黃強(qiáng)先 袁 丹 尤煥杰
合肥工業(yè)大學(xué),合肥,230009
隨著微加工技術(shù)、MEMS技術(shù)和納米技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用,利用這些技術(shù)加工或制備的微器件、MEMS器件及納米材料等幾何尺寸越來(lái)越小,相應(yīng)地對(duì)測(cè)量精度要求越來(lái)越高,甚至要求達(dá)到納米量級(jí)及亞納米量級(jí)。目前,已具有納米量級(jí)甚或亞納米量級(jí)分辨率的儀器,如原子力顯微鏡(AFM)、掃描隧道顯微鏡(STM)和掃描電子顯微鏡(SEM)等各種納米量級(jí)測(cè)量?jī)x器。上述測(cè)量?jī)x器被廣泛應(yīng)用于各種器件需求的測(cè)量領(lǐng)域。盡管上述儀器具有極高的空間分辨率,甚或能夠分辨出表面原子的位置,但由于上述儀器的測(cè)量范圍小、測(cè)量分辨率高和測(cè)量不確定度要求極高,導(dǎo)致上述儀器的精確標(biāo)定成為目前的世界難題[1-3]。為了方便、可靠地標(biāo)定上述測(cè)量?jī)x器,國(guó)際計(jì)量局(BIPM)在1998年把納米尺度線間隔、臺(tái)階高度、線寬等5個(gè)參數(shù)的計(jì)量確定為納米尺度基本特征國(guó)際關(guān)鍵比對(duì)項(xiàng)目之一[4],并提出了相應(yīng)的5種基準(zhǔn)樣板,以便測(cè)量者基于基準(zhǔn)樣板特征參數(shù)確定儀器的測(cè)量不確定度。
一維納米基準(zhǔn)柵樣板是5個(gè)納米標(biāo)準(zhǔn)樣板之一[4],其平均柵距是該基準(zhǔn)樣板的特征參數(shù),目前的制作精度達(dá)到納米量級(jí)[3,5]。對(duì)于該基準(zhǔn)柵柵距的標(biāo)定,既要具有亞納米量級(jí)的測(cè)量不確定,又必須使其測(cè)量結(jié)果溯源到長(zhǎng)度基準(zhǔn),目前一般采用計(jì)量型原子力顯微鏡、光學(xué)衍射儀等儀器進(jìn)行標(biāo)定[1,4,6]。不管采用何種方法和儀器[7],由于測(cè)量?jī)x器復(fù)雜、測(cè)量環(huán)境要求高、測(cè)量對(duì)象自身加工精度高,以及平均柵距不能直接與長(zhǎng)度基準(zhǔn)比較,給測(cè)量工作帶來(lái)諸多不便。為了獲得可靠的測(cè)量結(jié)果,需要對(duì)測(cè)量過(guò)程中的各種測(cè)量不確定因素進(jìn)行充分和可靠的分析,從而獲得精確的測(cè)量結(jié)果的測(cè)量不確定度。針對(duì)輕敲模式計(jì)量型AFM的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)[8],本文介紹公稱柵距為240nm的一維基準(zhǔn)柵的標(biāo)定,并對(duì)其結(jié)果進(jìn)行不確定度分析和估計(jì)。
國(guó)際計(jì)量局(BIPM)的納米計(jì)量工作組(WGDM7DG)在1998年決定把線寬(Nano 1)、臺(tái)階高度(Nano 2)、線刻度尺(Nano 3)、一維柵(Nano 4)和二維柵(Nano 5)作為納米尺度比對(duì)的5種基準(zhǔn)樣板。本文所采用的一維基準(zhǔn)柵是由Hitachi Ltd開(kāi)發(fā)的 HJ-1000標(biāo)準(zhǔn)樣板[9],主要用于納米測(cè)量?jī)x器的標(biāo)定。該樣板是通過(guò)激光干涉全析法和各向異性化學(xué)刻蝕技術(shù)制備的硅樣板,樣板的實(shí)物圖及公稱尺寸如圖1所示。該標(biāo)準(zhǔn)柵的特征參數(shù)是平均柵距,公稱值為240nm,其制造精度為1nm(3σ)。樣板的有效面積約為4mm×4mm。為了便于使用,硅樣板被固定于鋁金屬基板上。
圖2所示為AFM系統(tǒng)構(gòu)成框圖,圖中,LD為激光二極管,QPD為四象限光電二極管,TSM為三維反射鏡載物臺(tái)。AFM系統(tǒng)由機(jī)械系統(tǒng)、懸臂信號(hào)處理系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、測(cè)量系統(tǒng)和控制、數(shù)據(jù)處理及顯示系統(tǒng)等五部分組成[8]。該測(cè)量系統(tǒng)與帶有閉環(huán)控制系統(tǒng)的AFM結(jié)構(gòu)基本相同。所不同的是,該計(jì)量型AFM的載物臺(tái)是由石英材料制作的,且其上方的開(kāi)口為方槽,如圖3所示。該載物臺(tái)置于三維工作臺(tái)的上方。載物臺(tái)的下表面和兩相鄰側(cè)面正交,并鍍有反射膜,因此被稱為三維反射鏡(TSM)。三反射鏡正交性很好,其垂直度誤差在1″以內(nèi)。載物臺(tái)在x、y、z三維的運(yùn)動(dòng)分別用高精度的穩(wěn)頻氦氖激光邁克爾遜干涉儀測(cè)量,3個(gè)正交反射面分別作為3套干涉測(cè)量?jī)x的測(cè)量反射鏡(圖3),因此,載物臺(tái)在x、y、z方向上的位移測(cè)量結(jié)果可以長(zhǎng)度標(biāo)準(zhǔn)溯源。載物臺(tái)在x、y方向的位置通過(guò)激光干涉儀的位移信號(hào)反饋控制,從而完全克服了工作臺(tái)中壓電驅(qū)動(dòng)器非線性、遲滯等的影響。三激光干涉儀的測(cè)量線分別與試樣的x、y、z運(yùn)動(dòng)方向一致,且三測(cè)量線正交于AFM探針的針尖處,因此基本消除了阿貝誤差。
在每一路激光干涉儀中,測(cè)量光路經(jīng)過(guò)4倍光學(xué)放大,光信號(hào)經(jīng)過(guò)光電轉(zhuǎn)換后又通過(guò)軟件進(jìn)行了2048相位細(xì)分,即干涉儀的每一個(gè)干涉條紋的周期變化與八分之一激光波長(zhǎng)的TSM移動(dòng)量相對(duì)應(yīng),每一個(gè)細(xì)分脈沖的變化與工作臺(tái)的λ/16 384位移量相對(duì)應(yīng),因此,經(jīng)信號(hào)處理系統(tǒng)處理后的干涉測(cè)量系統(tǒng)的分辨率可達(dá)到0.04nm。經(jīng)實(shí)驗(yàn)觀測(cè),該激光測(cè)量系統(tǒng)的非線性誤差約為0.12nm,是影響精度的主要誤差源之一。
該計(jì)量型AFM的x、y、z測(cè)量范圍分別為17.5μm、17.5μm、2.5μm。該系統(tǒng)原來(lái)僅能工作于接觸模式,且測(cè)量效果不理想,改進(jìn)后的系統(tǒng)可工作于測(cè)量時(shí)一般采用的輕敲模式[8]。
一維柵的柵線在4mm×4mm上分布,分布面積較大,實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),各處的柵距存在微小的差異。而AFM的掃描區(qū)域很小,一般僅為數(shù)微米至十微米。為了減小樣板均勻性的影響,測(cè)量時(shí)在樣板表面均勻選擇9處進(jìn)行測(cè)量,如圖4所示。
為了減小阿貝誤差,在載物臺(tái)上安放樣板時(shí),應(yīng)使被測(cè)量區(qū)域處于三激光干涉儀的測(cè)量延長(zhǎng)線的交點(diǎn)處。該計(jì)量型AFM在掃描一維柵時(shí),采用圖5所示的掃描方式,即硅懸臂與一維柵的柵線方向一致。因此,樣板還應(yīng)按照?qǐng)D5所示的方向安放,并盡可能地使柵線方向與y方向平行。圖6所示為獲得的一個(gè)區(qū)域的三維圖。
測(cè)量時(shí),AFM的環(huán)境溫度、濕度、大氣壓以及工件的溫度等環(huán)境參數(shù)被實(shí)時(shí)記錄,以用于對(duì)計(jì)算數(shù)據(jù)的補(bǔ)償和不確定度分量的估計(jì)。
測(cè)量時(shí),每一區(qū)域的掃描范圍是5μm×5μm,共進(jìn)行30行掃描、每行獲取11 000個(gè)點(diǎn)。盡管測(cè)量時(shí)工作臺(tái)的x、y位移利用激光干涉儀信號(hào)進(jìn)行閉環(huán)反饋控制,但并不能完全消除壓電陶瓷的遲滯、蠕變等非線性影響[8],這種影響在每一掃描區(qū)域的開(kāi)始數(shù)行和每行的起始端較大。為了減小對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響,在進(jìn)行數(shù)據(jù)處理時(shí),每一掃描區(qū)域的前10行和每行的前后500個(gè)點(diǎn)不參與柵距的計(jì)算。
AFM探針在掃描樣板時(shí),由于樣板的安放誤差,探針的掃描方向不可能完全與柵距的方向一致,存在垂直傾角θ和水平偏轉(zhuǎn)角α安裝誤差(圖6)。為了減小這兩項(xiàng)角度誤差的影響,必須對(duì)原始數(shù)據(jù)進(jìn)行處理。
圖7a所示為樣板垂直傾角誤差的校正方法。首先,按照線輪廓的頂點(diǎn)確定線輪廓的中心線傾角,該角度被認(rèn)為就是樣板在垂直方向上的安放誤差。然后,根據(jù)所確定的垂直傾角θ對(duì)原始數(shù)據(jù)進(jìn)行校正,得到圖7a中的中間線輪廓,再根據(jù)校正后的線輪廓,按照重心法確定各個(gè)柵峰的重心點(diǎn)橫坐標(biāo)[10]。
當(dāng)每條掃描線上的每個(gè)柵峰重心被確定后,即可擬合出圖7b所示的柵線方向,該方向與y向的夾角,就是樣板在水平面內(nèi)安放時(shí)的偏轉(zhuǎn)誤差α,該角度誤差將帶給柵距計(jì)算誤差。為了縮小該誤差,需要將圖7b中左圖的重心線校正到中間圖的位置,再根據(jù)校正后的各重心點(diǎn)確定出各個(gè)柵距pi(圖7b)。在計(jì)算時(shí),上述過(guò)程的殘余誤差將構(gòu)成兩項(xiàng)測(cè)量不確定度分量。
通過(guò)上述數(shù)據(jù)處理后的平均柵距為
式中,n為掃描區(qū)域內(nèi)柵距的個(gè)數(shù)。
表1所示為按照上述測(cè)量和數(shù)據(jù)處理方法,獲得的9個(gè)區(qū)域的算術(shù)平均值及相應(yīng)的單次測(cè)量不確定度。
表1 9個(gè)不同測(cè)量區(qū)域的平均柵距、單柵距標(biāo)準(zhǔn)差和平均柵距標(biāo)準(zhǔn)差
根據(jù)表1中的數(shù)據(jù),9個(gè)區(qū)域內(nèi)所有柵距的平均值為240.078nm。
利用上述系統(tǒng)按照上述測(cè)量過(guò)程和數(shù)據(jù)處理方法,對(duì)一維基準(zhǔn)柵柵距進(jìn)行測(cè)量、計(jì)算,測(cè)量結(jié)果主要受下面各項(xiàng)因素的影響并導(dǎo)致相應(yīng)的不確定度分量:
(1)激光頻率變化引起的測(cè)量不確定度分量u1。穩(wěn)頻氦氖激光器為Spectra-Physics,Model 117A,其Allan方差頻率是124kHz,當(dāng)該數(shù)值變化不大于5%時(shí),導(dǎo)致的柵距測(cè)量不確定度分量u1為12.1pm,自由度為200.0。按照B類評(píng)定方法確定。
(2)溫度變化引起的激光死程變化導(dǎo)致的測(cè)量不確定度分量u2,該部分是由激光底座溫度變化導(dǎo)致底座在激光死程部分熱膨脹變化引起的。經(jīng)測(cè)定,溫度變化不超過(guò)3.2K時(shí),底座可采用因瓦合金制作。經(jīng)估計(jì),該部分引起的標(biāo)準(zhǔn)不確定分量為1.17fm,自由度為12.5。按照B類評(píng)定方法確定。
(3)阿貝誤差引起的測(cè)量不確定度分量u3。設(shè)計(jì)時(shí),要求激光干涉儀的測(cè)量光路與探針的掃描方向在同一條直線上。但在安裝和使用時(shí),由于探針長(zhǎng)度不同及其安裝誤差,會(huì)導(dǎo)致兩者之間存在最大不超過(guò)0.5mm的偏差。經(jīng)測(cè)量,工作臺(tái)的隨機(jī)運(yùn)動(dòng)誤差為0.283×10-2″,近似符合均勻分布。按照B類評(píng)定方法估計(jì),該部分引起的標(biāo)準(zhǔn)不確定分量為40.9pm,自由度為200.0。
(4)光路準(zhǔn)直誤差引起的測(cè)量不確定度分量u4。在AFM結(jié)構(gòu)中,激光干涉儀的測(cè)量光路應(yīng)該與干涉儀測(cè)量鏡反射面完全垂直,但在安裝時(shí)存在最大|±0.085°|的準(zhǔn)直誤差,該誤差將導(dǎo)致工作臺(tái)位移測(cè)量時(shí)的余弦誤差。該部分引起的測(cè)量結(jié)果標(biāo)準(zhǔn)不確定分量為16.9fm,自由度為200.0。
(5)光路變化引起的測(cè)量不確定度分量u5。在測(cè)量時(shí),由于工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)誤差的存在,除了引起阿貝誤差外,還會(huì)導(dǎo)致干涉儀反射鏡的角位移。而干涉儀反射鏡的角位移會(huì)使反射光路的變化不穩(wěn)定,從而導(dǎo)致長(zhǎng)度測(cè)量誤差,該誤差為二次誤差。按照B類評(píng)定方法估計(jì),該部分引起的測(cè)量結(jié)果標(biāo)準(zhǔn)不確定分量為2.06pm,自由度為200.0。
(6)干涉儀非線性誤差u6。干涉儀經(jīng)過(guò)8倍光學(xué)細(xì)分后,還經(jīng)過(guò)2048次相位細(xì)分,由于光路、電路等的不理想,由干涉儀輸出的正交電信號(hào)并不能構(gòu)成理想的Lissajow圖形,從而造成周期性的非線性誤差,如圖8所示。按照B類評(píng)定方法估計(jì),該誤差引起的測(cè)量結(jié)果標(biāo)準(zhǔn)不確定分量為0.115nm,自由度為200.0。
(7)激光干涉儀分辨率引起的測(cè)量不確定度分量u7。根據(jù)技術(shù)資料,激光干涉儀經(jīng)過(guò)8倍光學(xué)細(xì)分和2048次電子細(xì)分后,按照B類評(píng)定方法估計(jì),其導(dǎo)致的柵距測(cè)量不確定度分量u7為38.6pm,自由度為200.0。
(8)環(huán)境溫度、濕度和氣壓變化引起的測(cè)量不確定度分量u8、u9、u10。測(cè)量光路周?chē)髿鈪?shù)的變化將導(dǎo)致光路上大氣折射率的變化,從而導(dǎo)致激光頻率和波長(zhǎng)的變化,引起測(cè)量誤差。通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),當(dāng)環(huán)境的溫度、相對(duì)濕度和大氣壓的變化不超過(guò)1.20K、3.50%和1.50kPa時(shí),由 Edlen公式估計(jì)的環(huán)境溫度、濕度和氣壓變化引起的測(cè)量不 確 定 度 分 量 分 別 為 0.157pm、5.18fm 和0.154pm,按照測(cè)試儀器說(shuō)明,自由度取為12.5。
(9)樣板熱膨脹引起的測(cè)量不確定度分量u11。樣板安裝在工作臺(tái)上,由于壓電陶瓷管的發(fā)熱、硅探針振幅檢查光路熱源等因素的影響,導(dǎo)致了被測(cè)尺寸的變化。經(jīng)實(shí)際測(cè)量,樣板偏離標(biāo)準(zhǔn)室溫20℃的最大溫差不超過(guò)3.2℃,硅樣板材料的熱膨脹系數(shù)為2.6×10-6K-1,溫度變化符合均勻分布要求。根據(jù)測(cè)試儀器說(shuō)明,按照B類評(píng)定方法估計(jì),由樣板熱變形導(dǎo)致的測(cè)量不確定度分量為1.15pm,自由度為12.5。
(10)樣板安裝誤差引起的測(cè)量不確定度分量u12、u13。在圖7中,雖然通過(guò)數(shù)據(jù)處理可以校正樣板2個(gè)放置角度帶來(lái)的主要影響,但由于20行掃描數(shù)據(jù)的不一致,導(dǎo)致其修正結(jié)果分散。通過(guò)測(cè)量數(shù)據(jù)分析,按A類評(píng)定得到這兩項(xiàng)誤差帶來(lái)的不確定度分量分別為1.02pm和1.36pm,自由度為19.0。
(11)重復(fù)性引起的測(cè)量不確定度分量u14。通過(guò)對(duì)樣板同一測(cè)量區(qū)域的7次重復(fù)測(cè)量,得到的單次測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)差為11.2pm,該標(biāo)準(zhǔn)差可視為重復(fù)性引起的測(cè)量不確定度分量(按A類評(píng)定),自由度取為6.0。
(12)樣板各處均勻性引起的測(cè)量不確定度分量u15。由于制備工藝原因,樣板表面各處的柵距值不一致。為避免不均勻性的影響,一般采用樣板內(nèi)多處均勻取點(diǎn)測(cè)量,本文采用了9處取點(diǎn)測(cè)量(圖4)。將各處不同點(diǎn)的平均值差值標(biāo)準(zhǔn)差作為樣板均勻性誤差引起的測(cè)量不確定度分量,本次測(cè)量結(jié)果為83.6pm(按A類評(píng)定),自由度取為8.0。
(13)區(qū)域平均柵距誤差引起的測(cè)量不確定度分量u16為0.102nm。在本次測(cè)量中,測(cè)量范圍約為5μm×5μm,用其中獲得的20行進(jìn)行平均柵距計(jì)算,每行約有21個(gè)柵距,共約有420個(gè)柵距參與本區(qū)域內(nèi)的平均柵距計(jì)算。分析表明,本區(qū)域內(nèi)的柵距分布直方圖與圖9所示類似。圖9是一個(gè)測(cè)量區(qū)域柵距的分布情況,共有420個(gè)柵距,其平均柵距為240.13nm,單個(gè)柵距的標(biāo)準(zhǔn)差為2.096nm,平均柵距的標(biāo)準(zhǔn)差為0.102nm。該標(biāo)準(zhǔn)差是區(qū)域平均柵距的測(cè)量不確定度分量(按A類評(píng)定),自由度取為419.0。
表2所示為各個(gè)因素對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響,以及各因素所導(dǎo)致的不確定度分量、評(píng)定類型和自由度。在上述各項(xiàng)影響因素中,一般來(lái)說(shuō),相關(guān)性很低或者不相關(guān),且各因素都對(duì)平均柵距有直接影響,因此,可按照下述方法確定合成標(biāo)準(zhǔn)不確定度和自由度:
表2 測(cè)量結(jié)果不確定度分量表
若置信概率取為95%,則平均柵距的擴(kuò)展不確定度約為0.347nm,其測(cè)量結(jié)果為(240.078±0.347)nm。
根據(jù)上述分析和計(jì)算結(jié)果,計(jì)量型AFM對(duì)一維標(biāo)準(zhǔn)柵的標(biāo)定達(dá)到了亞納米量級(jí)精度。同時(shí)通過(guò)分析發(fā)現(xiàn),在影響測(cè)量結(jié)果的各個(gè)不確定度分量中,除了試樣均勻性誤差、區(qū)域平均誤差等一維樣板自身具有的誤差外,儀器結(jié)構(gòu)的阿貝誤差、自身的非線性誤差、穩(wěn)頻誤差和分辨率、測(cè)量過(guò)程中的安裝誤差和環(huán)境變化等,都是不可忽略的影響測(cè)量不確定度的因素。另外,在進(jìn)行納米量級(jí)測(cè)量時(shí),一些常規(guī)測(cè)量中可以忽略的誤差,如光路變化誤差、準(zhǔn)直誤差等二次誤差,也需要充分考慮。
在對(duì)輕敲模式計(jì)量型原子力顯微鏡及一維基準(zhǔn)柵結(jié)構(gòu)和特性充分了解的基礎(chǔ)上,用計(jì)量型AFM對(duì)一維基準(zhǔn)柵的特征參數(shù)平均柵距進(jìn)行了測(cè)量。通過(guò)對(duì)AFM結(jié)構(gòu)和特性參數(shù)、一維基準(zhǔn)柵特性和參數(shù)、測(cè)量過(guò)程參數(shù)、數(shù)據(jù)處理方法的全面分析,給出了基準(zhǔn)柵的平均柵距及測(cè)量不確定度分析和估計(jì),擴(kuò)展不確定度達(dá)到0.347nm(擴(kuò)展因子k=1.96)。本文測(cè)量和分析表明,測(cè)量不確定度的確定,不僅需要充分了解測(cè)量?jī)x器的結(jié)構(gòu)和參數(shù),而且需要充分了解測(cè)量過(guò)程中各種參數(shù)對(duì)測(cè)量不確定度的影響;而對(duì)于納米量級(jí)測(cè)量,常規(guī)測(cè)量過(guò)程中一些可以忽略的二次誤差也需要考慮。
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