王娟,丁毅,尹明勇,馬立群
(南京工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,江蘇 南京 210009)
【輕金屬表面精飾】
鎂合金化學(xué)鍍鎳前植酸活化工藝
王娟,丁毅*,尹明勇,馬立群
(南京工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,江蘇 南京 210009)
通過植酸活化可提高AZ31鎂合金化學(xué)鍍層的耐蝕性能。采用正交試驗優(yōu)化植酸活化工藝,利用金相顯微鏡觀察了植酸膜的微觀形貌,測定了植酸膜在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5%的NaCl溶液中的極化曲線及在化學(xué)鍍鎳液中的開路電位。結(jié)果表明,當(dāng)植酸質(zhì)量濃度為20 g/L、溫度為50 °C、pH = 8時處理25 min,植酸膜具有良好的耐蝕性能,并且能夠作為化學(xué)鍍的活化層。
鎂合金;植酸;活化;化學(xué)鍍鎳;耐蝕性
鎂及其合金作為“超輕合金”,具有良好的比強(qiáng)度、比剛度、比彈性模量以及良好的阻尼性能、鑄造性能等優(yōu)點,廣泛應(yīng)用于航空、機(jī)械、交通、軍事、計算機(jī)等各大領(lǐng)域[1-3]。鎂及其合金化學(xué)性質(zhì)活潑,耐蝕性能差,限制了其推廣應(yīng)用。因此提高鎂合金的耐蝕性是擴(kuò)大鎂合金應(yīng)用的關(guān)鍵,其中化學(xué)鍍是比較常用的方法[4-5]。鎂合金化學(xué)鍍預(yù)處理是非常重要的,從以往的研究可以知道,預(yù)處理對鎂合金化學(xué)鍍成功與否起著決定性的作用。不適當(dāng)?shù)念A(yù)處理會引起鍍層外觀變差、結(jié)合力降低和孔隙率增加等[6-7]。而預(yù)處理的關(guān)鍵在于活化,本試驗采用植酸進(jìn)行活化處理。植酸處理是一種新的化學(xué)處理方式,在鎂合金上的研究還比較少,只有國內(nèi)少數(shù)學(xué)者進(jìn)行了初步研究。植酸(C6H18O24P6)是一種少見的金屬多齒螯合劑,具有獨特的結(jié)構(gòu),是一種全新的無毒環(huán)保型金屬表面處理劑[8]。
鄭潤芬等[9]對AZ91D鎂合金植酸膜的組成以及耐蝕性進(jìn)行了研究,同時提出了植酸膜成膜機(jī)理。崔秀芳等[10]發(fā)現(xiàn),溶液pH = 8時,植酸膜生長速度最快、完整性最好、致密度最高,且其耐蝕性最好。張華云等[11]對傳統(tǒng)的鉻酸鹽、磷酸鹽及植酸鹽體系分別進(jìn)行了研究,發(fā)現(xiàn)經(jīng)植酸處理后,膜層的電化學(xué)性能得到顯著改善,腐蝕速率降低。陳東初等[12]通過正交試驗對鎂合金植酸處理工藝進(jìn)行了優(yōu)化,結(jié)果表明,影響植酸膜耐腐蝕性能的工藝因素排序為:處理時間 > 溫度 > 濃度 > 溶液pH。
本實驗擬通過正交試驗對 AZ31鎂合金先進(jìn)行植酸活化處理,再進(jìn)行化學(xué)鍍,以提高鎂合金耐蝕性能。正交試驗分兩種體系:弱酸性植酸活化以及中性、弱堿性植酸活化。
2. 1 試驗材料
試驗所使用的AZ31鎂合金薄板主要化學(xué)成分為:Al 3.30%、Zn 0.83%、Mn 0.4%、Ca ≤0.04%、Si ≤0.03%,余量為Mg。試樣統(tǒng)一加工成規(guī)格為60 mm × 30 mm × 0.5 mm(原始厚度)的薄片,用500# SiC水磨砂紙拋光邊角、去離子水清洗、干燥以供試驗。
2. 2 工藝流程
超聲清洗─堿洗─酸洗─植酸活化處理─化學(xué)鍍(各個步驟間用蒸餾水沖洗干凈)。
2. 2. 1 超聲清洗
CH3CH2OH,室溫,10 min。
2. 2. 2 堿洗
Na2HPO4·12H2O 25 g/L,Na4P2O7·10H2O 20 g/L,Na2CO315 g/L,室溫,10 min。
2. 2. 3 酸洗
H3PO4300 mL/L,HF(w = 40%)100 mL/L,室溫,5 min。
2. 2. 4 植酸活化
分別以弱酸性體系及中性、弱堿性體系植酸活化工藝進(jìn)行L9(34)正交試驗,因素及水平見表1,pH以氨水調(diào)節(jié)。
表1 植酸活化正交試驗因素和水平Table 1 Orthogonal testing factors and their levels of phytic acid activation
2. 2. 5 化學(xué)鍍液
NiSO4·6H2O 20 g/L,NaH2PO2·H2O 25 g/L、C6H5O7Na3·2H2O 25 g/L、Na4P2O7·10H2O 15 g/L、CH3COONa 15 g/L、NH4HF210 g/L、CH4N2S 0.5 mg/L、C12H25SO4Na 1 mg/L,pH = 7 ~ 8(以氨水調(diào)節(jié)),溫度70 °C。
2. 3 植酸膜及化學(xué)鍍鎳層性能檢測
2. 3. 1 表面微觀形貌及化學(xué)成分分析
利用XJZ-1A型金相顯微鏡及JSM-5610LV型能譜儀分析植酸膜及化學(xué)鍍層的微觀形貌及成分。
2. 3. 2 電化學(xué)性能分析
采用CHI660B型電化學(xué)工作站進(jìn)行極化曲線及開路電位測試,腐蝕介質(zhì)分別為NaCl(w = 3.5 %)中性溶液及70 °C化學(xué)鍍液,參比電極為銀/氯化銀(Ag/AgCl)電極,輔助電極為石墨。
2. 3. 3 全浸蝕試驗
按照J(rèn)B/T 6073–1992《金屬覆蓋層 實驗室全浸腐蝕試驗》對經(jīng)植酸活化的試樣進(jìn)行全浸蝕試驗,腐蝕介質(zhì)為基礎(chǔ)化學(xué)鍍液。每1 cm2試樣面積所用介質(zhì)體積為20 mL,試驗溫度為室溫,試樣暴露面積約為50 mm × 20 mm,平行試樣3塊。試樣浸入腐蝕溶液中開始計時,以出現(xiàn)第一個腐蝕斑點的時間作為試樣的全浸蝕試驗的腐蝕時間,時間越長代表著耐腐蝕性能越好。
3. 1 正交試驗結(jié)果分析
不同體系植酸活化正交試驗結(jié)果直觀分析見表2。在弱酸性植酸活化體系中,通過極差分析可知影響因素的重要性排序為:pH > 濃度 > 時間 > 溫度。這說明植酸處理液在弱酸性條件下,pH直接影響植酸在鎂合金表面的化學(xué)吸附,從而對植酸成膜影響最大,溶液溫度對植酸成膜影響最小。由弱酸性植酸活化正交試驗得到的最優(yōu)配方為A1B1C2D3,即植酸10 g/L、溫度25 °C、時間20 min、pH = 6,將其標(biāo)記為配方I。鎂合金試樣經(jīng)配方I處理后,全浸蝕試驗時間為350 min。
表2 不同植酸活化正交試驗結(jié)果直觀分析表Table 2 Result of orthogonal testing for different phytic acid activation processes
在中性、弱堿性植酸活化體系中,通過極差分析可知影響因素的重要性排序為:濃度 > 時間 > 溫度 >pH。由中性、弱堿性植酸活化正交試驗得到的最優(yōu)配方為A3B3C3D2,即植酸 20 g/L、溫度50 °C、時間25 min、pH = 8,將其標(biāo)記為配方II。鎂合金試樣經(jīng)配方II處理后,全浸蝕試驗時間為415 min??梢?,在弱堿性條件下形成的植酸膜耐腐蝕性能比較好。可能是由于在弱堿性條件下,更適合植酸溶液中的配位原子和鎂離子進(jìn)行螯合,更容易成膜。
3. 2 植酸膜的表面形貌及成分
圖1是不同植酸活化處理后鎂合金試樣的微觀形貌。
圖1 不同植酸活化試樣的微觀形貌Figure 1 Micro-morphologies of samples treated by different phytic acid activation processes
肉眼觀察,圖1a表面呈灰黑色,金相圖顯示膜層較均一,表面出現(xiàn)龜裂紋。產(chǎn)生裂紋的原因很多,其中原因之一可能是膜層薄、機(jī)械強(qiáng)度差,在干燥過程中收縮產(chǎn)生裂紋[13]。圖1b的表面略帶粉色,龜裂紋和圖1a相比相對細(xì)小,但數(shù)量眾多。由于全浸蝕試驗中圖1b比圖1a浸泡時間長,因此可推測,圖1b中裂紋雖多,但裂紋的開裂程度較小,裂紋較窄且較淺。植酸中的磷酸基與鎂合金表面的鎂離子配位形成穩(wěn)定的螯合物[14],因此膜中P元素的含量可以間接反映植酸和鎂合金的螯合程度。圖1a中wP= 3.46%,wO= 7.50%,圖1b中wP= 4.22%,wO= 8.95%。由此可見,在弱堿性條件下,植酸在鎂合金表面形成的螯合物更多。
3. 3 植酸膜的極化曲線
圖 2是不同植酸活化處理后植酸膜在3.5%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))NaCl溶液中的極化曲線,對應(yīng)的腐蝕電位及腐蝕電流密度如表3所示。
圖2 不同植酸活化試樣在3.5% NaCl溶液中的極化曲線Figure 2 Polarization curves for samples in 3.5% NaCl solution after pretreatment by different phytic acid activation processes
表3 不同試樣的腐蝕電位及腐蝕電流密度Table 3 Corrosion potentials and current densities of different samples
不同植酸處理后,腐蝕電流密度相差不大,但是植酸膜II的腐蝕電位最高,即配方II處理后形成的植酸膜的腐蝕傾向最小。
3. 4 植酸膜的開路電位
圖3為不同植酸活化處理后在70 °C化學(xué)鍍鎳液中的開路電位 φoc,這是一個鎳–磷鍍層沉積的過程。電位達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)所對應(yīng)的是 AZ31電極表面被化學(xué)鍍鎳–磷層完全覆蓋。植酸膜I的開路電位先快速上升后緩慢下降,最后在1 000 s左右達(dá)到平穩(wěn)狀態(tài),平穩(wěn)態(tài)電位仍有小幅度的變化,說明電極表面電位不穩(wěn)定,極有可能是小部分基體未被鍍層完全覆蓋。植酸膜 II的開路電位先上升,之后在大概750 s左右趨于平穩(wěn)狀態(tài),并且穩(wěn)定后的電位略大于植酸膜I。由此可見,經(jīng)過配方II活化處理后,表面能夠迅速達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài),化學(xué)鍍層沉積較塊,并且所得鍍層在熱力學(xué)上更加穩(wěn)定。
圖3 不同植酸活化試樣在化學(xué)鍍鎳液中的開路電位Figure 3 Open circuit potential of samples in electroless nickel solution after pretreatment by different phytic acid activation processes
3. 5 植酸活化處理后化學(xué)鍍鍍層的表面形貌及成分
圖 4是不同植酸活化處理后化學(xué)鍍鍍層的表面微觀形貌。
圖4 不同植酸活化后所得化學(xué)鍍鎳層的微觀形貌Figure 4 Micro-morphologies of electroless nickel coatings obtained after pretreatment by different phytic acid activation processes
圖 4a中的鍍層胞狀組織明顯粗大,其中 wNi= 92.91%,wP= 7.09%;圖4b中胞狀組織相對細(xì)小,其中wNi= 89.13%,wP= 10.87%。結(jié)合圖3中植酸膜II鍍層沉積較快可推測,經(jīng)過配方II處理后,鎂合金表面形成的螯合物較多,而這層螯合物充當(dāng)了化學(xué)鍍反應(yīng)發(fā)生的活性點,活性點較多的情況下,形成較多的形核中心,在鎳–磷合金形成、長大的過程中,得到的組織較均勻細(xì)致。反之,螯合物較少,反應(yīng)活性點少,形核中心少,直接導(dǎo)致個別的形核中心長大迅速,最后的胞狀組織較大。
3. 6 化學(xué)鍍鎳層極化曲線測試結(jié)果分析
圖5是不同植酸活化后化學(xué)鍍鎳層在3.5% NaCl溶液中的極化曲線。
圖5 不同植酸活化后所得化學(xué)鍍鎳層在3.5% NaCl溶液中的極化曲線Figure 5 Polarization curves in 3.5% NaCl solution for electroless nickel coatings obtained after pretreatment by different phytic acid activation processes
由圖 5可知,植酸膜 I、II的腐蝕電位分別為?0.404 V和?0.395 V,腐蝕電流密度分別為4.993 × 10?6A/cm2和5.021 × 10?6A/cm2。相對于鎂合金基體,2種鍍層的腐蝕電位提高了近1.2 V,腐蝕電流密度下降了一個數(shù)量級,鎂合金的耐蝕性能提高。植酸膜I、II的腐蝕電位及腐蝕電流密度相差不大,但可以明顯看出植酸膜II的鈍化區(qū)間比植酸膜I大。另外,2條曲線都存在二次鈍化區(qū)間。
(1) 相同工藝條件下,弱堿性植酸溶液更容易在鎂合金表面形成螯合物,形成的植酸膜具有一定的耐蝕性能,同時是優(yōu)良的化學(xué)鍍活化層。
(2) 植酸處理后,鎂合金耐蝕性能顯著提高。
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Phytic acid activation prior to electroless nickel plating on magnesium allo y //
WANG Juan, DING Yi*, YIN Ming-yong, MA Li-qun
The corrosion resistance of AZ31 magnesium alloy can be improved by phytic acid activation. The phytic acid activation process was optimized through orthogonal test. The micro-morphology of phytic acid coating was observed by metallographic microscope, and its polarization curve in 3.5wt% NaCl solution and open circuit potential in electroless nickel plating bath were measured. The results showed that the phytic acid coating obtained with phytic acid 20 g/L at 50 °C and pH 8 for 25 min has good corrosion resistance and can be used as an activated layer for electroless nickel plating.
magnesium alloy; phytic acid; activation; electroless nickel plating; corrosion resistance
College of Materials Science and Engineering, Nanjing University of Technology, Nanjing 21009, China
TQ153.12
A
1004 – 227X (2012) 08 – 0025 – 04
2012–02–29
2012–03–22
王娟(1987–),女,江蘇高郵人,碩士研究生,主要研究方向為耐蝕金屬材料、金屬材料保護(hù)。
丁毅,副教授,(E-mail) dingyi1107@163.com。
[ 編輯:吳杰 ]