高文焱,趙樹森,林學(xué)春
(中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所全固態(tài)光源實(shí)驗(yàn)室,北京100083)
激光熔覆是一種先進(jìn)的表面改性技術(shù),相比傳統(tǒng)表面強(qiáng)化技術(shù)具有組織細(xì)化、稀釋率低、變形小等優(yōu)勢(shì)[1-2]。近年來(lái),國(guó)內(nèi)外研究機(jī)構(gòu)對(duì)激光熔覆工藝進(jìn)行了大量研究與探索。Partes[3]研究了激光功率、掃描速度及粉末密度分布對(duì)熔覆的影響,發(fā)現(xiàn)增加掃描速度可提高粉末利用率。Sun Yuwen[4]在Ti6Al4V基體上熔覆了Ti6Al4V涂層,研究了激光功率、掃描速度、送粉率對(duì)覆層幾何形貌與稀釋率的影響,發(fā)現(xiàn)送粉率對(duì)覆層寬度、高度起主導(dǎo)作用;掃描速度對(duì)熔池深度起決定性作用。徐嘉隆[5]在Ni-Sn共晶合金的基材上熔覆Ni-Sn共晶合金粉末,發(fā)現(xiàn)隨著激光掃描速度的增大,覆層底部共晶組織不斷細(xì)化,共晶層片間距逐漸減小。欒景飛[6]研究了激光熔覆參數(shù)對(duì)灰鑄鐵激光熔覆層裂紋的影響,發(fā)現(xiàn)表層裂紋率隨著激光掃描速度或激光功率的增加有其最低值。
現(xiàn)有針對(duì)激光熔覆工藝的研究主要是對(duì)激光功率、掃描速度、送粉率、離焦量等參數(shù)進(jìn)行的分析,大多忽略了高斯光束傳播對(duì)覆層幾何形貌的影響。但高斯光束在傳播路徑上,其功率密度分布具有顯著變化,這對(duì)于熔覆質(zhì)量有著顯著影響。為此,本文分析了高斯光束成像問(wèn)題,研究了高斯光束在光路上的功率密度變化規(guī)律,在此基礎(chǔ)上對(duì)工藝進(jìn)行創(chuàng)新,采用負(fù)離焦光束進(jìn)行熔覆,獲得了稀釋率較低,邊緣良好冶金結(jié)合,無(wú)未熔顆粒、缺陷的覆層,為高質(zhì)量大面積熔覆奠定了基礎(chǔ)。
實(shí)驗(yàn)基材選用Q235,樣品尺寸為:100 mm×200 mm×10 mm;覆材選用Fe901+5%Cr3C2粉末。實(shí)驗(yàn)所用激光器為3 kW的Nd:YAG全固態(tài)激光器。熔覆過(guò)程使用側(cè)向送粉方式,送粉氣流量3 L/min,送粉率8.5 g/min。進(jìn)行單道激光熔覆工藝試驗(yàn),工藝參數(shù)見表1。
表1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)照表
激光熔覆后,將獲得的熔覆試樣沿垂直掃描方向進(jìn)行線切割,對(duì)試樣截面進(jìn)行磨、拋處理,選用酒精+4%硝酸溶液作為侵蝕劑,用光學(xué)金相顯微鏡觀察熔覆層幾何形貌與微觀結(jié)構(gòu),采用顯微硬度計(jì)測(cè)試涂層硬度分布。
圖1是正離焦條件下熔覆層的幾何形貌,覆層均類似“蘑菇”形狀。覆層上半部過(guò)寬,邊緣結(jié)合質(zhì)量差,存在孔洞(圖2)。在第4組工藝參數(shù)條件下獲得的覆層邊緣甚至出現(xiàn)了缺損(圖3、圖4)。覆層下半部稀釋率較高,近似成半圓形。
圖1 3號(hào)試樣截面光學(xué)顯微圖
圖2 圖1中A區(qū)域局部放大
圖3 4號(hào)試樣截面光學(xué)顯微圖
圖4 圖3中B區(qū)域局部放大
對(duì)于負(fù)離焦試樣,其覆層截面形貌較好,結(jié)合處近似為一條直線,稀釋率很低,熱影響區(qū)較小,覆層與基體結(jié)合處存在“白亮帶”,冶金結(jié)合良好[7],見圖5。
圖5 7號(hào)試樣截面光學(xué)顯微圖
使用ZEMAX對(duì)高斯光束聚焦進(jìn)行光線追跡,同時(shí)得到焦點(diǎn)附近的光線分布情況(圖6)。通過(guò)比較可發(fā)現(xiàn),正、負(fù)離焦區(qū)域光束截面能量密度分布存在差別。在負(fù)離焦情況下,由中央到邊緣光線密度逐漸變大,能量密度也隨之升高,但整體變化不大(圖7a)。在正離焦情況下,中央?yún)^(qū)域光線密,能量密度高;邊緣區(qū)域光線稀疏,能量密度低,且兩者相差很大(圖7b)。在實(shí)際操作中,從負(fù)離焦20 mm開始到正離焦20 mm結(jié)束,期間每隔2 mm進(jìn)行一次激光打點(diǎn),打點(diǎn)功率為300 W,打點(diǎn)時(shí)間為0.5 s,得到的光斑分布見圖8,可看出光束能量密度分布與圖7基本吻合。
圖6 焦點(diǎn)附近光線分布
圖7 負(fù)、正離焦區(qū)域光束截面點(diǎn)列圖
圖8 不同離焦量下激光打點(diǎn)所得表面形貌
結(jié)合對(duì)高斯光束聚焦情況的模擬,對(duì)熔覆實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行分析。在正離焦情況下,光斑中央?yún)^(qū)域能量密度大,使基體熔化較多,稀釋率較大,覆層硬度有所降低;光斑邊緣區(qū)域激光能量密度小,同時(shí)又考慮粉末對(duì)光束的遮擋,基體熔化量很小,稀釋率低,但也使得邊緣處結(jié)合質(zhì)量差,有孔洞出現(xiàn)。在負(fù)離焦情況下,光斑中央與邊緣區(qū)域能量密度差別較小,使得在一定送粉率下,覆材能充分熔化,而基體又不存在熔化不均勻的情況,在保證較低稀釋率的同時(shí)又得到了良好的結(jié)合質(zhì)量,熱影響區(qū)也較小。
對(duì)于該涂層主要考慮其耐磨特性,因此僅考量涂層硬度分布即可。在顯微硬度測(cè)試過(guò)程中,壓力為1.96 N,維持時(shí)間15 s。
本實(shí)驗(yàn)所用覆層材料為Fe901+5%Cr3C2。單一的Fe901粉末進(jìn)行激光熔覆后,覆層截面顯微組織為樹枝晶[8]。摻入Cr3C2后,由于其熔點(diǎn)高,在凝固過(guò)程中最先析出,成為異質(zhì)晶核,同時(shí)還可阻斷樹枝晶生長(zhǎng),起到細(xì)晶強(qiáng)化的作用(圖9)。部分分解的Cr3C2還可提供C原子,產(chǎn)生高硬度碳化物。這些因素的共同作用使覆層硬度顯著提高。
圖9 Fe901+5%Cr3C2覆層截面顯微組織
對(duì)3號(hào)、7號(hào)試樣進(jìn)行顯微硬度測(cè)試并進(jìn)行對(duì)比,結(jié)果見圖10??煽闯鰞蓚€(gè)試樣的覆層顯微硬度相差不大,7號(hào)試樣略高,且熱影響區(qū)?。?號(hào)試樣的覆層顯微硬度波動(dòng)大,外表面硬度低。
圖10 3號(hào)與7號(hào)試樣覆層顯微硬度對(duì)比
通過(guò)對(duì)比可看到正、負(fù)離焦對(duì)覆層形貌、稀釋率、結(jié)合情況及覆層硬度的影響,分析原因主要在于正、負(fù)離焦情況下光束能量密度分布的差異。
(1)高斯光束傳播對(duì)激光熔覆覆層影響顯著。在正離焦情況下,隨著離焦量增加,能量密度逐漸減小,可實(shí)現(xiàn)覆材照射區(qū)域能量密度大,熔化充分;基體表面區(qū)域能量密度小,僅薄層熔化的效果,滿足覆層對(duì)稀釋率的要求。然而,這種工藝忽略了光束在垂直傳播方向上的能量分布特點(diǎn),造成覆層中央?yún)^(qū)域稀釋率大,邊緣處結(jié)合質(zhì)量無(wú)法保證,同時(shí)存在未熔顆粒,影響多道搭接質(zhì)量。采用負(fù)離焦這一新工藝方法,可提高光斑邊緣區(qū)域的能量密度,縮小其與光斑中央?yún)^(qū)域的能量密度差,獲得了稀釋率較低,與基體冶金結(jié)合良好的涂層,為高質(zhì)量大面積熔覆奠定了基礎(chǔ),為今后激光熔覆工藝提出了另一方向。
(2)本實(shí)驗(yàn)所用覆層材料為 Fe901+5%Cr3C2。由于Cr3C2熔點(diǎn)高,在凝固過(guò)程中最先析出,成為異質(zhì)晶核,同時(shí)阻斷樹枝晶生長(zhǎng),起到細(xì)晶強(qiáng)化作用;部分分解的Cr3C2還能向覆層提供C原子,產(chǎn)生高硬度碳化物,使覆層硬度顯著提高。
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