨向于抑制此處產(chǎn)生陽(yáng)極溶解,而水的產(chǎn)生趨向于促進(jìn)此處產(chǎn)生陽(yáng)極溶解,但都使得金屬與涂層之間的附著下降,導(dǎo)致缺陷周圍失粘;還有可能產(chǎn)生滲透壓導(dǎo)致水的集聚形成起泡。一旦金屬表面開(kāi)始陽(yáng)極溶解,涂層下的陰極區(qū)的氧分子的還原反應(yīng)就會(huì)維持陽(yáng)極反應(yīng)的進(jìn)行[19]。Leng等[20]認(rèn)為吸氧反應(yīng)形成的氧化性產(chǎn)物而非堿性物質(zhì)攻擊涂層是導(dǎo)致涂層與基體界面剝離的原因,研究證明在氧化還原反應(yīng)中形成的中間活潑產(chǎn)物對(duì)界面氧化層的破壞負(fù)有主要責(zé)任。

    對(duì)浸泡50d的試樣除去破損區(qū)附近的涂層后觀測(cè),膜下并未發(fā)現(xiàn)明顯的腐蝕坑和腐蝕產(chǎn)物,腐蝕產(chǎn)物主要集聚在缺陷與涂層邊界處,因此認(rèn)為缺陷相鄰附近的完整涂層下發(fā)生的氧化還原反應(yīng)產(chǎn)生的物質(zhì)可能是導(dǎo)致起泡和附著喪失的主要原因。隨著涂層浸泡時(shí)間較長(zhǎng),氧分子、水分子和氫離子的滲透使得膜下發(fā)生吸氧反應(yīng)的局部區(qū)域增多,涂層阻抗呈下降趨勢(shì)。

    另外,對(duì)比圖1和圖2的劃痕缺陷腐蝕形貌,可以看出經(jīng)過(guò)鉻酸鈍化后形成的鈍化膜能延緩鋁合金基材的腐蝕;圖5(b)和圖7(b)的腐蝕速率結(jié)果顯示未鉻酸鈍化處理的缺陷涂層在0.6mol/L NaCl(pH=7.0)溶液中浸泡后鋁合金的腐蝕速率比鉻酸鈍化處理的缺陷涂層約高5倍,完整涂層的腐蝕形貌和電化學(xué)交流阻抗譜結(jié)果也進(jìn)一步證實(shí)了鉻酸鈍化處理形成的鈍化膜阻礙了鋁合金腐蝕的進(jìn)一步擴(kuò)展,降低了鋁合金的腐蝕速率,具有一定的抗蝕能力。另外,對(duì)比圖10與圖3(b)和圖6(b)阻抗數(shù)據(jù)可以發(fā)現(xiàn),相同前處理的鋁合金試樣完整涂層的阻抗值遠(yuǎn)大于缺陷涂層的阻抗值,顯示其鋁合金基材的腐蝕速率低于缺陷涂層的腐蝕速率,完整涂層對(duì)鋁合金基材具有明顯的保護(hù)作用。

    3 結(jié)論

    (1)未鉻酸鈍化處理的鋁合金缺陷粉末涂層在0.6mol/L NaCl(pH=7.0)溶液中浸泡50d后,其劃痕處堆積腐蝕產(chǎn)物,劃痕兩側(cè)無(wú)明顯變化,涂層色差變化較大,其電化學(xué)阻抗結(jié)果顯示腐蝕速率隨浸泡時(shí)間延長(zhǎng)急劇下降后趨于穩(wěn)定。

    (2)經(jīng)鉻酸鈍化處理的鋁合金缺陷粉末涂層在0.6mol/L NaCl(pH=7.0)溶液中浸泡50d后,劃痕處無(wú)起泡和翹起,涂層色差變化輕微,其腐蝕速率隨浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)急劇下降后趨于穩(wěn)定,其腐蝕速率為未經(jīng)鉻酸鈍化處理的鋁合金缺陷涂層腐蝕速率的1/5。

    (3)未鉻酸鈍化處理的鋁合金完整涂層在0.6mol/L NaCl(pH=7.0)溶液中浸泡50d后,涂層色差變化較大,其阻抗由1010Ω·cm2下降到107Ω·cm2數(shù)量級(jí);而經(jīng)鉻酸鈍化處理的鋁合金完整涂層色差變化輕微,其阻抗由1010Ω·cm2下降到108Ω·cm2數(shù)量級(jí)。

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